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1. 发明公开

KR1020040004993A 반도체소자 제조설비의 홀딩장치 无效
标题翻译：用于制造半导体器件的设备的控制装置
公开(公告)号：KR1020040004993A
公开(公告)日：2004-01-16
申请号：KR1020020039250
申请日：2002-07-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이신열 , 김성혁
IPC分类号： H01L21/68
摘要： PURPOSE: A holding apparatus of equipment for fabricating a semiconductor device is provided to prevent a wafer from being separated and avoid damage to the wafer by preventing a malfunction of a driver part and other parts wherein the wafer is normally held and by inspecting whether the operation position of holders connected to the driver part is correct. CONSTITUTION: The inside of a body part(12) is divided. Two rotation axes(14a,14b) are of a bar type, penetrating the body part in parallel with each other and supported in such a way to rotate in opposite directions. The holders(16a,16b) selectively press to hold both sides of the wafer disposed according to the rotation of the rotation axes, fixed to an extended portion of the rotation axes. The driver part(18) supplies rotation force to the rotation axes according to an applied control signal, connected to both rotation axes. A detection unit detects the variation of a rotation angle of both rotation axes. A control unit receives a detected signal from the detection unit to determine an interval between the holders and controls driving of each constitution part including the driver part.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造半导体器件的设备的保持装置，以防止晶片被分离，并且通过防止驱动器部件和正常保持晶片的其它部件的故障，并且通过检查是否操作连接到驱动器部件的支架的位置是正确的。构成：身体部位（12）的内部被分开。两个旋转轴线（14a，14b）是棒状的，穿过主体部分彼此平行并且以相反方向旋转的方式支撑。选择性地按压保持器（16a，16b）以将固定在旋转轴的延伸部分上的旋转轴线的旋转保持设置的晶片的两侧。驱动器部件（18）根据连接到两个旋转轴的施加的控制信号向旋转轴提供旋转力。检测单元检测两个旋转轴的旋转角度的变化。控制单元从检测单元接收检测信号以确定保持器之间的间隔并控制包括驱动器部分的每个构成部分的驱动。

2. 发明公开

KR1020040089151A 반도체 소자 제조에 사용되는 캐리어 박스 无效
标题翻译：用于制造半导体器件的载体盒，以减少颗粒污染的污染
公开(公告)号：KR1020040089151A
公开(公告)日：2004-10-21
申请号：KR1020030022765
申请日：2003-04-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 남주현 , 이신열 , 최기룡
IPC分类号： H01L21/68
摘要： PURPOSE: A carrier box for fabricating a semiconductor device is provided to discharge particles to exhaust holes and reduce contamination of a wafer due to the particles by forming a plurality of embossing patterns on a bottom face of a carrier box and forming a plurality of exhaust holes thereon. CONSTITUTION: A main body(120) is used for storing a carrier. A cover(140) is used for opening or shutting an upper part of the main body. A plurality of exhaust holes(126) are used for discharging the particles generated from the inside of the main body. The exhaust holes are formed on a bottom face of the main body. A plurality of embossing patterns are formed on a bottom face of the carrier box.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造半导体器件的载体盒，用于将颗粒排放到排气孔，并通过在载体箱的底面上形成多个压花图案来减少由于颗粒而导致的晶片污染，并形成多个排气孔在其上。构成：主体（120）用于存放承运人。盖（140）用于打开或关闭主体的上部。多个排气孔（126）用于排出从主体内部产生的颗粒。排气孔形成在主体的底面上。在承载箱的底面形成有多个压花图案。

3. 发明公开

KR1020060107654A 반도체 웨이퍼 세정장치 无效
标题翻译：半导体滤波器的清洁装置
公开(公告)号：KR1020060107654A
公开(公告)日：2006-10-16
申请号：KR1020050029884
申请日：2005-04-11
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이신열
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67057 , H01L21/67706
摘要： 본 발명은 반도체 웨이퍼 세정장치에 관한 것이다. 본 발명에서는, 척 클리닝 배스의 구성을 QDR 배스 형식으로 구현하고 로드암에 의해 상기 QDR 배스로 웨이퍼가 이동되도록 함으로써, HS1 및 HS2 배스를 담당하는 로봇암에 대한 척 클리닝 과정을 스킵할 수 있도록 한다. 그 결과, 척 클리닝에 소요되는 시간이 절약되어 설비 전체의 캐패시터가 보다 향상된다.
반도체, 척, 웨이퍼, QDR, 배스

4. 发明公开

KR1020030004595A 화합물 혼합 공급장치 无效
标题翻译：混合和供应化合物的装置
公开(公告)号：KR1020030004595A
公开(公告)日：2003-01-15
申请号：KR1020010040126
申请日：2001-07-05
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 황태호 , 조모현 , 이신열
IPC分类号： H01L21/00
摘要： PURPOSE: An apparatus for mixing and supplying compounds is provided to mix correctly two or more kinds of compounds according to a predetermined ratio and supply rapidly the mixed compounds. CONSTITUTION: The first compound supply source(100) is used for supplying the first compound. The first supply tube(110) is extended from the first compound supply source(100). The second compound supply source(200) is used for supplying the second compound. The second supply tube(210) is extended from the second compound supply source(200). The first and the second compound supply sources(100,200) have opening/shutting valves(170,270), respectively. The first flux control portion has the first flux sensor(120) and the first control valve(130). The second flux control portion has the second flux sensor(220) and the second control valve(230). The first storage tank(140) is installed at an end portion of the first supply tube(110). The second storage tank(240) is installed at an end portion of the second supply tube(210). The first exhaust tube(150) is installed at a lower portion of the first storage tank(140). The first exhaust valve(160) is installed at the first exhaust tube(150). The second exhaust tube(250) is installed at a lower portion of the second storage tank(240). The second exhaust valve(260) is installed at the second exhaust tube(150). A mixing tank(300) is installed at outlet sides of the first and the second exhaust tubes(150,250).
摘要翻译：目的：提供混合和供应化合物的装置，以按预定比例正确混合两种或更多种化合物，并迅速提供混合化合物。构成：第一化合物源（100）用于供应第一化合物。第一供应管（110）从第一化合物供应源（100）延伸。第二化合物供应源（200）用于供应第二化合物。第二供应管（210）从第二化合物供应源（200）延伸。第一和第二复合供应源（100,200）分别具有打开/关闭阀（170,270）。第一通量控制部分具有第一通量传感器（120）和第一控制阀（130）。第二通量控制部分具有第二通量传感器（220）和第二控制阀（230）。第一储存罐（140）安装在第一供给管（110）的端部。第二储罐（240）安装在第二供给管（210）的端部。第一排气管150安装在第一储罐140的下部。第一排气阀（160）安装在第一排气管（150）处。第二排气管250安装在第二储罐240的下部。第二排气阀（260）安装在第二排气管（150）处。混合罐（300）安装在第一和第二排气管（150,250）的出口侧。

5. 发明公开

KR1019990034785A 웨트 스테이션에서의 웨이퍼 처리방법 无效
标题翻译：湿台加湿处理方法
公开(公告)号：KR1019990034785A
公开(公告)日：1999-05-15
申请号：KR1019970056481
申请日：1997-10-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최형철 , 김태균 , 이성우 , 이신열
IPC分类号： H01L21/30
摘要： 본 발명은 웨트 스테이션에서의 웨이퍼 처리방법을 개시한다. 이 방법은 액조를 갖는 웨트 스테이션에서의 웨이퍼 처리방법에 있어서, 웨이퍼 카셋트 내에 적어도 한 장 이상의 반도체 웨이퍼를 담는 단계와, 적어도 한 장 이상의 웨이퍼를 각각 수평상태로 담을 수 있는 액조용 캐리어에 웨이퍼 카셋트 내에 담긴 웨이퍼를 전송시키는 단계와, 수평상태로 전송된 웨이퍼가 담긴 액조용 캐리어를 액조에 투입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

6. 发明公开

KR1020050075874A 웨이퍼 트랜스퍼 로봇의 동작을 개선한 스핀 스크러버 설비 无效
标题翻译：包括有改进运动的转移机器人的旋转设备
公开(公告)号：KR1020050075874A
公开(公告)日：2005-07-25
申请号：KR1020040003240
申请日：2004-01-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 남주현 , 이신열 , 임현우 , 황태하
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67046 , B08B3/12 , H01L21/67051 , H01L21/67778
摘要： 구조가 단순하고 생산성이 향상된 스핀 스크러버 설비에 대하여 개시한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 스핀 스크러버 설비는 인덱스 암 유닛, 웨이퍼 반송 유닛, 3개의 웨이퍼 세정 유닛 및 유틸리티 기능을 하는 보조 유닛을 구비하는데, 웨이퍼 세정 유닛은 웨이퍼 트랜스퍼 로봇이 고정되어 있는 위치로부터 동일한 거리만큼 떨어져서 일측면 및 상하 방향에 위치하고 있으며, 웨이퍼 트랜스퍼 로봇은 회전 동작 및 상하로 움직이는 동작만 가능하다.

7. 发明公开

KR1020010035560A 웨이퍼 카세트 无效
标题翻译： WAFER CASSETTE
公开(公告)号：KR1020010035560A
公开(公告)日：2001-05-07
申请号：KR1019990042192
申请日：1999-10-01
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이신열
IPC分类号： H01L21/68
摘要： PURPOSE: A wafer cassette is provided to prevent a slot miss effect from the insertion of a wafer into a slot of a cassette by changing a shape of a wafer cassette. CONSTITUTION: A wafer separation plate(13') is formed at an inside of a sidewall of a wafer cassette(11). The wafer separation plate(13') is formed by enlarging a width of an entrance part for inserting a wafer(10) in order not insert the wafer(10) to other slots. A width of an exit part of the wafer separation plate(13') is reduced in order not to contact the wafer separation plate(13') with the wafer(10) when the wafer(10) is inserted therein. A sectional face of the wafer separation plate(13') is formed with a wedge shape. The wafer separation plate(13') is narrowed toward its end part.
摘要翻译：目的：提供晶片盒以防止通过改变晶片盒的形状将晶片插入盒的槽中而产生槽缺失效应。构成：在晶片盒（11）的侧壁的内侧形成有晶圆分离板（13'）。通过放大用于插入晶片（10）的入口部分的宽度来形成晶片分离板（13'），以便不将晶片（10）插入其它槽。当晶片（10）插入其中时，晶片分离板（13'）的出口部分的宽度被减小以便不与晶片（10）接触晶片分离板（13'）。晶片分离板（13'）的截面形成为楔形。晶片分离板（13'）朝其端部变窄。

8. 发明公开

KR1019990035444A 반도체 장치 제조용 습식 세정 장치 无效
标题翻译：用于半导体器件制造的湿式清洁装置
公开(公告)号：KR1019990035444A
公开(公告)日：1999-05-15
申请号：KR1019970057246
申请日：1997-10-31
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이신열 , 최형철
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 순수를 오버 플로우(over flow)시켜 반도체 기판 상의 화학제(chemical)를 린스(rinse)하는 공정에 이용되는 습식 세정 장치에 관해 개시한다. 본 발명은, 반응조(bath)와, 반응조 내의 반도체 기판의 존재 유무를 감지하는 광센서부(photo sensor part) 및 광센서부를 반응조의 외측벽에 부착시키는 부착 수단을 포함한다. 이때, 부착 수단은 광센서부가 끼워지는 석영 파이프(quartz pipe)로 이루어지며, 광센서부를 반응조의 외측벽에 고정시키며, 광센서부가 끼워지는 입구에 인접하는 파이프의 외측벽에 테두리진 흐름 방지턱을 가진다. 또한, 흐름 방지턱은 파이프에 끼워져 몰딩(molding)된 석영 링(quartz ring)으로 형성된다.

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