会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明公开
    • 추가 마스크 층을 갖는 다마신 박막 레지스터
    • 带附加掩膜层的镶嵌式薄膜电阻器
    • KR20180019679A
    • 2018-02-26
    • KR20187001603
    • 2016-06-17
    • MICROCHIP TECH INC
    • LENG YAOJIANSATO JUSTIN HIROKI
    • H01L21/768H01C7/00H01C17/075H01C17/28H01L23/522H01L23/532H01L49/02
    • H01L23/5228H01C7/006H01C17/075H01C17/288H01L21/76849H01L23/5226H01L23/53228H01L28/24
    • 구리공정모듈에서구리화학기계적폴리싱(CMP) 공정을완료한후 박막레지스터를제조하는방법은, 적어도 2개의구조물들(90a, 90b)을가로질러유전체배리어층(100)을침착하는단계; 상기유전체배리어위에하드마스크로서제2 유전체층(110)을침착하는단계; 포토리소그래피를사용하여트렌치를패터닝하는단계; 상기하드마스크를통해상기트렌치를에칭하고상기유전체배리어내에서또는유전체배리어상에서정지하는단계; 포토리소그래피공정으로부터임의의잔여포토레지스트(120a, 120b)를제거하는단계; 상기유전체장벽을통해상기트렌치를에칭하여상기적어도 2개의구리구조물들각각의구리표면을노출시키는단계; 및상기트렌치에박막레지스터재료(120)를침착시키고그 결과로얻어진상기적어도 2개의노출된구리표면들을가로질러가교시키는단계를포함하는것이개시된다.
    • 一种在铜工艺模块中完成铜化学机械抛光(CMP)工艺之后制造薄膜电阻器的方法包括横跨至少两个结构(90a,90b)沉积电介质阻挡层(100); 在介质阻挡层上沉积第二介电层(110)作为硬掩模; 使用光刻法图案化沟槽; 通过硬掩模蚀刻沟槽并停止在电介质屏障或电介质屏障上; 从光刻工艺中去除剩余的光刻胶120a,120b; 蚀刻穿过介质阻挡层的沟槽以暴露至少两个铜结构中的每一个的铜表面; 并且在沟槽上沉积薄膜电阻材料(120)并桥接所得到的至少两个暴露的铜表面。
    • 6. 发明公开
    • 스마트 무선 자산 추적
    • 智能无线资产追踪
    • KR20180032562A
    • 2018-03-30
    • KR20187001472
    • 2016-07-22
    • MICROCHIP TECH INC
    • VENUTURUMILLI ABHINAY
    • G08B25/10G06Q50/28G08B21/18H04B17/27
    • G08B25/10G06Q10/0833G06Q50/28H04W52/36
    • 군집된자산환경에서불량상태의위치를결정하기위한시스템들및 방법들은, 자산의상태를모니터링하는센서와관련된복수의무선트랜시버들을제공하는것 - 장거리동작모드의복수의무선트랜시버들각각은송신전력을고출력전력으로조정함 -, 센서수신기로장거리동작모드를사용하여자산들의상태를모니터링하는것, 복수의무선트랜시버들중 적어도하나의무선트랜시버에의해센서수신기로경보를통신하는것; 물품의위치결정을가능케하기위해저전력송신출력으로전환하라는명령을복수의무선트랜시버들모두에센서수신기에의해송신하는것, 복수의무선트랜시버들각각을위치결정동작모드로동작하도록전환하는것 - 송신전력은저출력전력으로설정됨 -, 그리고경보를발생시키는센서의위치를결정하는것을포함한다.
    • 用于确定的缺陷状态的位置,在社会资产的环境中,haneungeot提供多个与所述传感器相关联的无线收发器来监视资产的状况的系统和方法 - 对于每个多个操作的长程模式无线收发器中的是发射功率 利用传感器接收器使用远程操作模式监视资产的状态;通过多个无线收发器中的至少一个无线收发器向传感器接收器传送警报; 由指令发送Haneungeot切换到低功率发射输出,以使所述制品到所述传感器接收器的定位,以所有的多个无线收发器,haneungeot开关中的定位操作模式中操作,所述多个无线电收发器中的 - 发射功率是 设置为低输出功率,并确定传感器产生警报的位置。
    • 8. 发明公开
    • 개량된 터치 및 제스처 디코딩을 위한 센서 구조체
    • 传感器结构改善触摸和手势解码
    • KR20180017000A
    • 2018-02-20
    • KR20177034208
    • 2016-06-15
    • MICROCHIP TECH INC
    • DORFNER ANDREAS
    • G06F3/044G06F3/041G06F3/0488
    • G06F3/0416G06F3/044G06F2203/04101G06F2203/04103
    • 정전용량형터치및 비-터치검출용센서구조체는송신전극, 및평가유닛과결합된미리정의된수의수신전극들을구비하고, 여기서상기평가유닛은비-터치검출모드및 터치검출모드에서작동하고, 상기송신전극은근접교류전계를생성하고, 비-터치검출모드에서, 상기평가유닛은물체의 3차원위치를결정하기위해상기수신전극들로부터의신호들을평가하고, 터치검출모드에서, 미리정의된수의전극들에의해정의된표면터치검출영역은복수의세그먼트들로나뉘고, 각각의세그먼트들내에서, 미리정의된수의전극들중 적어도 2개의전극들은자신의전극표면적의일부를이용하여, 복수의세그먼트들각각에대해서로다른전극표면적비율이형성되도록기여한다.
    • 电容式触摸和传输电极的非接触式传感器的结构,并具有多个接收耦合预定的和评估单元电极,以及其中,所述评估单元中的触摸感测模式高恩妃-操作和触摸感测模式中, 发送电极创建了一个特写的交流电场,和非接触检测模式中,评价单元是接收电极robuteoui信号的评估,以确定该物体的三维位置和触摸检测模式,电极的预定数量的 其中预定义数量的电极中的至少两个使用其电极表面区域的一部分来限定多个节段,每个节段具有多个节段, 有助于形成不同的电极表面积比率。
    • 9. 发明公开
    • 스페이서 에칭된 트렌치를 사용한 펜스 전도체의 형성 방법
    • 使用间隔蚀刻沟槽形成栅栏导体的方法
    • KR20180008442A
    • 2018-01-24
    • KR20177031585
    • 2016-05-11
    • MICROCHIP TECH INC
    • FEST PAUL
    • H01L21/768H01L21/02H01L23/528
    • H01L21/76816H01L23/528
    • 스페이서에칭공정은복수의반도체다이들의매우좁은전도성라인들을제조한다. 트렌치들이제1 유전체에형성되고이어서희생박막이제1 유전체와거기에형성된트렌치표면들상에침착된다. 평탄한희생박막은, 단지트렌치벽들에만희생박막을남기고제1 유전체의면 및트렌치들의바닥으로부터제거된다. 트렌치벽들상의희생박막사이의간극은제2 유전체로충전된다. 제2 유전체의일부는희생박막의상부들을노출시키도록제거된다. 희생박막은전도성물질로충전되는극세간극들을남기고제거된다. 간극들내의전도성물질의상부들은 "펜스전도체들"을형성하기위해노출된다. 펜스전도체들의일부들및 이를둘러싸고있는절연물질은절연된펜스전도체들을포함하는원하는전도체패턴들을형성하기위해적절한위치들에서제거된다.
    • 间隔物蚀刻工艺产生多个半导体管芯的非常窄的导线。 现在沟槽形成在一个电介质中,然后牺牲薄膜现在沉积在一个电介质上并且在其中形成沟槽表面。 平坦的牺牲薄膜从第一电介质表面和沟槽的底部移除,仅在沟壁上留下牺牲薄膜。 沟槽壁上的牺牲薄膜之间的间隙被第二电介质填充。 去除第二电介质的一部分以暴露牺牲薄膜的顶部。 牺牲薄膜被去除,留下填充有导电材料的超细间隙。 间隙中的导电材料的上部暴露以形成“栅栏导体”。 围栏导体的部分和围绕它们的绝缘材料在合适的位置被去除以形成包括绝缘围栏导体的期望的导体图案。