专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR102256347B1 패턴 형성 방법, 및 가공 기판, 광학 부품 및 석영 몰드 레플리카의 제조 방법, 및 임프린트 전처리 코팅 재료 및 그와 임프린트 레지스트와의 세트 有权
公开(公告)号：KR102256347B1
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：KR1020197028266
申请日：2018-03-02
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 치바게이코 , 이시다신고 , 안도도시아키 , 이토도시키 , 스태초위악브라이언티모시 , 리우웨이쥔
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027 , B29C59/02 , G03F7/16 , G03F7/004
摘要： 본발명의목적은높은처리량을제공하며, 샷영역을균일한정밀도로가공가능한패턴형성방법을제공하는것이다. 기판의표면상에중합성화합물인성분 (a1)을적어도함유하는경화성조성물 (A1)로형성된층을적층하는단계 (1), 상기경화성조성물 (A1)의상기층 상에중합성화합물인성분 (a2)를적어도함유하는경화성조성물 (A2)의액적을이산적으로적하하여상기액적을적층하는단계 (2), 몰드와상기기판사이에, 상기경화성조성물 (A1)과상기경화성조성물 (A2)가부분적으로혼합됨으로써수득된층을샌드위치하는단계 (3), 상기경화성조성물 (A1)과경화성조성물 (A2)가부분적으로혼합됨으로써수득된층을, 상기몰드의측면으로부터광을조사하는것에의해상기층을한 번에경화시키는단계 (4); 및경화후의상기경화성조성물로형성된층으로부터상기몰드를이형시키는단계 (5)를이러한순서로수행하는것을포함하는광 나노임프린트기술에의한경화물패턴제조방법이며, 샷영역당상기경화성조성물 (A2)의체적 (Vr)을상기경화성조성물 (A1)의체적 (Vc)로나눈값 Vr/Vc가 4 이상 15 이하인, 패턴형성방법이제공된다.

2. 发明授权

KR102209277B1 패턴 형성 방법, 가공 기판의 제조 방법, 광학 부품의 제조 방법, 회로 기판의 제조 방법, 전자 부품의 제조 방법, 임프린트 몰드의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102209277B1
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：KR1020187030398
申请日：2017-03-29
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이토도시키 , 오타니도모노리 , 치바게이코 , 리우웨이준 , 스태초위악브라이언티모시
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/16 , B29C59/02 , B05D1/30 , B05D3/04 , B05D3/12 , B29L11/00 , B29L31/34
摘要： 중합성화합물인성분 (a1) 및용제인성분 (d1)을포함하는경화성조성물 (A1)의층을기판표면에적층하고, 상기경화성조성물의층 상에, 적어도중합성화합물인성분 (a2)를포함하는경화성조성물 (A2)의액적을이산적으로적하하고, 계속해서몰드와상기기판의사이에상기경화성조성물 (A1) 및상기경화성조성물 (A2)의혼합층을샌드위치하고, 상기혼합층에광을조사함으로써경화시키고, 상기몰드를경화후의상기혼합층으로부터분리하여, 상기기판상에패턴을형성한다.

3. 发明授权

KR102208977B1 패턴 형성 방법과, 가공 기판, 광학 부품, 회로 기판, 전자 부품 및 임프린트 몰드의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102208977B1
公开(公告)日：2021-01-28
申请号：KR1020187030447
申请日：2017-03-28
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 오타니도모노리 , 이토도시키
IPC分类号： G03F7/00 , C09D11/101 , G03F7/16 , C09D11/30 , C09D4/00
摘要： 중합성화합물인성분 (a1) 및성분 (e1)을포함하는경화성조성물 (A1)의층을기판의표면에형성한후, 상기경화성조성물 (A1)의층 상에, 적어도중합성화합물인성분 (a2)를포함하는경화성조성물 (A2)의액적을이산적으로적하하고, 이어서몰드와기판사이에상기경화성조성물 (A1) 및상기경화성조성물 (A2)의혼합층을샌드위치한후, 상기혼합층을광을조사함으로써경화시켜, 상기몰드를경화후의상기혼합층으로부터분리함으로써, 상기기판상에패턴이형성되며, 용제를제외한상기경화성조성물 (A1)의성분의조성물의표면장력이용제를제외한상기경화성조성물 (A2)의성분의조성물의표면장력보다높다.

4. 发明授权

KR102136630B1 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102136630B1
公开(公告)日：2020-07-22
申请号：KR1020170018601
申请日：2017-02-10
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이이무라아키코 , 이토도시키
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/20

5. 发明授权

KR101938504B1 광경화성 조성물, 및 그를 사용한 경화물 패턴의 형성 방법, 및 광학 부품, 회로 기판 및 임프린트용 몰드의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101938504B1
公开(公告)日：2019-01-14
申请号：KR1020177007238
申请日：2015-08-18
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이토도시키 , 혼마다케시 , 요네자와시오리
IPC分类号： C08F2/48 , C08F2/44 , G03F7/20 , G03F7/004

6. 发明授权

KR101900629B1 밀착층 조성물, 광경화물 패턴을 형성하는 방법, 광학 부품, 회로 기판, 전자 기기 및 임프린트 몰드의 제조 방법, 및 디바이스 부품 有权
公开(公告)号：KR101900629B1
公开(公告)日：2018-09-19
申请号：KR1020177003372
申请日：2015-06-26
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 혼마다케시 , 이토도시키 , 오타니도모노리 , 이와시타가즈미
IPC分类号： C09J7/00 , B32B27/28 , B32B27/24 , C09J201/02 , B29C59/02
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C35/0805 , B29C2035/0827 , B29K2033/08 , B29K2105/0002 , B32B3/00 , B32B3/02 , B32B3/06 , B32B3/30 , B32B7/00 , B32B7/12 , B32B27/00 , B32B27/06 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/24 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/308 , B32B27/38 , B32B27/40 , B32B2255/26 , B32B2307/40 , B32B2307/4023 , B32B2307/75 , B32B2405/00 , B32B2457/00 , B32B2457/08 , B32B2551/00 , C09J4/00 , C09J4/06 , C09J5/06 , G02B1/04 , G03F7/11 , H01L21/0271 , H01L21/266 , H01L21/308
摘要： 나노임프린트공정에서, 광경화물과기판과의밀착성이불충분하기때문에, 광경화물은종종기판으로부터박리되어서몰드에부착된다. 이는패턴의박리결함을유발한다. 기판과광경화성조성물사이에밀착층을형성하기위해사용되는밀착층조성물은적어도 2개의관능기를갖는화합물 (A) 및용제 (B)를포함한다. 상기관능기는, 수산기, 카르복실기, 티올기, 아미노기, 에폭시기, (블록) 이소시아네이트기로이루어지는군으로부터선택되는, 상기기판과결합할수 있는적어도 1개의관능기, 및상기광경화성조성물과결합할수 있는관능기로서적어도 1개의수소공여성기를포함한다.

7. 发明公开

KR1020170118191A 나노임프린트용 액체 재료, 나노임프린트용 액체 재료의 제조 방법, 경화물 패턴의 제조 방법, 광학 부품의 제조 방법, 및 회로 기판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于纳米压印的液体材料，用于纳米压印的液体材料的制造方法，制造固化产品的方法，制造光学部件的方法以及制造电路板的方法
公开(公告)号：KR1020170118191A
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：KR1020177026186
申请日：2016-02-23
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 가토준 , 혼마다케시 , 이토도시키
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , B29C59/02
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C59/005 , B29C59/02 , B29D11/00269 , B29D11/00769 , B29K2033/08 , C08L35/02 , C08L2205/02 , C08L2205/03 , G02B1/04 , G03F7/027 , G03F7/029 , G03F7/16 , H01L21/266 , H01L21/3105 , H01L21/481 , H05K3/0017 , H05K3/0079
摘要： 입경이 0.07 μm 이상인입자의입자개수농도가 310개/mL 미만인나노임프린트용액체재료가제공된다.
摘要翻译：提供了一种用于纳米压印的液体材料，其中具有0.07或更大的粒径的颗粒的颗粒数量浓度小于310个颗粒/ mL。

8. 发明公开

KR1020170095152A 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 审中-实审
标题翻译：压印设备和物品制造方法
公开(公告)号：KR1020170095152A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：KR1020170018601
申请日：2017-02-10
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이이무라아키코 , 이토도시키
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/0002
摘要： 임프린트장치는, 임프린트재에몰드를접속시킨상태에서임프린트재에광을조사함으로써라디칼중합성임프린트재를경화시켜패턴을형성한다. 상기장치는임프린트재에광을조사하도록구성되는조사기및 상기조사기를제어하도록구성되는제어기를포함한다. I를임프린트재에조사되는광의조도로하고, t를임프린트재에광이조사되는시간으로하고, k를계수로하며, PD를광이조사된임프린트재의목표광 중합도로했을때, 상기제어기는 PD = k × (√I) × t에따라조사시간을결정한다.
摘要翻译：压印装置通过在模具与压印材料连接的同时通过用光照射压印材料来固化经自由基浸渍的压印材料来形成图案。该设备包括配置成将光照射到压印材料的照射器和配置成控制照射器的控制器。在光强度的I要被照射到压印件和一吨，其中光被照射到压印材料中的时间，并且通过因子A K，当它是在压印材料目标光学聚合度照射PD reulgwang，控制器PD = 照射时间根据k×（√I）×t确定。

9. 发明授权

KR101735228B1 임프린트 방법 및 임프린트용 경화성 조성물 有权
标题翻译：压印方法和印迹可固化组合物
公开(公告)号：KR101735228B1
公开(公告)日：2017-05-12
申请号：KR1020157016570
申请日：2013-11-26
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 치바게이코 , 이토도시키 , 이이무라아키코 , 가와사키요오지 , 야마시타게이지 , 가토준
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027
CPC分类号： C08F222/20 , B29C59/005 , B29C59/02 , B29C59/022 , B29C59/16 , B29K2033/12 , B29L2011/00 , B29L2031/3406 , C08F220/18 , C08F222/10 , C08F222/1006 , C08F2222/1013 , C08L33/08 , C08L2312/00 , C09D133/08 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/028 , G03F7/029 , C08F2220/1891 , C08F2220/1875 , C08F2220/301
摘要： 최대응축성가스용해도 (가스/(경화성조성물 + 가스)) (g/g)가 0.1 이상 0.4 이하이고, 23℃에서의점도가 40 cP 이하인, 응축성가스분위기하에서의임프린트용경화성조성물. 최대응축성가스용해도는, 9 ml 갈색병을경화성조성물 3 g으로채우고, 응축성가스를 0.1 L/min의유량으로 15분간버블링하기전 및후에 23℃, 1 atm에서상기경화성조성물의중량을측정하고, 상기버블링으로인해증가한중량을상기경화성조성물및 상기응축성가스의총 중량으로나눔으로써결정된다.
摘要翻译：的最大溶解度冷凝气体（气体/（固化性组合物+气体））（克/克）为0.1以上至0.4以下，和40厘泊或更小，可冷凝气体气氛的eseoui 23℃粘度下压印固化性组合物。通过用3g可固化组合物填充9ml棕色瓶子并测量可固化组合物在以0.1L /分钟的流速起泡可冷凝气体之前和之后的重量来确定最大可冷凝气体溶解度，并且将因起泡而增加的重量除以可固化组合物和可冷凝气体的总重量。

10. 发明公开

KR1020170035963A 광경화성 조성물, 그를 사용한 경화물 패턴의 제조 방법, 광학 부품의 제조 방법, 및 회로 기판의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：光固化性组合物，使用其制造固化物图案的方法，光学部件的制造方法以及电路基板的制造方法
公开(公告)号：KR1020170035963A
公开(公告)日：2017-03-31
申请号：KR1020177004271
申请日：2015-07-22
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이토도시키 , 혼마다케시 , 요네자와시오리 , 오타니도모노리 , 이와시타가즈미
IPC分类号： C08F2/50 , C08F222/10 , G03F7/00 , G03F7/027 , G03F7/029 , H01L21/027
CPC分类号： C08F220/18 , B05D3/06 , B05D3/12 , C08F2/48 , C08F222/10 , C08F222/1006 , C08F2222/102 , G02B1/04 , G03F7/0002 , G03F7/027 , G03F7/029 , H01L21/0273 , H01L21/0274 , H01L21/4846 , H05K3/06 , H05K3/064
摘要： 중합성화합물; 및광중합개시제를포함하는광경화성조성물이며, 여기서상기광경화성조성물은상기중합성화합물로서하기일반식 (1)로나타내어지는화합물을함유하는광경화성조성물.여기서, 상기일반식 (1)에서, Ar은치환기를가질수 있는 1가의방향족기를나타내고, R은치환기를가질수 있는알킬기또는수소원자를나타내고, R는치환기를가질수 있는 (m+n)가의알킬기를나타내고, m은 2 이상의정수이고, n은 1 이상의정수이다.
摘要翻译：可聚合化合物; 光聚合引发剂，其中，所述光固化性组合物含有下述通式（1）所示的化合物作为所述重量固化性组合物，所述通式（1）中，Ar R表示可以具有取代基的烷基或氢原子，R表示可以具有取代基的（m + n）价的烷基，m表示2或更大的整数，n表示1的整数 Lt。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式