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1. 发明公开

KR1020060129880A 반도체 소자용 제조설비 无效
标题翻译：半导体制造设备
公开(公告)号：KR1020060129880A
公开(公告)日：2006-12-18
申请号：KR1020050050589
申请日：2005-06-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조모현
IPC分类号： H01L21/304
摘要： An apparatus of fabricating a semiconductor device is provided to prevent a wafer from being badly dried due to moisture by installing a moisture detecting sensor which detects moisture contained in an isopropyl alcohol steam. An apparatus comprises a chamber(400), a container(200) for storing an isopropyl alcohol solution, a vapor supply tube connecting the container with the chamber, a nitrogen gas supply unit connected to the container, and a liquid separating container(520) installed in the vapor supply tube. The liquid separating container has a moisture detecting sensor(510) on a bottom surface of the liquid separating container.
摘要翻译：提供制造半导体器件的装置，以通过安装检测异丙醇蒸汽中含有的水分的水分检测传感器来防止晶片由于水分而被严重干燥。一种装置，包括：室（400），用于储存异丙醇溶液的容器（200），将容器与室连接的蒸汽供应管，连接到容器的氮气供应单元和液体分离容器（520）安装在蒸气供应管中。液体分离容器在液体分离容器的底面上具有水分检测传感器（510）。

2. 发明公开

KR1020000051205A 습식 세정장치 无效
标题翻译：湿清洁装置
公开(公告)号：KR1020000051205A
公开(公告)日：2000-08-16
申请号：KR1019990001505
申请日：1999-01-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박재상 , 조모현 , 김태준
IPC分类号： H01L21/304
摘要： PURPOSE: A wet cleaning device is provided by installing the overload outlet pipe (tube) of a fixed tank to a chemical collection tank, and then by recovering the chemicals in the collecting tank to the fixed tank. CONSTITUTION: A wet cleaning device consists of: a storage tank to store the chemicals for cleaning; a quantitative tank storing temporally the fixed quantity chemicals flowing in through an air valve from the storage tank; a cleaning bath to store the chemicals exhausted through the air valve of the outlet pipe from the quantitative tank; the 1st, 2nd, and 3rd sensors which sense the chemicals to flow in up to a stop level, a lower level, and an upper level; the overload outlet pipe exhausting the chemicals which pass the stop level; a recovering line unit to recover the exhausted chemicals to the quantitative tank; and a controlling part to control the pumps, the inlet air valve, and the outlet air valve according to the results of sensors.
摘要翻译：目的：通过将固定罐的过载出水管（管）安装到化学品收集箱，然后通过将收集罐中的化学物质回收到固定罐来提供湿式清洁装置。构成：湿式清洁装置包括：储存储存化学品进行清洁的储存罐; 定量罐，其临时存储通过空气阀从储罐流入的固定数量的化学品; 用于储存通过出口管的空气阀从定量罐排出的化学品的清洗浴; 第一，第二和第三传感器，其感测化学品流入停止水平，较低水平和上部水平; 过载出口管排出通过停止水平的化学品; 用于将排出的化学品回收到定量罐的回收管线单元; 以及根据传感器的结果控制泵，进气阀和出气阀的控制部件。

3. 发明公开

KR1020060092005A 진동 감지부를 구비한 웨이퍼 스핀장치 및 그 제어방법 无效
标题翻译：包含振动传感器的转子旋转装置及其控制方法
公开(公告)号：KR1020060092005A
公开(公告)日：2006-08-22
申请号：KR1020050013279
申请日：2005-02-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조모현
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/162 , G03F7/709 , H01L21/6715 , H01L22/12
摘要： 개시된 웨이퍼 스핀장치는, 바디 프레임에 설치되고, 스핀 모터에 의하여 웨이퍼를 회전시키는 스핀부와, 스핀부의 회전 시 발생하는 진동을 감지하여 진동을 주파수 파형으로 변환하는 진동 감지부 및 주파수의 파형에 따라 스핀부의 회전을 제어하는 제어부를 구비하고, 웨이퍼 스핀장치의 제어방법은 웨이퍼가 안착된 스핀부의 회전 시 발생하는 진동을 감지하는 단계와, 감지된 진동을 주파수 파형으로 변환하는 단계 및 주파수 파형이 미리 설정된 값의 허용범위를 넘는 경우 스핀부의 회전을 제어하는 단계를 포함하며, 이와 같은 구성의 웨이퍼 스핀장치 및 그 제어방법에 의하면, 웨이퍼가 안착되어 회전하는 스핀부에 진동이 발생하는 경우 진동 감지부가 이를 감지하여 스핀부의 회전을 제어함으로서 진동에 의한 웨이퍼의 파손을 방지할 수 � �는 효과를 제공할 수 있다.
웨이퍼, 스핀장치

4. 发明公开

KR1020060053066A 웨이퍼 이송장치 无效
公开(公告)号：KR1020060053066A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020040092849
申请日：2004-11-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 양희만 , 허동철 , 조모현 , 김태환 , 이병추
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/6773 , H01L21/67265 , H01L21/67313
摘要： 본 발명은 푸셔 어셈블리의 내측에 디텍팅장치가 설치된 웨이퍼 이송장치에 관한 것으로, 푸셔 어셈블리와 푸셔 어셈블리의 내측에 설치되는 이동레일과 이동레일 상에 설치되어 슬롯에 안착되는 웨이퍼의 안착 미스를 감지하는 디텍팅장치 및 디텍킹장치를 이동레일 상에서 움직일 수 있도록 동력을 전달하는 모터를 포함하며, 디텍팅장치가 푸셔 어셈블리의 내측에 설치됨으로써 이송장치의 상단에서 불어오는 기류로 인해 웨이퍼가 흔들려 발생되는 디텍팅장치의 오동작을 방지한다.

푸셔, 디텍팅, 센서

5. 发明授权

KR100564582B1 전자 소자 기판의 표면 처리 장치 및 이를 이용한 표면처리 방법 失效
标题翻译：电子器件基板表面处理装置及其表面处理方法
公开(公告)号：KR100564582B1
公开(公告)日：2006-03-29
申请号：KR1020030075573
申请日：2003-10-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박기환 , 송종국 , 조모현 , 조성호 , 이선재 , 임평호 , 조동욱
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02052 , H01L21/67028 , Y10S134/902
摘要： 본 발명에 따른 장치는 피건조 기판의 표면을 처리하기 위한 공정 챔버, 공정 챔버로 건조 증기의 유체 흐름이 가능하도록 커플링된 건조 증기 생성 챔버, 건조 증기 생성 챔버에 커플링되어 상기 건조 증기 생성 챔버로부터 상기 공정 챔버로 상기 건조 증기의 유체 흐름이 일어나도록 하는 캐리어 가스 라인, 상기 공정 챔버로 유체 흐름이 가능하도록 커플링되고 상기 캐리어 가스 라인과 독립적으로 유량이 조절되는 불활성 가스 라인을 포함하여 결함이 발생하지 않는 표면 처리 방법을 실시할 수 있다.
세정, 건조, IPA, DIW, 겔성 결함, 파티클

6. 发明公开

KR1020070119333A 반도체 세정 장치의 노즐 어셈블리 无效
标题翻译：清洁装置的喷嘴组件
公开(公告)号：KR1020070119333A
公开(公告)日：2007-12-20
申请号：KR1020060053835
申请日：2006-06-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조모현
IPC分类号： H01L21/304
摘要： A nozzle assembly of a semiconductor cleaning apparatus is provided to improve the cleaning efficiency of a semiconductor substrate by modifying the injection angle of an injection nozzle for injecting a cleaning solution to a semiconductor substrate. A nozzle part injects a cleaning solution to a semiconductor substrate(1). The nozzle part is supported by a support rod(101). An injection angle adjusting part selectively modifies the injection angle of the nozzle part, couples the nozzle part to the support rod and includes first and second injection angle adjusting members(110,120). The first injection angle adjusting member is detachably coupled to the support rod, capable of rotating selectively along a first rotation direction in which the support rod is used as a rotation axis. The second injection angle adjusting member is hinge-coupled to the lower part of the first injection angle adjusting member, capable of rotating selectively along a second rotation direction in which a direction substantially perpendicular to the support rod is used as a rotation axis.
摘要翻译：提供一种半导体清洁装置的喷嘴组件，用于通过改变用于将清洗溶液注入到半导体衬底的注射喷嘴的喷射角来提高半导体衬底的清洁效率。喷嘴部将清洗液注入半导体基板（1）。喷嘴部分由支撑杆（101）支撑。喷射角调节部选择性地改变喷嘴部分的喷射角度，将喷嘴部分连接到支撑杆并且包括第一和第二喷射角度调节部件（110,120）。第一注入角度调节构件可拆卸地联接到支撑杆，能够沿着支撑杆用作旋转轴线的第一旋转方向选择性地旋转。第二喷射角调节构件铰链连接到第一喷射角度调节构件的下部，能够沿着基本上垂直于支撑杆的方向作为旋转轴线的第二旋转方向选择性地旋转。

7. 发明授权

KR100689664B1 웨이퍼 세정 장치 失效
标题翻译： 웨이퍼세정장치
公开(公告)号：KR100689664B1
公开(公告)日：2007-03-08
申请号：KR1020050083285
申请日：2005-09-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조모현 , 허동철 , 이덕열 , 김태환 , 김태완
IPC分类号： H01L21/304
摘要： An apparatus for cleaning a wafer is provided to prevent a used cleaning solution from being fed back to the surface of a wafer by ascending air current caused by vortex generated by rotation of a rotation chuck by including a protrusion part with a slope from the lateral surface of the rotation chuck and by having a blocking part extended from a guide for avoiding scattering of a cleaning solution. A rotation chuck(110) supports and rotates a wafer(W). A cleaning solution supplying part supplies a cleaning solution to the wafer. A bowl(160) surrounds the rotation chuck, separated from the rotation chuck. A protrusion part(120) is formed in the circumferential direction of the rotation chuck to avoid ascending air current caused by vortex generated between the rotation chuck and the bowl by rotation of the rotation chuck, having a first slope(121) and a second slope(122). The first slope is tilted outward and downward from the upper surface of the rotation chuck. The second slope is tilted outward and upward from the lower surface of the rotation chuck. The area of the first slope is not greater than that of the second slope.
摘要翻译：提供了一种用于清洁晶片的设备，以通过从侧表面包括具有斜面的突出部分来防止已用清洁溶液通过由旋转卡盘的旋转产生的旋涡引起的上升气流而被反馈回晶片的表面并且通过具有从导向件延伸的阻挡部分来避免清洁溶液的散射。旋转卡盘（110）支撑并旋转晶片（W）。清洁溶液供应部件向晶片供应清洁溶液。碗（160）围绕旋转卡盘，与旋转卡盘分离。在旋转卡盘的圆周方向上形成有突出部（120），以避免由于旋转卡盘的旋转而在旋转卡盘和转筒之间产生的涡流引起的上升气流，所述旋转卡盘具有第一斜面（121）和第二斜面（122）。第一斜面从旋转卡盘的上表面向外并向下倾斜。第二斜面从旋转卡盘的下表面向外并向上倾斜。第一斜坡的面积不大于第二斜坡的面积。

8. 发明公开

KR1020060040432A 복수의 기판을 이송하기 위한 반도체 제조용 기판 이송 장치 无效
标题翻译：用于传输多个基板的半导体制造设备
公开(公告)号：KR1020060040432A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：KR1020040090027
申请日：2004-11-05
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 양희만 , 김태환 , 허동철 , 조모현
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： H01L21/67742 , H01L21/67259 , H01L21/6838 , H01L21/68707
摘要： 본 발명은 복수의 기판을 동시에 이송하기 위한 반도체 제조용 기판 이송 장치에 관한 것으로, 기판을 이송하기 위해 회전 및 수직으로 상하 이동이 가능한 몸체와 상기 몸체에 결합되어 소정거리로 수평이동가능한 아암 및 상기 아암에 결합되어 상기 기판을 지지하여 상기 기판을 이송하는 핸드로 이루어진 반도체 제조용 기판 이송 장치에 있어서, 상기 핸드는 적어도 두개 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다.
기판, 이송장치

9. 发明公开

KR1020000019163A 웨이퍼 슬롯 미스 감지 센서를 구비한 약액처리장치 无效
标题翻译：具有水槽凹陷感测传感器的清洁站
公开(公告)号：KR1020000019163A
公开(公告)日：2000-04-06
申请号：KR1019980037137
申请日：1998-09-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조모현 , 장범수
IPC分类号： H01L21/304
摘要： PURPOSE: A wet clean station having a wafer slot mis-sensing sensor previously senses that the wafer is wrongly loaded, and prevents that a wafer is broken. CONSTITUTION: A wet clean station includes a flat-zone aligned roller(51), a timing belt(53)for driving the roller, a wafer guide having many slots loading the wafer thereon, and a sensor(65) which is mounted to both sides of the wet clean station so as to sense that the wafer is wrongly loaded on the slots. Thereby, the wet clean station prevents that a wafer is broken.
摘要翻译：目的：具有晶片槽误差传感器的湿式清洁站先前感测到晶片错误地装载，并防止晶片破裂。构成：湿式清洁站包括平面对齐辊（51），用于驱动辊的同步带（53），具有多个槽的装载其上的晶片的晶片引导件和安装在两者上的传感器（65）湿清洁站的两侧，以便感测晶片错误地装载在槽上。因此，湿式清洁站防止晶片破裂。

10. 发明授权

KR100782486B1 세정물질 분사유니트 및 이를 갖는 웨이퍼 세정장치 失效
标题翻译：清洁溶液注射装置及其清洗装置
公开(公告)号：KR100782486B1
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：KR1020060078866
申请日：2006-08-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조모현 , 이덕열 , 황경석 , 허동철
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B08B3/024 , H01L21/67051
摘要： A unit for injecting cleaning material and a wafer cleaning apparatus having the unit are provided to completely remove a photoresist residue residing on a wafer after a photoresist strip process by injecting the cleaning material onto the entire wafer with a declined angle. A spin chuck(100) is rotated in a constant speed. A wafer is received on an upper of the spin chuck. A nozzle base(200) is placed on an upper of the spin chuck and rotated in a constant speed. A plurality of nozzles(250) are mounted on the nozzle base along an upper surface of the wafer and have nozzle tips for injecting cleaning material radially onto the wafer. An operation unit tilts the nozzles with a predetermined angle. A central controller selects and rotates one out of the spin chuck and the nozzle base. The injection angle of the cleaning material is progressively increased from the center of the wafer to the edge thereof.
摘要翻译：提供了一种用于注入清洁材料的单元和具有该单元的晶片清洁设备，以便在光致抗蚀剂剥离处理之后通过将清洁材料以下降的角度注入到整个晶片上来完全去除驻留在晶片上的光致抗蚀剂残渣。旋转卡盘（100）以恒定速度旋转。晶片接收在旋转卡盘的上部。喷嘴座（200）放置在旋转卡盘的上部并以恒定的速度旋转。多个喷嘴（250）沿着晶片的上表面安装在喷嘴基座上，并且具有用于将清洁材料径向地注入到晶片上的喷嘴尖端。操作单元以预定角度倾斜喷嘴。中央控制器选择旋转卡盘和喷嘴基座中的一个。清洁材料的注射角度从晶片的中心逐渐增加到其边缘。

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