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1. 发明授权

KR101605282B1 광경화성 조성물 및 이를 사용한 패터닝 방법 有权
标题翻译：使用相同的光固化组合物和图案方法
公开(公告)号：KR101605282B1
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：KR1020147014505
申请日：2012-10-24
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이토도시키 , 미하라치에코 , 고마츠가나에 , 오키나카모토키
IPC分类号： C08F2/50 , C08F2/44 , B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： C08K5/06 , B05D3/067 , B05D3/12 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/24 , C08F2/48 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/038 , H05K3/0014 , H05K3/0017 , Y10T428/24802
摘要： 본발명은작은이형력을필요로하는광경화성조성물을제공한다. 또한, 본발명은작은이형력을필요로하는 UV 임프린트방법을제공한다. 본발명의광경화성조성물은광중합성모노머 (A), 중합개시제 (B), 및불소함유계면활성제 (C)를함유한다. 본발명의광경화성조성물의광경화물은 74도이하의수 접촉각을갖는다.

2. 发明授权

KR101698255B1 광경화물 및 이의 제조 방법 有权
标题翻译：光电产品及其生产方法
公开(公告)号：KR101698255B1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：KR1020147024341
申请日：2013-01-31
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 무라야마요헤이 , 이토도시키 , 미하라치에코 , 오키나카모토키
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/42 , G03F7/32 , G03F7/004 , G03F7/075
CPC分类号： H01L21/0274 , B29C33/62 , B29C39/026 , B29C2035/0827 , B82Y10/00 , B82Y15/00 , B82Y40/00 , G03F1/76 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/027 , H01L21/3081
摘要： 광임프린트방법을사용해서제조되며우수한패턴정확도및 패턴결함의개선을나타내는광경화물을제공하고자한다. 본발명은몰드와접촉된코팅막에광을조사함으로써얻어지는광경화물을제공하며, 상기광경화물은플루오린원자함유계면활성제를함유하고, 비행시간형 2차이온질량분석법에근거한광경화물의표면분석에의해얻은 2차이온신호들중에서, CHO이온신호의강도가 CHO이온신호의강도보다더 높다.
摘要翻译：旨在提供使用光印方法制备的光固化产品，并且具有良好的图案精度和图案缺陷的改进。本发明提供一种通过用光照射与模具接触的涂膜而获得的光固化产物，所述光固化产物含有含氟原子的表面活性剂，其中通过基于时间依赖性的光固化产品的表面分析获得的二次离子信号，飞行时间二次离子质谱法，C2H5O +离子信号的强度高于C3H7O +离子信号强度。

3. 发明公开

KR1020150016404A 경화성 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：可固化组合物和使用该方法的方法
公开(公告)号：KR1020150016404A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：KR1020157000091
申请日：2013-05-21
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 미하라치에코 , 이토도시키 , 오키나카모토키
IPC分类号： C08F2/44 , C08F2/50 , C08F20/18 , C08F222/10 , G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/11 , B29C59/02
CPC分类号： C08F222/1006 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F20/18 , C08F2222/1013 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/11 , Y10T428/24802 , B29C59/02 , C08F2810/20
摘要： 본 발명의 경화성 조성물은 중합성 화합물 및 중합 개시제를 함유한다. 상기 중합 개시제는 중합을 개시하여 상기 중합성 화합물을 경화시킨다. 본 발명의 경화성 조성물은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 더 함유한다:

상기 식에서, X1은 히드록시 기, 카르복시 기, 술포 기, 아미노 기, 및 알콕시 기로 이루어진 군으로부터 선택된 관능기를 가리키고, l1은 0 내지 7 범위의 정수를 가리키며, m1은 1 내지 5 범위의 정수를 가리키고, n1은 1 내지 16 범위의 정수를 가리키며, X2는 히드록시 기, 카르복시 기, 술포 기, 아미노 기, 및 알콕시 기로 이루어진 군으로부터 선택된 관능기를 가리키고, l2는 0 내지 7 범위의 정수를 가리키며, m2는 1 내지 5 범위의 정수를 가리키고, n2는 1 내지 16 범위의 정수를 가리킨다.

4. 发明授权

KR102022745B1 임프린트 방법, 임프린트 장치, 몰드 및, 물품 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102022745B1
公开(公告)日：2019-09-18
申请号：KR1020150153599
申请日：2015-11-03
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 세키준이치 , 오키나카모토키
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/56 , B29C43/36

5. 发明授权

KR101734632B1 광경화물 有权
标题翻译：视力货物
公开(公告)号：KR101734632B1
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：KR1020147036330
申请日：2013-05-21
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 미하라치에코 , 이토도시키 , 무라야마요헤이 , 오키나카모토키
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： H05K3/10 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08J5/00 , C08J2335/02 , G03F7/0002 , H05K1/0373 , Y10T428/24802
摘要： 본발명은이형력이작은광경화물을제공한다. 본발명의광경화물은광 경화에의해얻어지고계면활성제를포함하며, 여기서에테르결합-유도피크의피크면적이에스테르결합-유도피크의피크면적의 3배이상이고, 상기피크면적은상기광경화물의최상표면에서탄소의화학상태에관한분석결과로서얻어지는 X선광전자분광스펙트럼의커브피팅에의한피크분리처리에의해얻어지며, 상기분석결과는각도분해 X선광전자분광분석을사용한광경화물의표면분석에의해얻은광경화물의최상표면상의분석결과중 하나이다.
摘要翻译：本发明提供了具有小的释放力的光学产品。由本发明的光银矿固化获得包括表面活性剂，其中酯键的感应峰的醚键的峰面积是引起的峰值的峰面积的至少三倍，峰面积是最好的光组由峰值分离过程通过如在表面上的碳的化学状态的分析结果中获得的X射线光电子光谱的曲线拟合获得的分析结果由光设定使用角度分辨X射线光电子能谱分析的表面分析这是获得的光电二极管顶面分析结果之一。

6. 发明授权

KR101734735B1 경화성 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：可固化组合物和使用其形成图案的方法
公开(公告)号：KR101734735B1
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：KR1020157000091
申请日：2013-05-21
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 미하라치에코 , 이토도시키 , 오키나카모토키
IPC分类号： C08F2/44 , C08F2/50 , C08F20/18 , C08F222/10 , G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/11 , B29C59/02
CPC分类号： C08F222/1006 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08F20/18 , C08F2222/1013 , G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/11 , Y10T428/24802
摘要： 본발명의경화성조성물은중합성화합물및 중합개시제를함유한다. 상기중합개시제는중합을개시하여상기중합성화합물을경화시킨다. 본발명의경화성조성물은하기화학식 1로표시되는화합물및 하기화학식 2로표시되는화합물을더 함유한다: 상기식에서, X1은히드록시기, 카르복시기, 술포기, 아미노기, 및알콕시기로이루어진군으로부터선택된관능기를가리키고, l1은 0 내지 7 범위의정수를가리키며, m1은 1 내지 5 범위의정수를가리키고, n1은 1 내지 16 범위의정수를가리키며, X2는히드록시기, 카르복시기, 술포기, 아미노기, 및알콕시기로이루어진군으로부터선택된관능기를가리키고, l2는 0 내지 7 범위의정수를가리키며, m2는 1 내지 5 범위의정수를가리키고, n2는 1 내지 16 범위의정수를가리킨다.
摘要翻译：本发明的可固化组合物含有可共聚化合物和聚合引发剂。聚合引发剂引发聚合反应以固化化合物。本发明的固化性组合物还含有由下式1表示由下述化合物表示的化合物和下述式（2）：<通式1> <通式2>其中，X 1是羟基，羧基，磺基，氨基，和烷氧基点到从包括以下项的组中选择的官能团，L 1是一个指针，指向从0至7范围内的整数，M 1表示1〜5范围内的整数，其中n1是指整数从1到16，X 2为羟基，羧基，磺，指向从氨基基团中的官能团，以及由烷氧基的组，L 2是指向从0至7范围内的整数，M2表示从1至5范围内的整数，N 2表示的整数从1到16。

7. 发明公开

KR1020150027119A 광경화물 有权
标题翻译：光电产品
公开(公告)号：KR1020150027119A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：KR1020147036330
申请日：2013-05-21
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 미하라치에코 , 이토도시키 , 무라야마요헤이 , 오키나카모토키
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： H05K3/10 , C08F2/44 , C08F2/50 , C08J5/00 , C08J2335/02 , G03F7/0002 , H05K1/0373 , Y10T428/24802
摘要： 본 발명은 이형력이 작은 광경화물을 제공한다. 본 발명의 광경화물은 광 경화에 의해 얻어지고 계면활성제를 포함하며, 여기서 에테르 결합-유도 피크의 피크 면적이 에스테르 결합-유도 피크의 피크 면적의 3배 이상이고, 상기 피크 면적은 상기 광경화물의 최상 표면에서 탄소의 화학 상태에 관한 분석 결과로서 얻어지는 X선 광전자 분광 스펙트럼의 커브 피팅에 의한 피크 분리 처리에 의해 얻어지며, 상기 분석 결과는 각도 분해 X선 광전자 분광분석을 사용한 광경화물의 표면 분석에 의해 얻은 광경화물의 최상 표면상의 분석 결과 중 하나이다.

8. 发明授权

KR101366587B1 임프린트 장치 및 임프린트 방법 有权
标题翻译：印刷设备及其方法
公开(公告)号：KR101366587B1
公开(公告)日：2014-02-25
申请号：KR1020090087844
申请日：2009-09-17
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 카와카미에이고 , 오쿠시마신고 , 이나히데키 , 세키준이치 , 테라사키아츠노리 , 오키나카모토키
IPC分类号： H01L21/02 , B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： B29C43/021 , B29C43/003 , B29C43/14 , B29C43/58 , B29C2043/025 , B29C2043/142 , B29C2043/5833 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要： 몰드의 패턴을 기판 상의 수지에 전사하는 임프린트 장치가 제공되고, 이 임프린트 장치는, 상기 수지를 상기 기판 상에 도포하도록 구성된 도포 기구; 상기 기판의 표면과 평행한 면에 있어서, 상기 기판과 상기 몰드와의 상대 위치를 변경하도록 구성된 제1 구동 기구; 상기 기판의 표면과 평행한 면에 있어서, 상기 기판과 상기 도포 기구와의 상대 위치를 변경하도록 구성된 제2 구동 기구; 및 상기 수지를 상기 기판 상에 도포하는 수지 도포 공정과 상기 몰드의 패턴을 상기 기판 상의 수지에 전사하는 임프린트 공정을 병행해서 행하도록 상기 도포 기구와 상기 구동 기구를 제어하는 제어부를 구비한다.
임프린트, 몰드, 도포기구, 구동기구, 제어부

9. 发明公开

KR1020100035130A 임프린트 방법 无效
标题翻译：印刷方法
公开(公告)号：KR1020100035130A
公开(公告)日：2010-04-02
申请号：KR1020090090788
申请日：2009-09-25
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 카와카미에이고 , 오키나카모토키 , 이나히데키 , 세키준이치 , 테라사키아츠노리 , 오쿠시마신고
IPC分类号： G03F7/00 , B82B3/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： PURPOSE: An imprinting method is provided to control the amount, density, range, and pattern of resins to be deposited in accordance with the shapes of the adjacent patterns. CONSTITUTION: An imprinting method for depositing resins to a substrate(101), bringing a mold(103) into contact with the resins, and transferring a pattern formed on the mold to the resins comprises: a first imprinting process for transferring the pattern to a first resin; and a second imprinting process for forming the pattern on a second resin in an area adjacent to an area formed during the first imprinting process, wherein an amount of the second resin to be deposited during the second imprinting process is different from an amount of the first resin used during the first imprinting process so that a gap between the area formed during the first imprinting process and an area to be formed during the second imprinting process is filled.
摘要翻译：目的：提供一种压印方法，以根据相邻图案的形状来控制要沉积的树脂的数量，密度，范围和图案。构成：用于将树脂沉积到基材（101）上，使模具（103）与树脂接触并将形成在模具上的图案转印到树脂上的印记方法包括：用于将图案转印到图案的第一印记工艺第一树脂; 以及用于在与第一压印过程中形成的区域相邻的区域中的第二树脂上形成图案的第二压印工艺，其中在第二压印过程期间要沉积的第二树脂的量不同于第一在第一压印过程中使用的树脂，使得在第一压印过程期间形成的区域与在第二压印过程期间形成的区域之间的间隙被填充。

10. 发明公开

KR1020160056278A 임프린트 방법, 임프린트 장치, 몰드 및, 물품 제조 방법 审中-实审
标题翻译：印刷方法，印刷装置，模具和制品制造方法
公开(公告)号：KR1020160056278A
公开(公告)日：2016-05-19
申请号：KR1020150153599
申请日：2015-11-03
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 세키준이치 , 오키나카모토키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F9/00 , H01L21/78 , H01L21/56
摘要： 기판에도포된미경화수지를몰드상에형성된패턴부에의해성형하고미경화수지를경화하여기판상에경화된수지패턴을형성하는임프린트방법이제공된다. 임프린트방법은수지경화이후패턴부가수지로부터박리되는경계부가직선이라고상정하는것에기초하여박리를진행하기위해평행상태를유지하면서두 개의대향된경계부가서로근접하도록패턴부를수지로부터분리하는단계를포함한다.
摘要翻译：提供了一种通过形成在模具上的图案部分来模制未硬化树脂扩散到基板上的压印方法，硬化未硬化的树脂，并在基板上形成硬化的树脂图案。压印方法包括从树脂分离图案部分以允许两个相对的边界部分彼此接近，同时基于树脂硬化过程之后的图案部分的边界部分保持用于处理分层的平衡状态与树脂分层，是一条直线。因此，可以防止缺陷的产生。

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