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52. 发明授权

KR101878622B1 광경화성 조성물, 그를 사용한 경화물 패턴의 제조 방법, 광학 부품의 제조 방법, 및 회로 기판의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101878622B1
公开(公告)日：2018-07-13
申请号：KR1020177004271
申请日：2015-07-22
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이토도시키 , 혼마다케시 , 요네자와시오리 , 오타니도모노리 , 이와시타가즈미
IPC分类号： C08F2/50 , C08F222/10 , G03F7/00 , G03F7/027 , G03F7/029 , H01L21/027
CPC分类号： C08F220/18 , B05D3/06 , B05D3/12 , C08F2/48 , C08F222/10 , C08F222/1006 , C08F2222/102 , G02B1/04 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/029 , H01L21/0273 , H01L21/0274 , H01L21/4846 , H05K3/06 , H05K3/064
摘要： 중합성화합물; 및광중합개시제를포함하는광경화성조성물이며, 여기서상기광경화성조성물은상기중합성화합물로서하기일반식 (1)로나타내어지는화합물을함유하는광경화성조성물.여기서, 상기일반식 (1)에서, Ar은치환기를가질수 있는 1가의방향족기를나타내고, R은치환기를가질수 있는알킬기또는수소원자를나타내고, R는치환기를가질수 있는 (m+n)가의알킬기를나타내고, m은 2 이상의정수이고, n은 1 이상의정수이다.

53. 发明公开

KR1020170120138A 패턴의 형성 방법, 가공 기판, 광학 부품, 회로 기판, 또는 전자 부품의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：形成图案的方法，处理过的基板，光学部件，电路板或方法
公开(公告)号：KR1020170120138A
公开(公告)日：2017-10-30
申请号：KR1020177026365
申请日：2016-01-27
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이토도시키 , 요네자와시오리 , 치바게이코 , 이이무라아키코
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/027 , H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/311
CPC分类号： H05K3/0079 , G02B5/1809 , G02B5/1852 , G02B5/3025 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/029 , H01L21/0273 , H01L21/0337 , H01L21/31144 , H05K3/30 , H05K2203/107
摘要： 기판상에광경화성조성물을배치하는단계; 요철패턴을갖는몰드를상기조성물과접촉시키는단계; 상기광경화성조성물에광을조사하여경화막을형성하는단계; 상기경화막으로부터상기몰드를이형하는단계; 상기몰드로부터전사된요철패턴을갖는경화막상에반전층을형성하는단계; 상기경화막에형성된패턴의오목부에상기반전층이남아있는방식으로상기패턴의볼록부를노출하도록상기반전층의일부를제거하는단계; 및상기오목부에남아있는상기반전층을마스크로서사용하여, 광경화성조성물을에칭하여반전층패턴을형성하는단계에의해패턴이형성되며, 상기몰드는상기조성물에서의용해성을갖는용해성가스분위기에서광경화성조성물과접촉되고; 상기용해성가스는 38 부피% 이상의포화용해도를갖는다.
摘要翻译：将光固化组合物置于基底上; 使具有不平坦图案的模具与组合物接触; 用光照射光固化组合物以形成固化膜; 从固化膜释放模具; 在具有从模具转印的凹凸图案的固化膜上形成反转层; 以反转层保留在形成于固化膜中的图案的凹入部分中的方式去除部分反转层以暴露图案的凸起部分; 和所述使用残留在凹部作为掩模，在光固化性组合物蚀刻在所述反转层和图案通过形成反转层形成图案，将模具从视线的溶解度可溶性气体气氛eseoui组合物与火星作品接触; 可溶性气体具有至少38体积％的饱和溶解度。

54. 发明公开

KR1020170117586A 패터닝 방법, 가공 기판의 제조 방법, 광학 부품의 제조 방법, 회로 기판의 제조 방법, 및 전자 부품의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：图案化方法，制造处理后的基板的方法，光学部件制造方法，电路基板制造方法以及电子部件制造方法
公开(公告)号：KR1020170117586A
公开(公告)日：2017-10-23
申请号：KR1020177026350
申请日：2016-02-15
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이토도시키 , 혼마다케시 , 요네자와시오리 , 오타니도모노리 , 이와시타가즈미
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/027 , H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/311
CPC分类号： H01L21/31144 , G03F7/0002 , G03F7/027 , H01L21/0273 , H01L21/0337 , H01L21/31116
摘要： 반전프로세스에서원하는패턴을형성하기위한패터닝방법을제공하는것이다. 패터닝방법을반전프로세스를포함한다. 광경화성조성물은적어도중합성화합물 (A) 성분및 광중합개시제 (B) 성분을함유한다. 상기 (A) 성분은몰 분율가중평균분자량이 200 이상 1000 이하이다. 상기 (A) 성분은 3.80 이상의오니시파라미터(OP)를갖는다. 상기 (A) 성분의오니시파라미터(OP)는 N/(N-N) 값의몰 분율가중평균값이고, 여기서 N은분자중의총 원자개수이고, N은상기분자중의탄소원자개수이며, N은상기분자중의산소원자개수이다.
摘要翻译：并提供用于在反转过程中形成所需图案的图案化方法。并包括图案化方法的反演过程。光固化性组合物至少含有共聚性化合物的化合物（A）和光聚合引发剂（B）成分。组分（A）具有200以上且1000以下的摩尔分数重均分子量。组分（A）具有3.80或更高的正辛性参数（OP）。（A）是N /（NN）的摩尔分数加权平均值，其中N是分子中的原子总数，N是银相部分中的碳原子数，N是数氧原子数。

55. 发明授权

KR101752109B1 광경화성 조성물 및 이를 사용한 광학 부품의 제조 방법 有权
标题翻译：光固化组合物和使用其的光学组件的制造方法
公开(公告)号：KR101752109B1
公开(公告)日：2017-06-28
申请号：KR1020167001320
申请日：2014-06-19
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 혼마다케시 , 이토도시키 , 요네자와시오리 , 치바게이코 , 야마시타게이지
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F1/00 , G03F1/80
CPC分类号： B29C59/026 , B29C33/62 , B29C59/002 , B29C59/005 , B29K2033/08 , B29K2105/0005 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F220/18 , C08F222/1006 , C08K2201/00 , C08L33/08 , G03F7/0002 , H01L21/0271 , H01L21/266 , C08F2220/1875 , C08F2222/1013
摘要： 응축성가스분위기하의임프린트방법에서는, 몰드를레지스트경화막으로부터분리하기 (이형시키기) 위해필요한힘 (이형력)이컸다. 응축성가스함유분위기하에임프린트를행하기위한광경화성조성물은 (메트)아크릴레이트단량체인성분 (A)와, 광중합개시제인성분 (B)와, 이형제인성분 (C)를포함한다. 5도 (섭씨온도) 및 1 atm에서상기응축성가스중 상기성분 (C)의포화용해도는 50 중량% 이상이고, 상기응축성가스는 5도 (섭씨온도) 및 1 atm에서액상이다.
摘要翻译：在可冷凝气体的气氛下的压印方法中，从抗蚀剂固化膜分离（释放）模具所需的力（释放力）很大。用于冷凝含有气体的气氛下，使压印光固化组合物包括（甲基）组分（A）的丙烯酸酯单体，与组分（B）光聚合引发剂，释放剂（C）成分。度（℃）和在1个大气压的可冷凝气体的成分（C）5水中的溶解度为按重量计至少50％，可冷凝气体是在5℃（摄氏度）和1个大气压为液体状态。

56. 发明授权

KR101724225B1 감광성 가스 발생제, 광경화성 조성물, 막의 제조 방법, 회로를 갖는 기판의 제조 방법, 및 광학 부재 有权
标题翻译：感光气体发生剂，光固化性组合物，膜的制造方法，与电路基板的制造方法，以及光学构件
公开(公告)号：KR101724225B1
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：KR1020157026277
申请日：2014-03-04
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 기타가와겐지 , 이토도시키
IPC分类号： G03F7/00 , C07C311/17 , C08F2/48 , H01L21/02 , H01L21/027
CPC分类号： C08K5/435 , B29C35/0805 , B29C59/005 , B29C59/026 , B29D11/00865 , B29K2033/12 , B29L2031/3425 , C07C311/17 , C07C311/44 , C08F2/48 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , H01L21/02118 , H01L21/0274 , Y10T428/24612
摘要： 저노광량에서도이형력저감효과가우수한광경화성조성물, 및상기광경화성조성물에함유되는감광성가스발생제를제공한다. 감광성가스발생제는, 광자극에의해가스를발생시키는광자극응답성가스발생기, 퍼플루오로알킬기, 및상기광자극응답성가스발생기와상기퍼플루오로알킬기를연결하는폴리알킬렌옥시기를갖는화합물이다. 광경화성조성물은상기감광성가스발생제를함유한다.
摘要翻译：在剥离力降低的效果曝光的低量优异光固化组合物，并且提供包含在所述光固化性组合物中的光敏气体发生jereul。刺激产气组合物，具有气体发生器，全氟烷基，和聚亚烷基氧基的连接基团的气体发生器的光刺激响应性和全氟通过光刺激而生成气体的光刺激应答的化合物一。光固化组合物含有光敏气体发生剂。

57. 发明授权

KR101700491B1 경화물의 제조 방법 및 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：生产固化产品的方法和形成图案的方法
公开(公告)号：KR101700491B1
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：KR1020147020114
申请日：2012-12-12
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 스즈키다츠야 , 이토도시키 , 미하라지에코
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02 , C08F2/46 , C08F2/00
CPC分类号： H05K3/00 , H01L21/3086 , H05K2203/0502
摘要： 본발명은경화물의제조방법에서작은이형력을필요로하는광경화성조성물및 작은이형력으로경화물을제조하는방법을제공한다. 본발명의경화물의제조방법은광경화성조성물을베이스재료상에도포하는단계; 몰드를상기광경화성조성물에가압하여광경화성조성물에패턴을형성하는단계; 패턴을구비한광경화성조성물에제1 광을조사하여패턴을갖는경화물을생성하는단계; 및상기경화물로부터몰드를이형시키는단계를포함하며, 여기서상기경화물과몰드사이에가스발생제로부터가스발생영역을형성하고; 상기가스발생영역에제2 광을조사하여상기가스발생영역에서가스를발생시키며; 상기가스의발생이후에또는가스의발생과동시에상기경화물로부터몰드를이형시킨다.
摘要翻译：本发明提供了在固化物的制造方法中需要小的脱模力的光固化性组合物，还提供了具有小的脱模力的固化物的制造方法。固化物的制造方法包括将光固化性组合物涂布在基材上; 将模具压制到光固化组合物上以在光固化组合物中形成图案; 用第一光照射设置有图案的光固化性组合物，生成具有图案的固化物; 从固化物中脱模，其中在固化物与模具之间由气体发生剂形成气体发生区域; 用第二光照射气体产生区域，以在气体产生区域中产生气体; 并且在产生气体之后或同时产生气体时，模具从固化产物中释放出来。

58. 发明授权

KR101698255B1 광경화물 및 이의 제조 방법 有权
标题翻译：光电产品及其生产方法
公开(公告)号：KR101698255B1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：KR1020147024341
申请日：2013-01-31
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 무라야마요헤이 , 이토도시키 , 미하라치에코 , 오키나카모토키
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/42 , G03F7/32 , G03F7/004 , G03F7/075
CPC分类号： H01L21/0274 , B29C33/62 , B29C39/026 , B29C2035/0827 , B82Y10/00 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , G03F1/76 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/027 , H01L21/3081
摘要： 광임프린트방법을사용해서제조되며우수한패턴정확도및 패턴결함의개선을나타내는광경화물을제공하고자한다. 본발명은몰드와접촉된코팅막에광을조사함으로써얻어지는광경화물을제공하며, 상기광경화물은플루오린원자함유계면활성제를함유하고, 비행시간형 2차이온질량분석법에근거한광경화물의표면분석에의해얻은 2차이온신호들중에서, CHO이온신호의강도가 CHO이온신호의강도보다더 높다.
摘要翻译：旨在提供使用光印方法制备的光固化产品，并且具有良好的图案精度和图案缺陷的改进。本发明提供一种通过用光照射与模具接触的涂膜而获得的光固化产物，所述光固化产物含有含氟原子的表面活性剂，其中通过基于时间依赖性的光固化产品的表面分析获得的二次离子信号，飞行时间二次离子质谱法，C2H5O +离子信号的强度高于C3H7O +离子信号强度。

59. 发明公开

KR1020160122248A 광임프린트용 경화성 조성물, 경화물, 및 상기 조성물을 사용한 패턴을 갖는 막, 광학 부품, 회로 기판 또는 전자 부품의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于光固化产品的可固化组合物和使用组合物制造具有图案光学组件电路板或电子组件的膜的方法
公开(公告)号：KR1020160122248A
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：KR1020167025471
申请日：2015-02-10
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 혼마다케시 , 이토도시키 , 요네자와시오리 , 가와사키요오지 , 이이무라아키코
IPC分类号： C08F2/48 , G03F7/00 , G03F7/029 , G03F7/031 , C08F220/10 , C08F220/18 , C08F222/10
CPC分类号： H05K3/06 , B29C35/0805 , B29C59/02 , B29C2035/0827 , B29L2007/008 , C08F2/48 , C08F220/10 , G03F7/0002 , G03F7/029 , G03F7/031 , H05K3/30 , C08F2220/185 , C08F2220/1875 , C08F2222/1013
摘要： 응축성가스를함유하는기체의분위기하에서의임프린트방법에서는, 광임프린트용경화성조성물이경화하기어려워져, 패턴이완전히형성되지않고결함을유발한다. 본발명은응축성가스를함유하는기체의분위기하에서의광임프린트용경화성조성물에관한것이다. 상기광임프린트용경화성조성물은적어도하기 (A) 성분및 (B) 성분을포함한다: (A) 중합성화합물, 및 (B) 광중합개시제. 상기 (B) 성분은, 5℃및 1 atm에서액상인상기응축성가스중 포화용해도가 1 중량% 미만이거나, 또는상기응축성가스에대한한센거리(Ra)가 7.6보다크다.

60. 发明授权

KR101655001B1 막 형성 방법 有权
标题翻译：形成薄膜的方法
公开(公告)号：KR101655001B1
公开(公告)日：2016-09-06
申请号：KR1020147013187
申请日：2012-10-19
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이토도시키 , 마츠후지나오코 , 가와하타가나에
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02
CPC分类号： B05D3/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/022 , G03F7/027 , G03F7/038
摘要： 본발명은막 제조방법을제공하며, 본발명의막 제조방법은기판상에중합성단량체, 광중합개시제및 광자극을통해서가스를발생하는감광성가스발생제를함유하는광 경화성조성물을도포하여도포막을형성하는공정; 몰드를상기도포막과접촉시키는공정; 상기도포막에몰드를통해서광을조사하여도포막을경화시키고도포막에가스를발생시키는공정; 및도포막에광을조사한후에도포막으로부터상기몰드를이형시켜서기판상에미리정해진패턴형상을갖는막을형성하는공정을포함하며, 상기도포막에광을조사할때, 상기도포막내의중합성단량체의중합반응의반응속도가상기도포막내의감광성가스발생제의가스발생반응의반응속도보다더 크다.
摘要翻译：提供一种薄膜的制造方法，其特征在于，在基板上涂布含有聚合性单体，光聚合引发剂和感光性气体发生剂的光固化性组合物，所述光固化性组合物通过光刺激产生气体，形成涂膜; 使模具与涂膜接触; 通过模具照射涂布的膜以固化涂膜并在涂膜中产生气体; 并且在用所述涂敷膜照射所述膜之后，从所述涂膜剥离所述模具，以在所述基材上形成具有预定图案形状的膜（固化膜），其中在所述涂布膜用所述光照射时，涂布膜中的聚合性单体的聚合反应速度高于涂布膜中的感光性气体发生剂的气体发生反应的反应速度。

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