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1. 发明授权

KR101903975B1 동적 어레이 아키텍쳐에서의 셀 페이징과 배치를 위한 방법 및 그 구현 有权
公开(公告)号：KR101903975B1
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：KR1020177016186
申请日：2009-07-02
申请人： 텔라 이노베이션스, 인코포레이티드
发明人： 콴트조나단알 , 베커스코트티 , 간디드루밀
IPC分类号： H01L27/02
CPC分类号： G06F17/5072 , G06F17/5054 , G06F17/5068 , G06F2217/12 , H01L23/48 , H01L27/0207 , H01L27/11803 , H01L2924/0002 , Y02P90/265 , H01L2924/00
摘要： 제 1 가상그레이트 (grate) 에따라레이아수피쳐들이배치되는제 1 칩레벨과, 제 2 가상그레이트에따라레이아웃피쳐들이배치되는제 2 칩레벨을갖는로직블록영역을포함하도록반도체칩이정의된다. 제 1 및제 2 가상그레이트들사이에유리공간관계가존재한다. 다수의셀들은로직블록영역내에배치된다. 다수의셀들의각각은다수의셀 페이즈들중 적절한하나의셀 페이즈에따라정의된다. 적절한셀 페이즈는소정의배치된셀의제 1 및제 2 칩레벨에서의레이아웃피쳐들이소정의배치된셀 내에위치된제 1 및제 2 가상그레이트들과정렬되게한다.

2. 发明授权

KR101891592B1 기어 이의 가공 방법, 기어 이를 갖는 공작물 및 가공 도구 有权
公开(公告)号：KR101891592B1
公开(公告)日：2018-08-27
申请号：KR1020110056305
申请日：2011-06-10
申请人： 글리슨-파아우터 마쉰넨파브리크 게엠베하
发明人： 하이델만빌프리트 , 부체틱드라간
IPC分类号： B23F9/02 , B23F9/08 , B23F23/06 , B23F23/12
CPC分类号： B23F5/00 , B23F1/02 , Y02P90/265
摘要： 이뿌리면이특정형상에서가공공차만큼벗어난기어이의가공방법으로, 상기가공공차는적어도두 개의인피드단계(j)의인피드를통해제거되며, 각인피드단계는도구축(Y) 둘레를회전하는프로파일도구를가지며가공패스에선행하며, 이러한동작을위해상기도구축(Y)에직교하는도구의회전면이상기기어휠(2)의축(Z)에대해기울어진각도(A)에좌우되는상기기어휠(2)에대한위치를설정한후에, 상기프로파일도구(0)는상기기어이와결합되며, 각인피드단계를거친후 상기도구의 resultant 결합영역의재료는제거되며, 설계각(A)에의해정해지는프로파일도구(0)의설정경사각(A= A)으로마지막인피드단계후에, 도구결합영역은플랭크의전체높이에뻗어있어서, 다음가공패스는특정형상을얻는데요구되는재료의양을제거하게되는, 기어이의가공방법에있어서, 상기마지막인피드단계에앞서일어나는적어도하나의인피드단계에서프로파일도구(0)는, 도구가설계된각도(A)로부터벗어난경사각(A)로설정되며, 설계된각도에서설정되는것과비교하여플랭크높이방향으로확장된도구결합영역이되는것을특징으로하는가공방법.

3. 发明授权

KR101880918B1 컴퓨터 툴 경로 생성 有权
公开(公告)号：KR101880918B1
公开(公告)日：2018-07-23
申请号：KR1020137025618
申请日：2012-02-22
申请人： 솔리드캠 리미티드
发明人： 베르만마이클 , 오소브란스키도론 , 칼데론크리스토퍼매튜 , 칼데론안토니조셉
IPC分类号： G06F19/00
CPC分类号： G05B19/19 , G05B19/041 , G05B19/4093 , G05B2219/34147 , G05B2219/35097 , G05B2219/35106 , G05B2219/35215 , G05B2219/36214 , Y02P90/265 , Y10T83/04 , Y10T408/89
摘要： 워크피스로부터물건을제조하기위해컴퓨터수치제어기계를제어하는명령어를생성하는자동화된컴퓨터구현방법으로서, 회전절단툴과상기워크피스사이의최대허용맞물림각도를선택하는단계, 상기회전절단툴과상기워크피스사이의최소허용맞물림각도를선택하는단계, 상기맞물림각도가상기최대허용맞물림각도와상기최소허용맞물림각도사이에서점차적으로변하는상기워크피스에대한상기툴을위한툴 경로를설정하는단계를포함하는방법이제공된다.

4. 发明公开

KR1020180034673A 컨택트 저항 완화 有权
标题翻译：接触电阻
公开(公告)号：KR1020180034673A
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：KR1020187007736
申请日：2016-09-08
申请人： 암, 리미티드
发明人： 예릭,그레고리먼손
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/5081 , G06F17/5031 , G06F17/5036 , G06F2217/12 , G06F2217/78 , G06F2217/84 , Y02P90/265
摘要： 본원에서설명되는다양한구현예들은컨택트저항을완화시키는시스템들및 방법들에관한것이다. 일구현예에서, 방법은집적회로의셀들에대해동작조건을분석하는것을포함할수 있다. 이방법은집적회로의임계경로를따라타이밍열화를갖는셀들의인스턴스들을선택적으로마킹하는것을포함할수 있다. 이방법은타이밍열화를갖는선택적으로마킹된셀들의인스턴스들에대해컨택트저항을감소시키는것을포함할수 있다.
摘要翻译：本文描述的各种实施方式涉及用于减轻接触电阻的系统和方法。在一个实现中，该方法可以包括分析集成电路的单元的操作条件。该方法可以包括沿着集成电路的关键路径选择性标记具有定时退化的单元的实例。该方法可以包括降低具有定时降级的选择性标记的单元的情况下的接触电阻。

5. 发明公开

KR20180011357A 패턴화된 웨이퍼 기하학적 형상 측정을 사용한 프로세스 유도 비대칭 검출, 정량화, 및 제어 审中-公开
标题翻译：使用图案化晶圆几何测量的过程诱导不对称检测，量化和控制
公开(公告)号：KR20180011357A
公开(公告)日：2018-01-31
申请号：KR20187002047
申请日：2016-06-08
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/027
CPC分类号： G06F17/5081 , G03F1/44 , G03F7/705 , G03F7/70633 , G06F17/5068 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： 패턴화된웨이퍼기하학적형상측정치를사용하여프로세스유도비대칭시그니쳐를검출, 정량화및 제어하기위한시스템및 방법이개시된다. 상기시스템은, 웨이퍼가제조프로세스를거치기이전에웨이퍼의웨이퍼기하학적형상측정치의제1 세트를획득하도록그리고제조프로세스이후에웨이퍼의웨이퍼기하학적형상측정치의제2 세트를획득하도록구성되는기하학적형상측정툴(geometry measurement tool)을포함할수도있다. 시스템은또한기하학적형상측정툴과통신하는프로세서를포함할수도있다. 프로세서는: 웨이퍼기하학적형상측정치의제1 세트및 웨이퍼기하학적형상측정치의제2 세트에기초하여기하학적형상변화맵을계산하도록; 제조프로세스에의해웨이퍼기하학적형상에대해유도되는비대칭성분을검출하기위해형상변화맵을분석하도록; 웨이퍼기하학적형상에서검출되는비대칭성분에기초하여제조프로세스에의해유도되는비대칭오버레이에러를추정하도록구성될수도있다.
摘要翻译：公开了使用图案化晶圆几何形状测量来检测，量化和控制工艺诱导的不对称签名的系统和方法。该系统包括：一晶片的制造工艺要经过预先获得第一组晶片的晶片几何测量的，并且被配置在晶片的测量的处理之后，以获得第二组晶片的几何形状的测量工具的制造几何形状（几何测量工具）。该系统还可以包括与几何形状测量工具通信的处理器。其中，所述处理器还被配置为：基于所述第一组晶片几何形状测量结果和所述第二组晶片几何形状测量结果来计算几何形状变化图; 分析形状变化图以检测由晶片几何形状的制造过程引起的不对称分量; 并且可以被配置为基于在晶片几何结构中检测到的不对称分量来估计由制造过程引起的不对称重叠误差。

6. 发明授权

KR101821844B1 신속 시제품 제작 공정 및 장치 有权
标题翻译：快速原型制造过程和设备
公开(公告)号：KR101821844B1
公开(公告)日：2018-01-24
申请号：KR1020137012407
申请日：2011-10-14
申请人： 프로드웨이즈
发明人： 알라닉안드레-루크
IPC分类号： G06F17/50
CPC分类号： G06F17/50 , B29C64/386 , B33Y40/00 , B33Y50/02 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： 본발명은, 제품을생산하기위한방법에관한것이며, 여기서포인트가, 전형적으로는생산될제품또는생산될제품의일부분또는층 또는슬라이스(slice)에해당되는객체의내부또는외부에있는지를결정하는것이시도되는작동포인트(11, 30)에있어서, 하기의단계가각각의작동포인트(11, 30)에대해실행되는것으로서, 상기방법은, 상기작동포인트에대해단독으로전용하는카운터에관련된작동포인트들(11, 30)을통과하는선(12) 및상기작동포인트에대해단독으로전용하는카운터에관련된작동포인트의영상(31)을통과하는선 중에서적어도하나의선을결정하는단계; 상기기본표면들각각에서, (i)상기기본표면(15)과, 상기작동포인트(11;30)를통과하는선(12) 및상기작동포인트의영상(31)을통과하는선으로된 선들중의하나와의사이의교차를검색하고, (ii) 상기교차가존재하면상기카운터를변경하며, 상기단계 (i) 및 (ii)는반복수행되는단계; 상기작동포인트(11;30)에대해단독으로전용하는카운터의함수로써상기작동포인트가상기객체의내부또는외부에있는지를결정하는단계를포함한다. 이발명은신속시제품제작 (rapid prototyping) 및스테레오리소그래피 (stereolithography)에사용하는데적합하다.
摘要翻译：生产产品的方法技术领域本发明涉及一种用于生产产品的方法，其中确定该点通常在与产品或待生产产品的一部分对应的对象的内部或外部，或层或切片其特征在于，对于要尝试的工作点（11,30），针对每个工作点（11,30）执行以下步骤，所述方法包括以下步骤：确定通过线路（11,30）和与专用于所述工作点的计数器相关联的工作点的图像（31）的线中的至少一条线; 其中每个基面包括：（i）基面（15），穿过工作点（11; 30）的线（12）和线（ii）如果交点存在，则更换计数器，并且（i）重复步骤（i）和（ii）; 根据专用于操作点（11; 30）的计数器来确定操作点是在物体内部还是外部。理发名称适用于快速成型和立体平版印刷。

7. 发明公开

KR1020170095117A 제품에 대한 제품 구조의 변형들을 관리하기 위한 모델 审中-实审
标题翻译：管理产品产品结构变体的模型
公开(公告)号：KR1020170095117A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：KR1020160163147
申请日：2016-12-02
申请人： 더 보잉 컴파니
发明人： 션엠.캘러핸 , 케빈디.푸터보우
IPC分类号： G06F17/50 , G06Q50/04 , G06Q10/06
CPC分类号： G06F17/50 , G06F2217/02 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： 제품관리시스템(100)은모델(3400) 및데이터관리기(116)를포함한다. 모델(3400)은제품(102)에대한제품구조(3404)를위한설계데이터(3402)를포함한다. 모델(3400)은마스터오브젝트들(3421)의프라이머리계층조직(3408), 버전오브젝트들(3424)의다수의세컨더리계층조직들(3410), 및마스터오브젝트들(3435) 각각에대한변경콘텍스트조직(3433)을포함한다. 마스터오브젝트들(3435)은엘리먼트오브젝트들및 발생오브젝트들을포함한다. 세컨더리계층조직(3418)은엘리먼트버전오브젝트들및 발생버전오브젝트들을포함한다. 변경콘텍스트조직(3433)은변형오브젝트들(3430) 및브랜치인스턴스오브젝트들(3432)의그룹을포함한다. 브랜치인스턴스오브젝트들(3432)의그룹내의브랜치인스턴스오브젝트(3506, 3514)는상응하는설계브랜치(3444)에대한버전오브젝트들(3424)의시퀀스를추적한다. 데이터관리기(116)는모델(3400)을이용하는다른설계브랜치들과는독립적으로각각의설계브랜치(3444) 내에서제품구조(3404)를위한설계데이터(3402)에대한변경들을관리하여, 모델(3400)을이용해서증가된효율을가지고제품(102)의제조를가능하게한다.
摘要翻译：产品管理系统100包括模型3400和数据管理器116。模型3400包括产品102的产品结构3404的设计数据3402。模型3400，多个次级3410层组织的，并且主对象（3435），用于每一次层的组织3408的组织变化方面，对象3424在Eunma主对象的版本（3421）包括（3433）。主对象3435包括元素对象和生成对象。辅助层次组织3418包括元素版本对象和出现版本对象。改变上下文组织3433包括一组变换对象3430和分支实例对象3432。分支实例的组分支实例对象（3432）（3506，3514）的对象跟踪对应于所述分支的设计（3444）的对象的版本的序列以（3424）。数据管理器116是使用Model 3400，型号3400独立于其它设计分支管理在设计数据3402为产品结构3404的每个设计分支（3444）内的变化以更高的效率实现产品102的制造。

8. 发明公开

KR1020170069284A 자동밀집 창고장치 审中-实审
标题翻译：自动关闭存储
公开(公告)号：KR1020170069284A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：KR1020177013406
申请日：2014-10-27
申请人： 선전 웨일하우스 테크놀로지 컴퍼니 리미티드
发明人： 리린즈
IPC分类号： B65G1/133 , G05B19/418
CPC分类号： B65G1/12 , B65G1/133 , G05B19/418 , Y02P90/02 , Y02P90/265
摘要： 본발명은자동밀집창고장치를공개하는것으로, 진열대(10) 및상기진열대(10)에지지되는약간의빈(12)을포함한다. 상기진열대는적어도하나의고정된픽킹위치(13)를정의하되, 상기의빈마다상기진열대에대해이등가능하게상기진열대에지지되고, 상기픽킹위치는상기빈의이동경로에설치된다.
摘要翻译：本发明公开了一种自动密集仓库，其包括搁板（10）和由搁板（10）支撑的少量豆（12）。架子限定至少一个固定的拣选位置13，每个固定的拣配位置13相对于货架支撑在货架上，并且拣货位置设置在豆的行进路径中。

9. 发明公开

KR1020170047101A OPC 이용한 마스크 제조방법 및 반도체 소자 제조방법 审中-实审
标题翻译：使用OPC制造掩模的方法和用于制造半导体器件的方法
公开(公告)号：KR1020170047101A
公开(公告)日：2017-05-04
申请号：KR1020150147545
申请日：2015-10-22
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 심우석 , 량원칭
IPC分类号： H01L21/033 , G03F1/36 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/36 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , Y02P90/265
摘要： 본발명의기술적사상은계층구조를유지하면서더미패턴들을형성함으로써, TAT(Turn Around Time) 감소및 시스템의요구성능을낮출수 있는마스크제조방법및 반도체소자제조방법을제공한다. 그마스크제조방법은메인(main) 패턴에대한레이아웃(layout)을디자인하는단계; 상기레이아웃에대하여통합 OPC(Optical Proximity Correction)를수행하는단계; 상기통합 OPC를통해획득한디자인데이터를 MTO(Mask Tape-Out) 디자인데이터로서전달하는단계; 상기 MTO 디자인데이터에기초하여마스크데이터를준비하는단계; 및상기마스크데이터에기초하여마스크용기판상에노광을수행하는단계;를포함하고, 상기통합 OPC를수행하는단계에서, 계층구조(hierarchical structure)를유지하면서더미(dummy) 패턴을생성한다.
摘要翻译：本发明的技术思想提供掩模制造方法和半导体器件制造方法，其通过在保持分层结构的同时形成虚拟图案来减少系统的转弯时间（TAT）和所需性能。该掩模制造方法包括：设计用于主图案的布局; 在布局上执行集成的OPC（Optical Proximity Correction）; 将通过集成的OPC获取的设计数据作为掩模带出（MTO）设计数据传输; 根据MTO设计数据准备掩模数据; 然后，基于掩模数据对掩模容器板进行曝光，在进行一体化的OPC的情况下，在维持分层结构的同时生成虚拟图案。

10. 发明公开

KR1020170046607A IC 제조 공정의 메트릭을 계산하기 위한 방법 审中-实审
标题翻译：计算IC制造工艺的度量的方法
公开(公告)号：KR1020170046607A
公开(公告)日：2017-05-02
申请号：KR1020167033380
申请日：2015-06-02
申请人： 꼼미사리아 아 레네르지 아토미끄 에뜨 옥스 에너지스 앨터네이티브즈 , 아셀타 나노그라픽
发明人： 사이브,모하메드 , 페이,오렐리앙 , 시아본느,패트릭 , 피구에이로,티아고
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/36 , G03F1/80 , H01J37/317 , G06F17/50
CPC分类号： G03F7/705 , G03F1/36 , G03F1/80 , G03F7/70441 , G06F17/5081 , G06F2217/12 , H01J37/3174 , H01J37/3178 , Y02P90/265
摘要： 본발명은 IC 제조공정의레지스트모델의파라미터를계산하기위한방법을개시한다. 본발명의방법의실시예에따르면, 전체타깃설계에걸쳐편이각을갖는변형함수와합성된커넬함수와콘볼루션되는타깃설계를나타내는함수. 바람직하게는, 변형함수가이의푸리에급수전개로대체되고, 푸리에급수전개차수는타깃설계에적용되는교정의공차내에서회전동안콘볼루션곱이불변이도록선택된다. 대안적으로, 콘볼루션곱이편이각의값에대한변형함수가편이각에근사하는한 쌍의기본커넬함수로투영될수 있도록결정된각도만큼변하도록선택되는기본커넬함수로분해될수 있다.
摘要翻译：本发明公开了一种用于计算IC制造工艺的抗蚀剂模型的参数的方法。根据该方法，表示修改函数的函数，并且与内核函数合成的一个实施例是具有在目标设计的偏移角度的卷积目标的设计。其优选的是，傅立叶变换函数被替换消防栓件，一个傅里叶级数展开顺序被选择为对施加到目标设计的修正的容差范围内转动的卷积乘法常数。可替代地，一个卷积可以被分解成一个基本卷积乘法转移核函数是由一个预定的角度选择为变换函数到每个移位的变化值要被投影到一对近似的每一个的主内核函数。

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