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1. 发明公开

KR1020150029997A 하프톤 마스크 및 이를 이용한 표시장치의 제조방법 审中-实审
标题翻译：黑板掩模和使用其制造显示器件的方法
公开(公告)号：KR1020150029997A
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：KR1020130109156
申请日：2013-09-11
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 홍필순 , 박귀현 , 주진호
IPC分类号： G09F9/00 , G03F7/20 , H01L51/56 , G02F1/13
CPC分类号： H01L27/1288 , H01L27/124 , H01L27/3276 , H01L51/0018 , H01L51/0023 , H01L2227/323
摘要： 복수개의 셀 영역과 복수개의 주변부 영역으로 구분하여 정의된 기판상에 증착막을 형성하는 단계; 상기 증착막에 포토레지스트를 도포하는 단계; 광투과율이 서로 다른 제 1 투광부와 제 2 투광부를 구비한 하프톤 마스크를 준비하여, 상기 셀 영역에 상대적으로 광투과율이 높은 상기 제 1 투광부가, 상기 주변부 영역에 상대적으로 광투과율이 낮은 상기 제 2 투광부가 각각 위치되도록 상기 하프톤 마스크를 설치하는 단계; 상기 하프톤 마스크를 통해 상기 셀 영역에 도포된 포토레지스트와 상기 주변부 영역에 도포된 포토레지스트를 서로 다른 광량으로 노광시키는 단계; 상기 노광된 포토레지스트를 현상하여 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 증착막을 식각하여 상기 셀 영역에 패턴을 형성하고, 상기 주변부 영역에 형성된 상기 증착막을 제거하는 단계; 및 상기 포토레지스트 패턴을 스트립(strip) 하는 단계;를 포함하며, 상기 하프톤 마스크의 상기 제 2 투광부의 광투과율이 상기 제 1 투광부의 광투과율의 50% 내지는 90% 인 것을 특징으로 하는 표시장치의 제조방법을 제공한다.
摘要翻译：提供一种显示装置的制造方法，包括：在分为多个单元区域和周边区域的基板上形成蒸镀膜的工序; 在蒸发膜上铺展光刻胶的步骤; 制备具有光传输率不同的第一和第二光传输单元的半色调掩模的步骤，并且安装半色调掩模，使得具有高透光率的第一光传输单元位于单元区域上，而第二传输单元具有相对低的光传输比位于周边区域上; 曝光光电抗蚀剂在细胞区域上展开的步骤，并且通过具有不同光量的半色调掩模将光致抗蚀剂曝露在周边区域上; 通过显影曝光的光刻胶形成光刻胶图案的步骤; 通过使用光致抗蚀剂图案蚀刻蒸发膜并除去形成在周边区域上的蒸发膜而在单元区域上形成图案的步骤; 以及剥离光致抗蚀剂图案的步骤。半色调掩模的第二透光单元的透光率为第一光传输单元的透光率的50-90％。

2. 发明公开

KR1020120064998A 기판 평탄화 방법 有权
标题翻译：基板的平铺方法
公开(公告)号：KR1020120064998A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：KR1020100126287
申请日：2010-12-10
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 홍필순 , 박귀현 , 김상갑
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： H01L29/4908 , H01L27/1248 , H01L27/1288 , H01L27/124
摘要： PURPOSE: A substrate planarizing method is provided to prevent a spot in the following process by planarizing a substrate through a rear exposure process. CONSTITUTION: A top metal layer and a bottom metal layer are formed on the upper side of a substrate(100). A bottom layer(110p) and a top layer(120p) are formed on the substrate by etching the top metal layer and the bottom metal layer. A photoresist layer(PR) covers the substrate, the bottom layer, and the top layer. The photoresist layer is exposed by irradiating the lower side of the substrate. The exposed top layer and bottom layer are successively removed by using etchants.
摘要翻译：目的：提供一种基板平面化方法，通过后曝光处理使基板平坦化，从而防止后续处理中的斑点。构成：在基板（100）的上侧形成顶部金属层和底部金属层。通过蚀刻顶部金属层和底部金属层，在基板上形成底层（110p）和顶层（120p）。光致抗蚀剂层（PR）覆盖基板，底层和顶层。通过照射基板的下侧来曝光光致抗蚀剂层。通过使用蚀刻剂连续去除暴露的顶层和底层。

3. 发明授权

KR101582946B1 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：薄膜晶体管基板及其方法
公开(公告)号：KR101582946B1
公开(公告)日：2016-01-08
申请号：KR1020090119992
申请日：2009-12-04
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 최신일 , 송진호 , 홍선영 , 김시열 , 이기엽 , 윤재형 , 김성렬 , 서오성 , 배양호 , 정종현 , 양동주 , 김봉균 , 오화열 , 홍필순 , 김병범 , 박제형 , 정유광 , 김종인 , 서남석
IPC分类号： H01L29/786 , G02F1/136
CPC分类号： H01L27/124 , H01L27/12 , H01L27/1214 , H01L27/1288 , H01L29/42368 , H01L29/458 , H01L29/78669
摘要： 본발명은박막트랜지스터표시판에대한발명으로좀더상세하게는구리(Cu)와티타늄(Ti)을각각포함하는이중층배선으로형성되는박막트랜지스터표시판에대한발명으로, 구조적으로는티타늄을포함하는층이구리를포함하는층보다폭이넓고, 티타늄과구리를함께식각하는단계와따로식각하는단계를포함시켜제조하는것을특징으로한다. 또한, 게이트절연막이단차가형성되어있다.

4. 发明公开

KR1020150105531A 액정 표시 패널 및 액정 표시 패널 제조 방법 审中-实审
标题翻译：液晶显示面板及其制造方法
公开(公告)号：KR1020150105531A
公开(公告)日：2015-09-17
申请号：KR1020140026806
申请日：2014-03-06
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 홍필순 , 박귀현 , 주진호
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号： G02F1/1341 , G02F1/133345 , G02F1/133377
摘要： 본 발명의 일 실시예는 기판을 준비하는 단계, 상기 기판 상에 네가티브 타입의 포토 레지스트 물질을 함유하는 희생층 패턴을 형성하는 단계, 상기 희생층 패턴의 상면 및 측면을 덮도록 형성되고, 상기 희생층 패턴의 일 측면을 노출하도록 루프부를 형성하는 단계, 스트립 용액을 이용하여 상기 희생층 패턴의 노출된 일 면을 통하여 스트립 공정을 진행하여 상기 희생층 패턴을 제거하여 상기 루프부내에 소정의 공간으로 정의되는 캐비티를 형성하는 단계, 상기 캐비티에 액정을 주입하여 액정층을 형성하는 단계 및 상기 캐비티의 면 중 상기 액정을 주입한 영역을 덮도록 차단 부재를 형성하는 단계를 포함하는 액정 표시 패널 제조 방법을 개시한다.
摘要翻译：本发明的实施例提供一种液晶显示面板的制造方法。该方法包括以下步骤：制备基底; 在衬底上形成包括负型光致抗蚀剂材料的牺牲层图案; 形成用于覆盖所述牺牲层图案的前侧和侧面并暴露所述牺牲层图案的一侧的屋顶单元; 通过使用带状溶剂通过暴露的牺牲层图案的一个表面进行剥离处理来去除牺牲层图案，形成定义为屋顶单元中的一定空间的空腔; 通过将液晶注入腔体来形成液晶层; 以及形成用于覆盖在所述空腔的表面中注入所述液晶的区域的阻挡元件。

5. 发明公开

KR1020150085437A 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 审中-实审
标题翻译：液晶显示器及其制造方法
公开(公告)号：KR1020150085437A
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：KR1020140005308
申请日：2014-01-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 정양호 , 홍필순 , 박준홍 , 심승보 , 주진호
IPC分类号： G02F1/1362 , G02F1/1368
CPC分类号： G02F1/133377 , G02F1/1341
摘要： 액정표시장치를제공한다. 본발명의일실시예에따른액정표시장치는기판, 상기기판위에위치하는박막트랜지스터, 상기박막트랜지스터위에위치하는화소전극그리고상기화소전극과마주보는루프층을포함하고, 상기화소전극과상기루프층사이에복수의미세공간(Microcavity)이형성되어있고, 상기미세공간은액정물질을포함하고, 상기복수의미세공간사이에격벽이형성되며, 상기격벽은상기루프층과수직이다.
摘要翻译：提供液晶显示器。根据本发明的实施例的液晶显示器包括基板，位于基板上的薄膜晶体管，位于薄膜晶体管上的像素电极和面向像素电极的顶层。在像素电极和屋顶层之间形成微腔。微腔包括液晶材料。在微腔之间形成分隔壁。分隔壁垂直于屋顶层。

6. 发明授权

KR102058651B1 포토레지스트 조성물 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102058651B1
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：KR1020130021421
申请日：2013-02-27
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 박귀현 , 홍필순 , 주진호 , 김태균 , 변진수 , 김동민 , 김승기 , 이두연
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/008 , G02F1/13

7. 发明公开

KR1020150092389A 현상 장치 및 이를 이용한 현상 방법 审中-实审
标题翻译：使用它的开发设备和开发方法
公开(公告)号：KR1020150092389A
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：KR1020140012150
申请日：2014-02-03
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 박귀현 , 홍필순
IPC分类号： G03F7/26 , G03F7/30 , G02F1/13
CPC分类号： G03F7/0025 , G03F7/063 , G03F7/26 , G03F7/30 , G03F7/3064 , G03F7/32
摘要： 피처리 기판을 제1 기간 동안 제1 방향으로 이송하고, 상기 제1 기간에 후속하는 제2 기간 동안 상기 제1 방향에 반대되는 제2 방향으로 이송하며 상기 제2 기간에 후속하는 제3 기간 동안 상기 제1방향으로 이송하는 이송부 및 상기 이송부와 이격되어 상기 이송부 상에 배치되고, 상기 피처리 기판 상에 현상액을 토출하는 제1 현상 노즐을 포함하는 현상 장치.
摘要翻译：显影装置技术领域本发明涉及一种显影装置，其特征在于包括：转印单元，用于将第一方向的待处理基板转印第一期间，在第一期间后的第二期间向与第一方向相反的第二方向转印; 并且在第二时段之后的第三时段期间将其在第一方向上传送; 以及设置在转印单元上以与转印单元分离的第一显影喷嘴，并将显影液体排出到待处理的基板上。

8. 发明授权

KR101461123B1 표시 기판의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치의 제조방법 有权
标题翻译：制造显示基板的方法及制造其显示装置的方法
公开(公告)号：KR101461123B1
公开(公告)日：2014-11-14
申请号：KR1020080042683
申请日：2008-05-08
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 홍필순 , 박정인 , 이희국
IPC分类号： G02F1/136
CPC分类号： H01L27/1288 , H01L27/3248 , H01L2227/323
摘要： 표시 기판의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치의 제조 방법에서, 베이스 기판 상에 서로 교차하는 게이트 라인 및 데이터 라인과, 게이트 라인 및 데이터 라인과 연결된 스위칭 소자를 형성한다. 스위칭 소자가 형성된 베이스 기판 상에 패시베이션층, 제1 레지스트막 및 제2 레지스트막을 순차적으로 형성한 후, 제1 레지스트막 및 제2 레지스트막을 각각 패터닝하여, 레지스트 패턴 및 레지스트 패턴의 측벽보다 돌출된 측벽을 갖는 식각 방지 패턴을 형성한다. 식각 방지 패턴 및 레지스트 패턴을 통해 노출된 패시베이션층을 제거하여 스위칭 소자의 드레인 전극 상에 콘택홀을 형성하고, 콘택홀을 통해 스위칭 소자와 전기적으로 연결된 화소 전극을 형성한다. 식각 방지 패턴 및 레지스트 패턴 사이에 용이하게 언더 컷을 형성할 수 있어서, 리프트 오프 공정의 공정 마진 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
3마스크, 리프트 오프, 현상, 레지스트, 감광성, 비감광성, 화소 전극

9. 发明公开

KR1020110121301A 포토레지스트 조성물, 이를 이용한 패턴 형성 방법 및 박막 트랜지스터 기판의 제조 방법 无效
标题翻译：光刻胶组合物，形成图案的方法和使用其制造薄膜晶体管基板的方法
公开(公告)号：KR1020110121301A
公开(公告)日：2011-11-07
申请号：KR1020100040837
申请日：2010-04-30
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 홍필순 , 박귀현 , 주진호 , 송진호 , 김상태 , 김성현 , 장원영 , 윤종흠 , 이은상 , 임민주
IPC分类号： G03F7/022 , H01L21/027
CPC分类号： H01L27/1288 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , G03F7/085 , G03F7/40 , H01L21/32139 , H01L27/1214 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A photo-resist composition, a method for forming patterns using the same, and a method for manufacturing a thin film transistor substrate using the same are provided to prevent the delamination of photo-resist patterns after an etching process. CONSTITUTION: A photo-resist composition includes an alkali soluble resin, a photo-sensitive compound, a compound represented by chemical formula 1, and a solvent. In the chemical formula 1, the R is hydrogen C1-C1 alkyl group, C4-C8 cycloalkyl group, or benzene group. A method for forming patterns using the composition includes the following: A photo-resist film is formed on a film to be etched by applying the composition. The photo-resist film is exposed by the irradiation of light. The photo-resist film is developed to form photo-resist patterns. The photo-resist pattern is used as an etching mask to etch the film to be etched.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂组合物，使用其形成图案的方法以及使用其制造薄膜晶体管基板的方法，以防止在蚀刻工艺之后的光致抗蚀剂图案的分层。构成：光致抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂，光敏化合物，化学式1表示的化合物和溶剂。在化学式1中，R是氢C1-C1烷基，C4-C8环烷基或苯基。使用该组合物形成图案的方法包括以下：通过施加该组合物在待蚀刻的膜上形成光致抗蚀剂膜。通过照射光使光致抗蚀剂膜曝光。显影光致抗蚀剂膜以形成光刻胶图案。光刻胶图案用作蚀刻掩模以蚀刻待蚀刻的膜。

10. 发明公开

KR1020100026740A 포토레지스트 조성물, 이를 사용한 박막 패턴 형성 방법 및박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 无效
标题翻译：光电组合物，形成薄膜图案的方法和使用其制造薄膜晶体管的方法
公开(公告)号：KR1020100026740A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：KR1020080085861
申请日：2008-09-01
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 머크일렉트로닉머티리얼즈 주식회사
发明人： 이희국 , 윤상현 , 박정인 , 전우석 , 홍필순 , 강덕만 , 오세태 , 이창익
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/004
CPC分类号： H01L29/66765 , G03F7/0388 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0382
摘要： PURPOSE: A photoresist composition, a method for forming thin film patterns and a method for manufacturing the thin film transistor using the same are provided to ensure good pattern profile and excellent etching property for a stripping liquid, and to implement excellent resolution. CONSTITUTION: A photoresist composition comprises a resin of chemical formula 1. In chemical formula 1, R is a methylene group and n is an integer of 1 or more. The composition comprises 1 ~ 50 weight% novolac resin or acrylic resin; 0.1 ~ 5 weight% triazine derivative; 1 ~ 10 weight% melamine resin; and the remaining portion of polymerization solvent. The average molecular weight of the novolad resin is 4,000 ~ 12,000.
摘要翻译：目的：提供一种光致抗蚀剂组合物，用于形成薄膜图案的方法和使用其制造薄膜晶体管的方法，以确保剥离液的良好的图案轮廓和优异的蚀刻性能，并且实现优异的分辨率。构成：光致抗蚀剂组合物包含化学式1的树脂。在化学式1中，R是亚甲基，n是1或更大的整数。该组合物包含1〜50重量％的酚醛清漆树脂或丙烯酸树脂; 0.1〜5重量％三嗪衍生物; 1〜10重量％三聚氰胺树脂; 和聚合溶剂的剩余部分。酚醛树脂的平均分子量为4000〜12000。

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