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1. 发明授权

KR101857712B1 식각액, 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101857712B1
公开(公告)日：2018-05-15
申请号：KR1020170114753
申请日：2017-09-07
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 박지영 , 최신일 , 정종현 , 김상갑 , 김선일 , 김상태 , 이준우 , 박영철 , 진영준 , 강경민 , 이석준 , 권오병 , 유인호 , 장상훈 , 임민기 , 이유진
IPC分类号： C09K13/04 , C09K13/06 , C09K13/08 , G02F1/13 , H01L33/36
摘要： 본발명의실시예에따른식각액은과황산염 0.5 내지 20 중량%, 불소화합물 0.01 내지 2 중량%, 무기산 1 내지 10 중량%, 고리형아민화합물 0.5 내지 5 중량%, 염소화합물 0.1 내지 5 중량%, 구리염 0.05 내지 3 중량%, 유기산또는유기산염 0.1 내지 10 중량%, 그리고물을포함한다.

2. 发明授权

KR101737798B1 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성 방법 有权
标题翻译：光致抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法
公开(公告)号：KR101737798B1
公开(公告)日：2017-05-30
申请号：KR1020100026442
申请日：2010-03-24
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 박정인 , 이희국 , 윤상현 , 김차동 , 성시진 , 진성열 , 김상태 , 김용일 , 이은상
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0226
摘要： 높은프로파일앵글을갖는포토레지스트패턴을형성하는데적합한포토레지스트조성물및 이를이용한패턴형성방법이제공된다. 포토레지스트조성물은, 알칼리가용성수지, 퀴논디아지드기를포함하는화합물, 하기의화학식 1의화합물, 및용매를포함한다. (단. 상기화학식 1에서 R1, R2 및 R3는각각독립적으로수소원자, 탄소수 1 내지 4의알킬기, 탄소수 2 내지 4의알케닐기, 탄소수 3 내지 8의사이클로알킬기, 또는탄소수 6 내지 12의아릴기이다.)
摘要翻译：提供适用于形成具有高轮廓角的光致抗蚀剂图案的光致抗蚀剂组合物和使用该光致抗蚀剂组合物形成图案的方法。光致抗蚀剂组合物包含碱溶性树脂，含有醌二叠氮基的化合物，由下式（1）表示的化合物和溶剂。其中R 1，R 2和R 3各自独立地选自氢原子，具有1至4个碳原子的烷基，具有2至4个碳原子的烯基，具有3至8个碳原子的环烷基， Lt。

3. 发明公开

KR1020140013310A 식각액 조성물, 및 이를 이용한 금속 배선과 박막 트랜지스터 표시판 제조 방법 审中-实审
标题翻译：使用金属接线和薄膜晶体管阵列板的蚀刻和制造方法
公开(公告)号：KR1020140013310A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：KR1020120079973
申请日：2012-07-23
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김인배 , 정종현 , 김선일 , 박홍식 , 이왕우 , 정재우 , 국인설 , 김상태 , 박영철 , 심경보 , 유인호 , 윤영진 , 이석준 , 이준우 , 장상훈 , 진영준
IPC分类号： C23F1/16 , C23F1/44
CPC分类号： C22F1/18 , C09K13/00 , C09K13/04 , C09K13/06 , C09K13/08 , C23F1/14 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/28008 , H01L21/32 , H01L21/32134 , H01L27/124 , H01L27/1288 , H05K3/067
摘要： Provided is an etchant composition. According to an embodiment of the present invention specification, an etchant composition comprises: 0.5-20 wt% of pursulfate; 0.5-0.9 wt% of ammonium fluoride; 1-10 wt% of inorganic acid; 0.5-5 wt% of ring type amine compound; 0.1-10 wt% of sulfonic acid; 5-10 wt% of organic acid or its base; and water which makes the total weight to be 100 wt%. The etchant composition etches a metal film containing copper and titanium to form a metal wire or to be used for manufacturing a thin film transistor array panel. [Reference numerals] (AA) Comparative example 3; (BB) Example 1
摘要翻译：提供了一种蚀刻剂组合物。根据本发明说明书的一个实施方案，蚀刻剂组合物包含：0.5-20wt％的过硫酸盐; 0.5-0.9重量％的氟化铵; 1-10重量％的无机酸; 0.5-5重量％的环型胺化合物; 0.1-10重量％的磺酸; 5-10重量％的有机酸或其碱; 和总重量为100重量％的水。蚀刻剂组合物蚀刻含有铜和钛的金属膜以形成金属线或用于制造薄膜晶体管阵列面板。（附图标记）（AA）比较例3; （BB）实施例1

4. 发明公开

KR1020120093499A 인듐 산화막의 비할로겐성 식각액 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법 有权
标题翻译：用于蚀刻氧化物层的非氢化蚀刻剂和使用非劣化的蚀刻剂制造显示基板的方法
公开(公告)号：KR1020120093499A
公开(公告)日：2012-08-23
申请号：KR1020110013098
申请日：2011-02-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김선일 , 최신일 , 박지영 , 김상갑 , 권오병 , 김동기 , 김상태 , 박영철 , 유인호 , 윤영진 , 이석준 , 이준우 , 임민기 , 장상훈 , 진영준
IPC分类号： C09K13/06 , H01L51/00 , H01L21/306
CPC分类号： H01L51/0023 , H01L2251/308 , C09K13/06 , H01L21/306
摘要： PURPOSE: A non-halogen etchant of an indium oxide layer is provided to minimize damages to a lower during process etching an indium oxide layer which is an upper layer even if a copper layer or an aluminum layer is formed in the lower layer of the indium oxide layer. CONSTITUTION: A non-halogen etchant of an indium oxide layer comprises nitric acid, sulfuric acid, corrosion inhibitor comprising ammonium(NH4^+), a cyclic amine compound, and water. A manufacturing method of a display substrate comprises: a step of forming a switching element(SW) comprising a gate electrode(GE), a source electrode(SE), and a drain electrode(DE) on a substrate(110); a step of forming an indium oxide layer(INL1) on a substrate on which the switching element is formed; a step of forming a first pixel electrode(PE1), which contacts to the drain electrode by patterning the indium oxide layer by using the non-halogen etchant.
摘要翻译：目的：提供氧化铟层的非卤素蚀刻剂，以便即使在铟的下层中形成铜层或铝层，也可以在蚀刻作为上层的氧化铟层的工艺中蚀刻较低的损伤氧化层。构成：氧化铟层的非卤素蚀刻剂包括硝酸，硫酸，包含铵（NH 4+），环胺化合物和水的腐蚀抑制剂。显示基板的制造方法包括：在基板（110）上形成包括栅极（GE），源电极（SE）和漏电极（DE）的开关元件（SW）的步骤; 在形成有开关元件的基板上形成氧化铟层（INL1）的工序; 形成第一像素电极（PE1）的步骤，其通过使用非卤素蚀刻剂图案化氧化铟层而与漏电极接触。

5. 发明公开

KR1020120025068A 잉크 조성물, 이를 이용한 패턴 형성방법, 컬러필터 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：墨水组合物，形成图案的方法，颜色过滤器和使用其制备颜色过滤器的方法
公开(公告)号：KR1020120025068A
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：KR1020100087178
申请日：2010-09-06
申请人： 동우 화인켐 주식회사 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 문성배 , 최용석 , 김상태 , 송인각 , 이승준 , 장재혁 , 이성희 , 김현석 , 조국래
IPC分类号： C09D11/102 , B41M1/00 , G02B5/20
CPC分类号： C09D11/03 , B41M1/00 , C09D11/102 , G02B5/20
摘要： PURPOSE: An ink composition is provided to have excellent coatability, chemical resistance in case of using for roll porting method, especially inversion printing method, and to improve adhesion with an object, thereby capable of forming minute micro patterns. CONSTITUTION: An ink composition comprises a binder resin, a polyfunctional monomer having ethylenically unsaturated double bonds, a coloring agent, a polymerization initiator in chemical formula 1, and solvent. In chemical formula 1, R1, R2 and R3 is respectively hydrogen, halogen, a substituted or non-substituted C1-18 linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or non-substituted C1-18 linear, branched or cyclic alkoxy group, a substituted or non-substituted C2-18 alkylcarbonyl group, a substituted or non-substituted C2-18 alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a mercapto group, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, a substituted or non-substituted phenyl group, a substituted or non-substituted benzyl group, or a substituted or non-substituted naphthyl group.
摘要翻译：目的：提供一种油墨组合物，其具有优异的涂布性，在用于辊移方法的情况下具有耐化学性，特别是反转印刷方法，并提高与物体的粘合性，从而能够形成微小的图案。构成：油墨组合物包含粘合剂树脂，具有烯属不饱和双键的多官能单体，着色剂，化学式1中的聚合引发剂和溶剂。在化学式1中，R1，R2和R3分别是氢，卤素，取代或未取代的C1-18直链，支链或环状烷基，取代或未取代的C1-18直链，支链或环状烷氧基，取代或未取代的C2-18烷基羰基，取代或未取代的C2-18烷氧基羰基，羧基，巯基，氰基，羟基，硝基，取代或未取代的苯基，取代或未取代的苄基，或取代或未取代的萘基。

6. 发明授权

KR101774484B1 인듐 산화막의 비할로겐성 식각액 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101774484B1
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：KR1020110013098
申请日：2011-02-15
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김선일 , 최신일 , 박지영 , 김상갑 , 권오병 , 김동기 , 김상태 , 박영철 , 유인호 , 윤영진 , 이석준 , 이준우 , 임민기 , 장상훈 , 진영준
IPC分类号： C09K13/06 , H01L51/00 , H01L21/306
CPC分类号： H01L51/0023 , H01L2251/308
摘要： 인듐산화막의비할로겐성식각액및 이를이용한표시기판의제조방법에서, 비할로겐성식각액은질산, 황산, 암모늄(NH)을포함하는부식방지제, 고리형아민화합물및 물을포함한다. 이때, 비할로겐성식각액은할로겐화합물을포함하지않는다. 이에따라, 인듐산화막의하부에구리막이형성되더라도인듐산화막의식각공정에서구리막이손상되는것을최소화시킬수 있어제조공정의신뢰성을향상시킬수 있다.

7. 发明公开

KR1020150112093A 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：触摸屏面板及其制作方法
公开(公告)号：KR1020150112093A
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：KR1020140035295
申请日：2014-03-26
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 안수민 , 윤영진 , 노수귀 , 박상덕 , 이강빈 , 이정보 , 조상헌 , 남기용 , 진영준 , 김상태 , 최용석
IPC分类号： G06F3/041
CPC分类号： G06F3/041 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , Y10T29/49002
摘要： 터치스크린패널은활성영역및 비활성영역을포함하는유리기판, 상기유리기판의상하면에형성된강화층들, 상기활성영역에서상기강화층들중 하나의표면상에배치되는센싱패턴들, 및상기비활성영역에배치되고, 상기센싱패턴들과전기적으로연결되는센싱라인들을포함한다. 여기서, 상기유리기판의측면은곡면형상으로함몰된복수의블런트영역을포함할수 있다.
摘要翻译：一种触摸屏面板包括：玻璃基板，具有有源区域和无效区域; 形成在玻璃基板的上表面和下表面上的增强层; 感测图案布置在有源区域中的一个加强层的表面上; 以及设置在非活动区域中并且电连接到感测图案的感测线。玻璃基板的一侧可以包括多个以曲面形状凹陷的钝部区域。

8. 发明公开

KR1020110087582A 식각액 조성물 및 이를 이용한 식각 방법 无效
标题翻译：蚀刻溶液组合物和使用其蚀刻的方法
公开(公告)号：KR1020110087582A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：KR1020100007068
申请日：2010-01-26
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이병진 , 박홍식 , 김상태 , 이준우 , 박영철 , 진영준 , 이석준 , 양승재 , 권오병 , 유인호 , 장상훈 , 임민기 , 신혜라 , 이유진
IPC分类号： C09K13/04
CPC分类号： H01L29/401 , C09K13/06 , H01L27/124 , H01L31/022475 , H01L31/022483 , H01L31/1884 , Y02E10/50
摘要： PURPOSE: An etchant composition is provided to avoid the residue generation after an etching process while not damaging a photoresist in an etching process and to improve productivity in the manufacture of an electronic component substrate such as a flat panel display. CONSTITUTION: An etchant composition for a transparent electrode layer comprises inorganic acids, compound including ammonium(NH4+), cyclic amine compound, and remaining amount of water. The etchant composition further includes at least one selected from surfactants, metal ion scavenger and corrosion inhibitor. A method for etching the transparent electrode layer comprises the steps of: forming a transparent electrode layer on a substrate; forming a photoresist pattern on the transparent electrode layer; and etching the transparent electrode layer using the etchant.
摘要翻译：目的：提供蚀刻剂组合物以避免在蚀刻工艺之后残留物产生，同时在蚀刻工艺中不损坏光致抗蚀剂并提高电子元件基板如平板显示器的制造中的生产率。构成：用于透明电极层的蚀刻剂组合物包括无机酸，包括铵（NH 4 +），环胺化合物和剩余量的水的化合物。蚀刻剂组合物还包括选自表面活性剂，金属离子清除剂和缓蚀剂中的至少一种。蚀刻透明电极层的方法包括以下步骤：在基板上形成透明电极层; 在所述透明电极层上形成光致抗蚀剂图案; 并使用蚀刻剂蚀刻透明电极层。

9. 发明公开

KR1020170106262A 식각액, 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：蚀刻剂及使用其的显示器的制造方法
公开(公告)号：KR1020170106262A
公开(公告)日：2017-09-20
申请号：KR1020170114753
申请日：2017-09-07
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 박지영 , 최신일 , 정종현 , 김상갑 , 김선일 , 김상태 , 이준우 , 박영철 , 진영준 , 강경민 , 이석준 , 권오병 , 유인호 , 장상훈 , 임민기 , 이유진
IPC分类号： C09K13/04 , C09K13/06 , C09K13/08 , G02F1/13 , H01L33/36
CPC分类号： C09K13/04 , C09K13/06 , C09K13/08 , G02F1/13 , H01L33/36
摘要： 본발명의실시예에따른식각액은과황산염 0.5 내지 20 중량%, 불소화합물 0.01 내지 2 중량%, 무기산 1 내지 10 중량%, 고리형아민화합물 0.5 내지 5 중량%, 염소화합물 0.1 내지 5 중량%, 구리염 0.05 내지 3 중량%, 유기산또는유기산염 0.1 내지 10 중량%, 그리고물을포함한다.
摘要翻译：蚀刻是过硫酸盐0.5至20重量％根据本发明的一个实施例，（重量）的氟化合物的0.01〜2％，1％至10％无机酸（重量），0.5至5％的环状胺化合物（重量），氯化合物，0.1至5％（重量）， 0.05至3重量％的铜盐，0.1至10重量％的有机酸或有机酸盐和水。

10. 发明授权

KR101778296B1 식각액, 이를 이용한 표시 장치의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101778296B1
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：KR1020110030238
申请日：2011-04-01
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 동우 화인켐 주식회사
发明人： 박지영 , 최신일 , 정종현 , 김상갑 , 김선일 , 김상태 , 이준우 , 박영철 , 진영준 , 강경민 , 이석준 , 권오병 , 유인호 , 장상훈 , 임민기 , 이유진
IPC分类号： C09K13/04 , C09K13/06 , C09K13/08 , G02F1/13
CPC分类号： C09K13/08 , C23F1/18 , C23F1/26 , C23F1/44 , H01L21/32134 , H01L27/1259 , H01L29/41733
摘要： 본발명의실시예에따른식각액은과황산염 0.5 내지 20 중량%, 불소화합물 0.01 내지 2 중량%, 무기산 1 내지 10 중량%, 고리형아민화합물 0.5 내지 5 중량%, 염소화합물 0.1 내지 5 중량%, 구리염 0.05 내지 3 중량%, 유기산또는유기산염 0.1 내지 10 중량%, 그리고물을포함한다.

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