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    • 7. 发明授权
    • 광경화성 조성물 및 반도체장치의 제조방법
    • KR102419523B1
    • 2022-07-12
    • KR1020187035933
    • 2017-07-31
    • G03F7/11C08F2/50G03F7/20G03F7/40H01L21/027
    • [과제] 패턴에대한충전성이높고, 열수축이발생하지않는도막형성이가능한평탄화성을갖는피막을기판상에형성하기위한광경화성조성물을제공한다. [해결수단] 적어도 1개의광분해성함질소구조및/또는광분해성함황구조와, 탄화수소구조를포함하는화합물, 및용제를포함하는광경화성조성물. 광분해성함질소구조및/또는광분해성함황구조를분자내에 1개이상갖는화합물. 광분해성함질소구조및/또는광분해성함황구조와탄화수소구조가동일분자내에존재하는화합물이거나, 또는상이한분자간에이 구조가각각존재하는화합물의조합. 탄화수소구조가탄소원자수 1~40의포화또는불포화이고, 직쇄, 분지또는환상의탄화수소기이다. 광분해성함질소구조가, 자외선조사에의해발생한반응성함질소관능기또는반응성함탄소관능기를포함하고, 광분해성함황구조가, 자외선조사에의해발생한유기황라디칼, 또는탄소라디칼을포함하는구조이다.