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1. 发明授权

KR101432503B1 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 어레이 기판의 제조방법 有权
标题翻译：光电组合物及使用其制造阵列基板的方法
公开(公告)号：KR101432503B1
公开(公告)日：2014-08-22
申请号：KR1020080017354
申请日：2008-02-26
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 머크일렉트로닉머티리얼즈 주식회사
发明人： 이희국 , 윤상현 , 이민수 , 강덕만 , 오세태 , 최재영
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： H01L27/1288 , G03F7/0233 , H01L27/1214
摘要： 포토레지스트 패턴의 신뢰성을 향상시킨 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 어레이 기판의 제조 방법이 개시된다. 포토레지스트 조성물은 바인더 수지, 광산발생제, 서로 다른 4개의 모노머들을 포함하는 아크릴 수지 및 여분의 용매를 포함한다. 이에 따라, 포토레지스트 패턴의 노광 마진 및 내열성을 향상시킴으로써, 포토레지스트 패턴의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
포토레지스트 조성물, 4매 공정, 초점, 포커스, 초점심도, DOF, 아크릴

2. 发明公开

KR1020100077229A 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 표시 기판의 제조 방법 无效
标题翻译：光电组合物及使用其制造显示器基板的方法
公开(公告)号：KR1020100077229A
公开(公告)日：2010-07-08
申请号：KR1020080135123
申请日：2008-12-29
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 머크일렉트로닉머티리얼즈 주식회사
发明人： 전우석 , 윤상현 , 이희국 , 강덕만 , 오세태
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G02F1/13439 , G03F7/0007 , G03F7/0226 , H01L27/1288 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/022
摘要： PURPOSE: A photoresist composition and a manufacturing method of a display substrate using thereof are provided to produce a micro pattern with the higher definition than an exposure device, and to reduce the exposure dose and the exposure time. CONSTITUTION: A photoresist composition contains the following: a novolac resin; a benzophenone photo sensitizer and an ethylidyne tris phenol photo sensitizer mixed in a weight ratio of 20:80~80:20; and an organic solvent. The benzophenone photo sensitizer is produced by condensing a benzophenone group compound and a quinone diazide group compound. The ethylidyne tris phenol photo sensitizer is produced by condensing an ethylidine tris phenolic compound and the quinone diazide group compound.
摘要翻译：目的：提供一种光致抗蚀剂组合物及其使用的显示基板的制造方法，以产生具有比曝光装置高的清晰度的微图案，并且降低曝光剂量和曝光时间。构成：光致抗蚀剂组合物包含以下物质：酚醛清漆树脂; 二苯甲酮光敏剂和重量比为20:80〜80:20的乙基二苯酚光敏剂; 和有机溶剂。二苯甲酮光敏剂是通过使二苯甲酮基化合物和醌二叠氮基化合物缩合而制得的。亚乙基三酚光敏剂是通过将乙基三酚化合物和醌二叠氮基化合物缩合而制得的。

3. 发明公开

KR1020100026740A 포토레지스트 조성물, 이를 사용한 박막 패턴 형성 방법 및박막 트랜지스터 표시판의 제조 방법 无效
标题翻译：光电组合物，形成薄膜图案的方法和使用其制造薄膜晶体管的方法
公开(公告)号：KR1020100026740A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：KR1020080085861
申请日：2008-09-01
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 머크일렉트로닉머티리얼즈 주식회사
发明人： 이희국 , 윤상현 , 박정인 , 전우석 , 홍필순 , 강덕만 , 오세태 , 이창익
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/004
CPC分类号： H01L29/66765 , G03F7/0388 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0382
摘要： PURPOSE: A photoresist composition, a method for forming thin film patterns and a method for manufacturing the thin film transistor using the same are provided to ensure good pattern profile and excellent etching property for a stripping liquid, and to implement excellent resolution. CONSTITUTION: A photoresist composition comprises a resin of chemical formula 1. In chemical formula 1, R is a methylene group and n is an integer of 1 or more. The composition comprises 1 ~ 50 weight% novolac resin or acrylic resin; 0.1 ~ 5 weight% triazine derivative; 1 ~ 10 weight% melamine resin; and the remaining portion of polymerization solvent. The average molecular weight of the novolad resin is 4,000 ~ 12,000.
摘要翻译：目的：提供一种光致抗蚀剂组合物，用于形成薄膜图案的方法和使用其制造薄膜晶体管的方法，以确保剥离液的良好的图案轮廓和优异的蚀刻性能，并且实现优异的分辨率。构成：光致抗蚀剂组合物包含化学式1的树脂。在化学式1中，R是亚甲基，n是1或更大的整数。该组合物包含1〜50重量％的酚醛清漆树脂或丙烯酸树脂; 0.1〜5重量％三嗪衍生物; 1〜10重量％三聚氰胺树脂; 和聚合溶剂的剩余部分。酚醛树脂的平均分子量为4000〜12000。

4. 发明公开

KR1020090092073A 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 어레이 기판의 제조방법 有权
标题翻译：光电组合物及使用其制造阵列基板的方法
公开(公告)号：KR1020090092073A
公开(公告)日：2009-08-31
申请号：KR1020080017354
申请日：2008-02-26
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 머크일렉트로닉머티리얼즈 주식회사
发明人： 이희국 , 윤상현 , 이민수 , 강덕만 , 오세태 , 최재영
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： H01L27/1288 , G03F7/0233 , H01L27/1214 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0047
摘要： A photoresist composition is provided to improve thermal resistance and exposure margin of photoresist pattern and enhance the reliability of photoresist pattern. A photoresist composition comprises a 1-50 weight% of binder resin, 1-20 weight% of photoacid generator, 1-20 weight% of acrylic resin of the chemical formula 1 and remaining amount of solvent. In the chemical formula 1, the R1, R2, R3, R4 and R5 are independently hydrogen atom or alkyl group of 1-4 carbon atoms, the a, b, d and e are separately 0.01-0.99, and their total addition is 1.
摘要翻译：提供光致抗蚀剂组合物以改善光致抗蚀剂图案的热阻和曝光余量，并增强光致抗蚀剂图案的可靠性。光致抗蚀剂组合物包含1-50重量％的粘合剂树脂，1-20重量％的光酸产生剂，1-20重量％的化学式1的丙烯酸树脂和剩余的溶剂量。在化学式1中，R 1，R 2，R 3，R 4和R 5独立地为氢原子或1-4个碳原子的烷基，a，b，d和e分别为0.01-0.99，并且它们的总添加量为1 。

5. 发明授权

KR102171301B1 DMD를 이용한 디지털 노광기 및 그 제어 방법 有权
公开(公告)号：KR102171301B1
公开(公告)日：2020-10-29
申请号：KR1020130080436
申请日：2013-07-09
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 윤상현 , 김차동 , 김창훈 , 박정인 , 이기범 , 이희국 , 장재혁
IPC分类号： G03F7/20

6. 发明授权

KR102080875B1 스테이지 이송 장치 및 이를 이용한 스테이지 위치 측정 방법 有权
公开(公告)号：KR102080875B1
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：KR1020130007484
申请日：2013-01-23
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 이희국 , 장상돈 , 장재혁 , 공향식 , 김차동 , 김창훈 , 박정인 , 윤상현
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/027 , G03F7/20 , B23Q15/22

7. 发明授权

KR101804478B1 디지털 노광 장치 및 이를 이용하여 기판을 노광하는 방법 有权
标题翻译：数字曝光设备和使用其曝光基板的方法
公开(公告)号：KR101804478B1
公开(公告)日：2017-12-05
申请号：KR1020110068680
申请日：2011-07-12
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 윤상현 , 김차동 , 박정인 , 심수연 , 이희국
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70275
摘要： 디지털노광장치는스테이지, 광원부, 디지털마이크로미러부및 마이크로렌즈부를포함한다. 스테이지상에는기판이배치된다. 광원부는제1 광을발생시킨다. 디지털마이크로미러부는스테이지상에배치된다. 디지털마이크로미러부는제1 광을제2 광으로변환하는복수의디지털마이크로미러들을포함한다. 마이크로렌즈부는스테이지및 디지털마이크로미러부사이에배치된다. 마이크로렌즈부는제2 광을단면이타원형상인제3 광으로변환하여기판에출사하는복수의마이크로렌즈들을포함한다. 이에따라, 기판상에형성되는패턴의정밀도를향상시킬수 있다.
摘要翻译：数字曝光设备包括平台，光源部分，数字微镜部分和微透镜部分。基板放置在台上。光源单元产生第一光。数字微镜部分设置在舞台上。数字微镜部分包括用于将第一光转换为第二光的多个数字微反射镜。微透镜部分设置在台和数字微镜部分之间。微透镜部分包括多个微透镜，用于将第二光转换成具有椭圆形横截面的第三光并将光发射到基板。因此，可以提高在基板上形成的图案的精度。

8. 发明授权

KR101799396B1 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성 방법 有权
标题翻译：光致抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法
公开(公告)号：KR101799396B1
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：KR1020100046449
申请日：2010-05-18
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 메르크 파텐트 게엠베하
发明人： 이희국 , 윤상현 , 박정인 , 김차동 , 오세태 , 강덕만 , 김윤석
IPC分类号： G03F7/016 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/30 , G03F7/022 , G03F7/0236 , H01L27/1288 , H01L29/41733
摘要： 포토레지스트조성물이제공된다. 포토레지스트조성물은, 알칼리가용성수지, 디아조나프토퀴논을포함하고하기화학식 1로표시되는제1 화합물과, 디아조나프토퀴논을포함하고하기화학식 2로표시되는제2 화합물을포함하는감광제, 및용매를포함한다. (단, 상기 R1는독립적으로수소원자, 탄소수 1 내지 4의알킬기, 탄소수 2 내지 4의알케닐기, 탄소수 3 내지 8의사이클로알킬기, 또는탄소수 6 내지 12의아릴기이다. R2는 Cl, F, Br, 또는 I이다.)
摘要翻译：提供光刻胶组合物。光刻胶组合物，包括碱溶性树脂，重氮萘醌光敏剂和由下式表示，如权利要求中的第二化合物（2）包括第一化合物和由通式（1）表示的重氮萘醌，并将溶剂它包括。

9. 发明授权

KR101751466B1 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성 방법 有权
标题翻译：光致抗蚀剂组合物和使用其形成图案的方法
公开(公告)号：KR101751466B1
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：KR1020100085516
申请日：2010-09-01
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 메르크 파텐트 게엠베하
发明人： 김차동 , 윤상현 , 박정인 , 이희국 , 강덕만 , 김윤석 , 오세태
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/022 , G03F7/0236
摘要： 포토레지스트조성물및 이를이용한패턴형성방법이제공된다. 본발명의일 실시예에따른포토레지스트조성물은, 알칼리가용성노볼락수지와, 하기의화학식 1의화합물을포함하는감광제와, 용매를포함한다.
摘要翻译：提供了一种光致抗蚀剂组合物和使用该组合物形成图案的方法。根据本发明实施方式的光刻胶组合物包含碱溶性酚醛清漆树脂，含有下式（1）的化合物和溶剂的光敏剂。＆lt;公式1＆gt;

10. 发明公开

KR1020160024285A 마스크리스 노광 장치, 마스크리스 노광 방법 및 이에 의해 제조되는 표시 기판 审中-实审
标题翻译：无障碍曝光装置，由MASKING曝光装置制造的无障碍曝光方法和显示基板和显着曝光方法
公开(公告)号：KR1020160024285A
公开(公告)日：2016-03-04
申请号：KR1020140110922
申请日：2014-08-25
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 이상현 , 김현석 , 허정철 , 이희국 , 윤상현 , 이기범 , 김창훈 , 박정인 , 서갑종 , 심준호 , 장재혁
IPC分类号： G03F7/20 , G02F1/13
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70508 , H01L27/124 , H01L27/1285 , H01L29/41733 , H01L29/78696
摘要： 마스크리스노광장치는기판으로노광원으로부터제공된소스빔을반사하여상기기판상에노광빔들을스캔하는디지털마이크로미러디바이스(digital micro-mirror device, DMD)를포함하는노광헤드및 상기디지털마이크로미러디바이스를그래픽데이터시스템(GDS) 파일을이용하여제어하는시스템제어부를포함한다. 상기그래픽데이터시스템파일의패턴은상기노광헤드의스캔방향과직교하는방향으로연장되는채널부의폭이상기노광빔들의조사주기(pulse event generation; PEG)의배수로형성된다
摘要翻译：本发明涉及无掩模曝光装置，无掩模曝光方法以及由无掩模曝光装置制造的显示基板。更具体地，本发明的目的是提供一种能够减少显示装置中的缺陷的无掩模曝光装置。本发明的无掩模曝光装置包括曝光头和系统控制部。曝光头包括数字微镜装置（DMD），其通过将从曝光光源提供的光束反射到衬底上来扫描衬底上的裸露光束，并且系统控制部分通过图形数据系统来控制DMD GDS）文件。就GDS文件的图案而言，在曝光头的扫描方向正交延伸的通道部分的宽度是曝光光束的脉冲事件产生（PEG）周期的倍数。

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