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71. 发明授权

KR101001658B1 마그네트론 스퍼터 코팅 기판 제작 방법 및 이를 위한 장치 有权
标题翻译：用于制造具有磁控溅射涂层的基板的方法和用于其的单元
公开(公告)号：KR101001658B1
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：KR1020057006218
申请日：2003-10-15
申请人： 오를리콘 서피스 솔루션스 아크티엔게젤샤프트, 페피콘
发明人： 취거,오트마
IPC分类号： H01J37/34
CPC分类号： H01J37/347 , C23C14/04 , C23C14/35 , C23C14/542 , H01J37/3408 , H01J37/3455
摘要： 본 발명에 따라서, 스퍼터 표면(7)을 따라 마그네트론 자기장 패턴(9)이 주기적(My)으로 이동되며, 기판(11)이 스퍼터 표면(7)을 따라 이동되는 마그네트론 스퍼터 코팅에 대하여, 기판에 적층되는 재료량 분포가 최적화되며, 이로써, 스퍼터 속도가 자기장 패턴(9)의 주기적 이동(My)과 위상 결합된, 변조 장치 (3)에 의해 변조된다.
스퍼터, 코팅, 표면, 마그네트론, 자기장 패턴, 위상 동기식, 재료량 분포

72. 发明公开

KR1020100102102A 플라즈마증발에 의한 아연도금방법과 시스템 有权
标题翻译：通过等离子体蒸发进行加压的方法和系统
公开(公告)号：KR1020100102102A
公开(公告)日：2010-09-20
申请号：KR1020107012128
申请日：2008-11-07
申请人： 어드밴스드 갈바나이제이션 아게
发明人： 반덴브란트피에르
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/02 , C23C14/54 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/16 , C23C2/003 , C23C2/36 , C23C14/28 , C23C14/32 , C23C14/54 , C23C14/542 , C23C14/562 , H01J37/321 , H01J37/32513 , H01J37/32743 , H01J37/32788 , H01J37/32889 , H01J2237/327 , H01J2237/332 , H01J2237/334
摘要： 본 발명은 하나 이상의 강철제품으로 구성되는 연속한 기재의 플라즈마 처리를 위한 방법과 플랜트에 관한 것으로, 기재가 적어도 하나의 플라즈마 처리영역을 통하여 차례로 이송되는 것에 있어서, 처리영역에서 플라즈마를 발생하기 위한 전력이 기재가 이러한 처리영역을 통하여 이동할 때 이 처리영역내에 존재하는 기재의 면적에 따라 변화됨을 특징으로 한다.

73. 发明公开

KR1020100094474A 직류를 사용한 스퍼터링 증착용 방법 및 장치 无效
标题翻译：使用直流电流溅射沉积的方法和装置
公开(公告)号：KR1020100094474A
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：KR1020107011346
申请日：2008-11-14
申请人： 어드밴스드 에너지 인더스트리즈 인코포레이티드
发明人： 노만켄 , 왈드헨드릭브이. , 크리스티데이비드제이. , 프라이스브루스
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/54
CPC分类号： C23C14/564 , C23C14/3485 , C23C14/3492 , C23C14/54 , C23C14/542 , C23C14/548
摘要： 직류 파워 서플라이를 사용하여 플라즈마에 기초한 스퍼터링 증착을 위한 장치 및 방법이 기술된다. 1 실시예에서, 플라즈마는 복수의 전극들을 전류공급원에 접속함으로써 발생되고, 처리 챔버의 복수의 전극들의 각각에 인가되는 전압의 극성은 주기적으로 반전되어 전극들의 적어도 하나가 기판상의 재료를 스퍼터링한다. 복수의 전극들의 적어도 하나에 인가되는 파워의 양을 변조하여 소망 특성으로 정지 기판상에 재료를 증착시킨다. 어떤 실시예에서, 기판은 처리 시 챔버에 정지 상태로 배치된다. 많은 실시예들은 하나 이상의 전극에 인가되는 파워의 양을 변조하도록 증착의 상태를 나타내는 피드백을 이용한다.

74. 发明公开

KR1020100074975A 흑색 피막 제조방법 및 흑색 피막을 갖는 코팅층 및 이를 위한 흑색 피막 제조장치 无效
标题翻译：黑色薄膜制作薄膜和涂膜的方法及方法
公开(公告)号：KR1020100074975A
公开(公告)日：2010-07-02
申请号：KR1020080133546
申请日：2008-12-24
申请人： 재단법인 포항산업과학연구원
发明人： 정재인 , 양지훈
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/0068 , C23C14/0015 , C23C14/34 , C23C14/542
摘要： PURPOSE: A coating layer having a black film and a method and an apparatus for manufacturing the black film are provided to improve decorative effects by controlling the evaporation rate of a sputtering source and prevent excessive thickness of a black film formed. CONSTITUTION: An apparatus for manufacturing a black film comprises a substrate(4), a sputtering source(2), a metal target(3), and an ion blocking grid(6). The substrate forms a metallic film on the top of the substrate. The metal film is formed from the metal target ionized by the sputtering source. The ion blocking grid is formed between the substrate and the metal target in order to reduce the energy of the ion generated by the sputtering source.
摘要翻译：目的：提供一种具有黑色膜的涂层以及用于制造黑色膜的方法和装置，以通过控制溅射源的蒸发速率来改善装饰效果，并防止形成的黑色膜的厚度过大。构成：黑色膜的制造装置，具备基板（4），溅射源（2），金属靶（3）和离子阻挡栅极（6）。衬底在衬底的顶部上形成金属膜。金属膜由通过溅射源电离的金属靶形成。为了降低由溅射源产生的离子的能量，在衬底和金属靶之间形成离子阻挡栅极。

75. 发明公开

KR1020050018748A 광학적 정보 기록 매체와 그 제조 방법, 제조 장치, 기록재생 방법 및 기록 재생 장치 有权
标题翻译：光信息记录介质及其制造方法，制造装置，记录/再现方法和记录/再现装置，特别是通过在薄膜上放射高能光束来记录/再现信息信号
公开(公告)号：KR1020050018748A
公开(公告)日：2005-02-28
申请号：KR1020040061664
申请日：2004-08-05
申请人： 파나소닉 주식회사
发明人： 구사다히데오 , 나가타겐이치 , 기타우라히데키 , 니시우치겐이치 , 야마다노보루 , 고지마리에
IPC分类号： G11B7/24027 , G11B7/2433 , G11B7/26
CPC分类号： G11B7/266 , C23C14/08 , C23C14/205 , C23C14/542 , C23C14/568 , G11B7/24038
摘要： PURPOSE: An optical information recording medium and a fabrication method thereof, a fabrication device, a recording/reproducing method and a recording/reproducing device are provided to suppress a film thickness difference between an inner side and an outer side within plus/minus 10% over entire areas of a disk, thereby realizing a better signal quality having a low noise level. CONSTITUTION: An optical information recording medium comprises the first information layer(2) between a transparent substrate(1) and a protective substrate(3). The first information layer(2) has a spiral-shaped groove(4) for laser beam guiding, and records/reproduces information by radiating a laser beam(5). The laser beam(5) is condensed into an objective lens(6) from the transparent substrate(1), and is radiated to record/reproduce the information. Additional information layers may be disposed between the first information layer(2) and the protective substrate(3) by inserting each separation layer, respectively.
摘要翻译：目的：提供光学信息记录介质及其制造方法，制造装置，记录/再现方法和记录/再现装置，以将内侧和外侧之间的膜厚度差在±10％在盘的整个区域上，从而实现具有低噪声水平的更好的信号质量。构成：光学信息记录介质包括在透明基板（1）和保护基板（3）之间的第一信息层（2）。第一信息层（2）具有用于激光束引导的螺旋形槽（4），并且通过照射激光束（5）来记录/再现信息。激光束（5）从透明基板（1）被冷凝成物镜（6），并被辐射以记录/再现信息。通过分别插入每个分离层，可以在第一信息层（2）和保护衬底（3）之间设置附加信息层。

76. 发明公开

KR1020050011320A 물질 증착장치 无效
标题翻译：材料沉积装置能够在没有使用热的情况下清洁大量传感器，在大量传感器上沉积的材料沉积物质，而不会降低质量传感器
公开(公告)号：KR1020050011320A
公开(公告)日：2005-01-29
申请号：KR1020030050348
申请日：2003-07-22
申请人： 김신철
发明人： 김신철
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/542 , H01L51/001
摘要： PURPOSE: A material deposition apparatus is provided to easily remove a material deposited on a mass sensor without degrading the mass sensor by cleansing the mass sensor without using heat and reduce time loss by installing a cleansing chamber connected selectively with a deposition chamber. CONSTITUTION: A material deposition apparatus includes a deposition chamber(10), a deposition source, a mass sensor(60), and a cleansing source(50). The deposition chamber includes a substrate on which a specific material is deposited therein. The deposition source is implemented in the deposition chamber so as to face with the substrate. The mass sensor measures the thickness of the material deposited on the substrate. The cleansing source is implemented in the deposition chamber in a way to face a front portion of the mass sensor to remove the material deposited on the mass sensor.
摘要翻译：目的：提供一种材料沉积装置，用于通过安装与沉积室选择性连接的清洁室，轻松地去除沉积在质量传感器上的材料，而不会通过清洁质量传感器而不使用热而减少质量传感器，并减少时间损失。构成：材料沉积装置包括沉积室（10），沉积源，质量传感器（60）和清洁源（50）。沉积室包括其上沉积特定材料的基底。沉积源在沉积室中实施以面对衬底。质量传感器测量沉积在基底上的材料的厚度。清洁源以沉积在质量传感器前面的方式在沉积室中实现，以去除沉积在质量传感器上的材料。

77. 发明公开

KR1020030047630A 대면적 증착 균일도 향상을 위한 진공증착 장치 및 방법 无效
标题翻译：真空沉积装置和真空沉积方法改善沉积均匀性
公开(公告)号：KR1020030047630A
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：KR1020010079886
申请日：2001-12-10
申请人： (주)울텍
发明人： 김준태 , 석창길 , 손상현
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/542 , C23C14/243 , C23C14/26 , C23C14/541 , H01L51/001
摘要： PURPOSE: A vacuum deposition apparatus and a vacuum deposition method are provided to effectively reduce volume of the vacuum chamber and allow for structural simplicity of the vacuum deposition apparatus. CONSTITUTION: A vacuum deposition apparatus comprises a unit for moving a deposition substrate(10) in an X-axis direction; one or more heating furnaces(20) arranged in an Y-axis direction vertical to the X-axis direction; and thickness measurement units(40) and temperature controllers(41) arranged in the heating furnaces, respectively.
摘要翻译：目的：提供真空沉积设备和真空沉积方法以有效地减小真空室的体积并且允许真空沉积设备的结构简单。构成：真空沉积装置包括用于沿X轴方向移动沉积基板（10）的单元; 一个或多个加热炉（20），其沿与X轴方向垂直的Y轴方向排列; 和厚度测量单元（40）和设置在加热炉中的温度控制器（41）。

78. 发明公开

KR1020000001059A 고속전도성세라믹/금속복합재료코팅방법 失效
标题翻译：高速导电陶瓷/金属复合材料涂层方法
公开(公告)号：KR1020000001059A
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019980021104
申请日：1998-06-08
申请人： 한전건
发明人： 한전건
IPC分类号： C23C14/00
CPC分类号： C23C14/352 , C23C14/0688 , C23C14/542
摘要： PURPOSE: A method for forming a metal and ceramic mixed composite material thin film by coating a thin film or a metal and ceramic mixed composite material thin film on the surface of plastic base plate simultaneously using a reactive plasma coating method is provided. CONSTITUTION: In plasma coating apparatus, a vacuum chamber(13) is pumped to maintain under the fixed vacuum condition by a vacuum pump(12), a reaction gas is blown into the vacuum chamber(13), plasma is produced by switching on the electric source of magnetron(2)(8), metal gas and ceramic gas evaporated from a metal target(3) and a ceramic target(9) are coated on the surface of the plastic base plate(4) to give the composite material thin film. At this time, a coating speed is controlled at a speed of 0.5-2 micro meter/min by a high-power magnetron sputtering method, a conductivity of composite material thin film is regulated at 10¬3-10¬9 ohm/cm¬2.
摘要翻译：目的：提供一种通过使用反应性等离子体涂覆法同时在塑料基板的表面上涂覆薄膜或金属和陶瓷混合复合材料薄膜来形成金属和陶瓷混合复合材料薄膜的方法。构成：在等离子体涂覆装置中，通过真空泵（12）泵送真空室（13）以保持在固定的真空条件下，将反应气体吹入真空室（13），通过接通在金属靶（3）和陶瓷靶（9）上蒸发的磁控管（2）（8），金属气体和陶瓷气体的电源涂覆在塑料基板（4）的表面上，以使复合材料薄电影。此时，通过高功率磁控溅射法将涂布速度控制在0.5-2微米/分钟的速度，复合材料薄膜的导电率调节为10 -3〜10欧姆/厘米2 2。

79. 发明授权

KR101871900B1 고주파 스퍼터링 장치 및 스퍼터링 방법 有权
公开(公告)号：KR101871900B1
公开(公告)日：2018-06-27
申请号：KR1020177025057
申请日：2016-03-15
申请人： 가부시키가이샤 알박
发明人： 후지이,요시노리 , 나카무라,신야
IPC分类号： C23C14/50 , C23C14/52 , C23C14/54 , C23C14/34 , H01J37/32 , H01J37/34 , H05H1/46
CPC分类号： H01J37/32697 , C23C14/081 , C23C14/345 , C23C14/35 , C23C14/50 , C23C14/52 , C23C14/542 , H01J37/32715 , H01J37/3405 , H01J37/3426 , H01J37/347 , H01J37/3476
摘要： 처리기판에서발생하는역 스퍼터링양을될 수있는대로억제하여효율적으로성막할수 있는고주파스퍼터링장치를제공한다. 진공상태에서타겟(21)에고주파전력을투입하고, 처리기판(W)의단면(Wa)에대해성막처리하는본 발명에따른고주파스퍼터링장치(SM)는처리기판의단면을개방하면서도전기적으로절연된상태로처리기판을유지하는스테이지(4)를포함한다. 스테이지는그 처리기판의유지면에홈부(42)를가지며, 처리기판의외주가장자리가스테이지의유지면(41)과맞닿도록처리기판을유지할때 처리기판의다른면과홈부의윤곽으로구획되는공간(43)에, 처리기판에근접하는방향또는멀어지는방향으로이동가능하게접지에연결되는가동체(44)를마련한다.

80. 发明公开

KR20180007670A 막 두께 측정 장치, 연마 장치, 막 두께 측정 방법 및 연마 방법 审中-公开
标题翻译：薄膜厚度测量装置抛光装置薄膜厚度测量方法和抛光方法
公开(公告)号：KR20180007670A
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：KR20170084097
申请日：2017-07-03
IPC分类号： G01B7/06 , B24B37/04 , G01B7/008 , G01B21/22 , H01L21/304
CPC分类号： C23C14/542 , G01N27/025
摘要： 사전에필요한막 두께의측정횟수를종래보다저감시킬수 있는막 두께측정장치, 연마장치, 막두께측정방법및 연마방법을제공한다. 와전류센서(210)에의해연마대상물(102)에형성가능한와전류를임피던스로서검출한다. 직교좌표축을갖는좌표계의각 축에, 임피던스의저항성분과리액턴스성분을각각대응시킨다. 각산출부(234)는, 막두께가제로일때의임피던스에대응하는제1 점과, 막두께가제로가아닐때의임피던스에대응하는제2 점을연결하는제1 직선과, 제1 점을지나는원의직경이이루는각의탄젠트를산출한다. 막두께산출부(238)는탄젠트로부터막 두께를구한다.
摘要翻译：通过涡电流传感器将在研磨对象物中形成的涡流检测为阻抗。阻抗的电阻分量和电抗分量分别与具有正交轴的坐标系的各个轴相关联。角度计算器计算连接对应于零膜厚度的阻抗的第一点和对应于非零膜厚度的阻抗的第二点的第一直线与第一直线之间的交叉角的切线，通过第一点的圆圈。膜厚计算器根据切线确定膜厚。

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