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1. 发明授权

KR101862578B1 하층막 형성용 수지 조성물, 적층체, 패턴 형성 방법 및 디바이스의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101862578B1
公开(公告)日：2018-05-30
申请号：KR1020167034688
申请日：2015-06-15
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 키타가와히로타카 , 오마츠타다시
IPC分类号： C08F299/02 , C08F8/14 , B32B27/30 , C08F220/18 , C08F232/00 , G03F7/00
CPC分类号： C09D133/14 , B05D1/005 , B05D3/06 , B05D3/107 , B05D3/12 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29K2067/04 , B29L2009/005 , B32B27/30 , C08F8/14 , C08F290/062 , C08F290/142 , C08F2438/03 , G03F7/0002 , G03F7/0007 , G03F7/094 , C08F220/06 , C08F2220/305 , C08F220/30
摘要： 접착성이양호하고, 표면평탄성이우수한하층막을형성가능한하층막형성용수지조성물, 적층체, 패턴형성방법및 디바이스의제조방법을제공한다. 일반식 (A)로나타나는기 및일반식 (B)로나타나는기를갖는수지와, 용제를함유하는하층막형성용수지조성물이다. R은, 수소원자또는메틸기를나타내고, R및 R는, 각각독립적으로탄소수 1~20의직쇄또는분기의무치환알킬기및 탄소수 3~20의무치환사이클로알킬기로부터선택되는기를나타내며, R은탄소수 2~20의직쇄또는분기의무치환알킬기및 탄소수 3~20의무치환사이클로알킬기로부터선택되는기를나타내고, R와 R은서로결합하여환을형성하고있어도된다.

2. 发明公开

KR1020170007787A 하층막 형성용 수지 조성물, 적층체, 패턴 형성 방법 및 디바이스의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于形成图案的层压膜形成层状产品方法和用于生产装置的方法的树脂组合物
公开(公告)号：KR1020170007787A
公开(公告)日：2017-01-20
申请号：KR1020167034688
申请日：2015-06-15
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 키타가와히로타카 , 오마츠타다시
IPC分类号： C08F299/02 , C08F8/14 , B32B27/30 , C08F220/18 , C08F232/00 , G03F7/00
CPC分类号： C09D133/14 , B05D1/005 , B05D3/06 , B05D3/107 , B05D3/12 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29K2067/04 , B29L2009/005 , B32B27/30 , C08F8/14 , C08F290/062 , C08F290/142 , C08F2438/03 , G03F7/004 , C08F220/06 , C08F2220/305 , C08F220/30
摘要： 접착성이양호하고, 표면평탄성이우수한하층막을형성가능한하층막형성용수지조성물, 적층체, 패턴형성방법및 디바이스의제조방법을제공한다. 일반식 (A)로나타나는기 및일반식 (B)로나타나는기를갖는수지와, 용제를함유하는하층막형성용수지조성물이다. R은, 수소원자또는메틸기를나타내고, R및 R는, 각각독립적으로탄소수 1~20의직쇄또는분기의무치환알킬기및 탄소수 3~20의무치환사이클로알킬기로부터선택되는기를나타내며, R은탄소수 2~20의직쇄또는분기의무치환알킬기및 탄소수 3~20의무치환사이클로알킬기로부터선택되는기를나타내고, R와 R은서로결합하여환을형성하고있어도된다.
摘要翻译：提供一种下层膜形成用树脂组合物，其可以形成具有令人满意的粘合性和优异的表面平坦度的下层膜，层叠体，形成图案的方法以及该装置的制造方法。用于下层膜形成的树脂组合物包括：具有由通式（A）表示的基团和由通式（B）表示的基团的树脂; 和溶剂。 Ra1表示氢原子或甲基; Rb1和Rb2各自独立地表示选自C 1-20直链或支链未取代的烷基和C 3-20未取代的环烷基的基团; R 3b表示选自C 2-20直链或支链未取代的烷基和C 3-20未取代的环烷基的基团; 并且Rb2和Rb3可以彼此键合形成环。

3. 发明公开

KR1020160127837A 낮은 광학 위상 지연을 구비한 다층 물품 有权
标题翻译：具有低光学延迟性的多层文章
公开(公告)号：KR1020160127837A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：KR1020167029022
申请日：2015-05-01
申请人： 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이.
发明人： 조우,지안 , 바스타우로스,아델 , 펑,웨이 , 왕,즈 , 조우,위안
IPC分类号： B32B27/08 , B32B7/02 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B27/32 , G02B5/02
CPC分类号： G02B5/305 , B29C47/065 , B29C47/8845 , B29C59/026 , B29D11/00644 , B29K2995/0026 , B29L2009/00 , B29L2011/0066 , B32B27/08 , B32B27/302 , B32B27/308 , B32B27/325 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B2307/408 , B32B2307/412 , B32B2307/42 , B32B2307/538 , B32B2307/558 , B32B2457/202 , B32B2551/00 , G02B5/0221 , G02F1/133504 , G02F1/133536 , G02F2001/133545
摘要： 제1 표면텍스처를가진제1 층으로서, 제1 폴리머의유리전이온도보다 20 ℃높은온도에서측정된제1 응력광학계수(C)를가진제1 투명열가소성폴리머를포함하는제1 층; 및제2 무광매트릭스의유리전이온도보다 20 ℃높은온도에서측정된제2 응력광학계수(C)를가진제2 투명열가소성폴리머를포함하는제2 층;을포함하는공압출된다층열가소성물품으로서, 제1 응력광학계수및 제2 응력광학계수사이의관계는 C> 4(C) (식 A)이고, 제1 층의두께는제1 표면텍스처의최고피크로부터제1 층의제2 측면까지로측정되고제1 표면텍스처의 Rz보다 1.5배더 크지만물품의총 두께의 75%보다작거나같다.
摘要翻译：一种共挤出多层热塑性制品，其包括：具有第一表面纹理的第一层，其中第一层包括第一透明热塑性聚合物，其具有在第一聚合物的玻璃化转变温度以上20℃下测量的第一应力光学系数（Cm1） ; 第二层，其包含第二透明热塑性聚合物，所述第二透明热塑性聚合物具有高于所述第二基体的玻璃化转变温度的20℃下测量的第二应力光学系数（Cm2）;其中所述第一应力光学系数和所述第二应力光学系数之间的关系是Cm2> 4（Cm1）（式A），其中从第一表面纹理的最高峰到第一层的第二侧测量的第一层的厚度大于第一表面纹理的1.5倍Rz，但小于或等于制品总厚度的75％。

4. 发明公开

KR1020160047558A 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：印刷装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1020160047558A
公开(公告)日：2016-05-02
申请号：KR1020167008106
申请日：2015-03-10
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 마츠모토히데키 , 사쿠도모노부
IPC分类号： G03F7/00 , G03F9/00 , G11B5/855 , H01L21/027 , G03F1/84
CPC分类号： B29C59/026 , B29C31/008 , B29C59/002 , G03F7/0002 , G11B5/855 , H01L21/6715 , H01L21/6838 , G03F1/84 , G03F9/7042 , H01L21/0274
摘要： 본발명은기판상에패턴을형성하기위해몰드를사용하여임프린트재를성형하는임프린트장치를제공하고, 이장치는임프린트재를기판상에토출하는토출구를구비하는노즐, 몰드를유지하도록구성되는유지유닛, 임프린트재를사용한몰드의패턴의충전을촉진하는가스를유지유닛과기판상의임프린트재사이의부분에공급하도록구성되는공급유닛, 및노즐이설치된가스유닛을포함하고, 가스유닛은, 노즐과, 노즐아래에반송되며노즐과대면하는기판의부분사이의제1 공간으로가스가유동하는것을억제하기위해, 제1 공간주위의제2 공간에대해가스공급또는배출을수행한다.
摘要翻译：本发明提供了一种压印装置，其使用模具来模制压印材料以在基板上形成图案，该设备包括：喷嘴，包括将压印材料排放到基板上的排出口;保持单元，其构造成保持模具; 供给单元，被配置为将加压所述模具的图案的加压加压到所述基板上的所述保持单元和所述压印材料之间的部分，以及设置有所述喷嘴的气体单元，其中，所述气体单元执行相对于在喷嘴与基板的面对喷嘴的部分之间的第一空间周围的第二空间的气体供给或排气，并且在喷嘴下面被传送，以便抑制气体流入第一空间。

5. 发明公开

KR1020150073847A 임프린트 장치, 이물 제거 방법, 및 물품의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：印刷装置，外来颗粒去除方法及制造方法
公开(公告)号：KR1020150073847A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：KR1020140179299
申请日：2014-12-12
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 미즈노마코토 , 슈도신이치 , 아라이츠요시
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027 , H01L21/68 , H01L21/677 , B65G49/06
CPC分类号： B29C59/026 , B29C59/002 , B29L2031/001 , G03F7/0002
摘要： 본발명은, 몰드를이용하여기판위의임프린트재료를성형해서, 기판위에패턴을형성하는임프린트프로세스를행하는임프린트장치를제공하며, 상기장치는, 상기기판을유지하도록구성된기판척, 상기기판척을둘러싸도록구성된보호판, 및상기기판척과상기보호판사이의갭의적어도일부를흡입하도록구성된흡입기구를포함하고, 상기흡입기구가상기갭의상기적어도일부를흡입하고있는동안에, 상기패턴이형성되는상기기판과는다른플레이트를상기기판척이유지한다.
摘要翻译：本发明提供了一种进行压印处理的植入装置，其中通过使用模具将衬底上的植入材料模制在衬底上形成图案。该装置包括：基板卡盘，其设置成支撑基板; 布置成覆盖基板卡盘的保护板; 以及抽吸装置，其被布置成吸取基板卡盘和保护间隙之间的间隙的至少一部分。当吸引装置吸收间隙的至少一部分时，基板卡盘支撑不同于基板的板。

6. 发明授权

KR101531143B1 전사 방법 및 열 나노임프린트 장치 有权
标题翻译：传输方法和热纳米印刷设备
公开(公告)号：KR101531143B1
公开(公告)日：2015-06-23
申请号：KR1020147029872
申请日：2013-04-30
申请人： 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤
发明人： 호소미나오키 , 고이케준 , 야마구치후지토
IPC分类号： B29C59/04 , B29C65/02 , H01L21/027
CPC分类号： B29C59/022 , B29C59/026 , B29C59/046 , B29C59/16 , B29K2033/08 , B29K2105/0005 , G03F7/0002 , Y10T428/24628
摘要： 한쪽의표면에나노스케일의요철구조(11)가형성된커버필름(10)과, 요철구조(11)의오목부내부에형성된제2 마스크층(12)과, 요철구조(11) 및제2 마스크층(12)을덮도록형성된제1 마스크층(13)을구비하는미세패턴형성용필름(II)을사용하여, 피처리체(20) 상에제1 마스크층(13) 및제2 마스크층(12)을전사부여한다. 여기서, 미세패턴형성용필름(II)을, 제1 마스크층(13)이형성된표면을피처리체(20)의표면을향하게하여압박하고, 제1 마스크층(13)에에너지선을조사하고, 계속해서, 커버필름(10)을, 제2 마스크층(12) 및제1 마스크층(13)으로부터분리한다. 여기서, 압박과에너지선조사는각각독립적으로행한다. 제2 마스크층(12) 및제1 마스크층(13)을이용하여피처리체를에칭한다.
摘要翻译：使用设置有具有纳米尺度凹凸形状的覆盖膜（10）的精细图案形成膜（I）将第一掩模层（13）和第二掩模层（12）转印并施加到目标物体（20）在其一个表面上形成的凸起结构（11），设置在所述凹凸结构（11）的凹部中的第二掩模层（12）和设置成覆盖所述凹凸结构的第一掩模层（13）（11）和第二掩模层（12）。将设置有第一掩模层（13）的精细图案形成膜（II）的表面压向目标物体（20）的表面，对第一掩模层（13）照射能量射线，然后将覆盖膜（10）与第二掩模层（12）和第一掩模层（13）分离。各自独立进行按压和能量射线照射。使用第二掩模层（12）和第一掩模层（13）蚀刻目标物体。

7. 发明公开

KR1020150065685A 임프린트 방법 및 임프린트 장치 无效
标题翻译：印刷方法和印刷装置
公开(公告)号：KR1020150065685A
公开(公告)日：2015-06-15
申请号：KR1020157007709
申请日：2013-10-03
申请人： 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
发明人： 오다히로카즈 , 나가이다카하루 , 하라다사부로
IPC分类号： G03F7/00
CPC分类号： B29C59/002 , B29C59/022 , B29C59/026 , G03F7/0002
摘要： 잉크젯법에의해피전사기판에도포되는광경화성수지의휘발을억제하고, 전사시의수지의번짐을양호하게유지하고, 전사환경의청정함을유지하고, 전사에적합한특정한기체로전사환경을채울수 있는임프린트방법및 임프린트장치를제공한다. 요철의패턴이형성된템플릿을이용하여피전사기판상의광경화성수지에상기템플릿의패턴을임프린트하여전사하는임프린트방법으로서, 상기템플릿과상기광경화성수지가접촉하는공간부에, 임프린트를하고있지않은대기시에는송풍구로부터상기공간부에클린에어를보내오고, 임프린트시에는상기공간부의클린에어의유량을저감시키거나또는클린에어를보내오지않는것을특징으로한다.

8. 发明公开

KR1020150013477A 임프린트용 광 경화성 수지 조성물, 그 제조 방법 및 구조체 审中-实审
标题翻译：用于印刷的光固化树脂组合物，其生产方法和结构
公开(公告)号：KR1020150013477A
公开(公告)日：2015-02-05
申请号：KR1020147030319
申请日：2013-05-15
申请人： 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드
发明人： 야마다히로코 , 스토야스오 , 미야자와유키히로
IPC分类号： C08F2/50 , C08F22/10 , C08F4/28 , C08J5/00 , G03F7/00 , B29C59/00 , B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： C08F22/10 , B29C59/005 , B29C59/026 , C08F2/50 , G03F7/0002 , Y10T428/24612 , C08F4/28 , C08J5/00 , H01L21/027
摘要： [과제] 광 임프린트에 있어서의 경화 수축이 억제된 광 경화성 수지 조성물을 제공한다. 또, 표면 경도가 높고, 자외선 등의 조사를 받아도 황변을 발생시키는 것이 억제된 구조체를 광 임프린트에 의해 제조할 수 있는 광 경화성 수지 조성물을 제공한다.
[해결 수단] 본 발명의 임프린트용 광 경화성 수지 조성물은 (메트)아크릴계 모노머 (A) 및 광 개시제 (B) 를 함유하는 광 경화성 수지 조성물로서, 상기 광 개시제 (B) 가 알킬페논계 광 개시제 (B1) 및 아실포스핀옥사이드계 광 개시제 (B2) 의 조합으로 이루어지고, 상기 알킬페논계 광 개시제 (B1) 와 상기 아실포스핀옥사이드계 광 개시제 (B2) 의 배합 중량비 (B1：B2) 가 1：99 ∼ 90：10 의 범위 내에 있는 것을 특징으로 한다.

9. 发明公开

KR1020140144716A 전사 방법 및 열 나노임프린트 장치 有权
标题翻译：传输方法和热纳米印刷设备
公开(公告)号：KR1020140144716A
公开(公告)日：2014-12-19
申请号：KR1020147029872
申请日：2013-04-30
申请人： 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤
发明人： 호소미나오키 , 고이케준 , 야마구치후지토
IPC分类号： B29C59/04 , B29C65/02 , H01L21/027
CPC分类号： B29C59/022 , B29C59/026 , B29C59/046 , B29C59/16 , B29K2033/08 , B29K2105/0005 , G03F7/0002 , Y10T428/24628
摘要： 한쪽의표면에나노스케일의요철구조(11)가형성된커버필름(10)과, 요철구조(11)의오목부내부에형성된제2 마스크층(12)과, 요철구조(11) 및제2 마스크층(12)을덮도록형성된제1 마스크층(13)을구비하는미세패턴형성용필름(II)을사용하여, 피처리체(20) 상에제1 마스크층(13) 및제2 마스크층(12)을전사부여한다. 여기서, 미세패턴형성용필름(II)을, 제1 마스크층(13)이형성된표면을피처리체(20)의표면을향하게하여압박하고, 제1 마스크층(13)에에너지선을조사하고, 계속해서, 커버필름(10)을, 제2 마스크층(12) 및제1 마스크층(13)으로부터분리한다. 여기서, 압박과에너지선조사는각각독립적으로행한다. 제2 마스크층(12) 및제1 마스크층(13)을이용하여피처리체를에칭한다.
摘要翻译：使用设置有具有纳米尺度凹凸的覆盖膜（10）的精细图案形成膜（I）将第一掩模层（13）和第二掩模层（12）转印并施加到目标物体（20）在其一个表面上形成的凸起结构（11），设置在所述凹凸结构（11）的凹部中的第二掩模层（12）和设置成覆盖所述凹凸结构的第一掩模层（13）（11）和第二掩模层（12）。将设置有第一掩模层（13）的精细图案形成膜（II）的表面压向目标物体（20）的表面，对第一掩模层（13）照射能量射线，然后将覆盖膜（10）与第二掩模层（12）和第一掩模层（13）分离。各自独立进行按压和能量射线照射。使用第二掩模层（12）和第一掩模层（13）蚀刻目标物体。

10. 发明公开

KR1020140121869A 임프린트 장치 및 물품의 제조 방법 有权
标题翻译：印刷装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1020140121869A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：KR1020147024273
申请日：2013-01-09
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 시오데요시히로
IPC分类号： H01L21/027 , B29C59/02 , B81C99/00 , G11B5/84 , G11B7/26
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C59/026 , B29C2059/023 , B29K2101/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F9/7023 , G03F9/703 , G03F9/7049 , G11B5/855 , H01L21/0274
摘要： 본 발명은, 몰드에 힘을 가해서 패턴면을 변형시키는 변형 유닛과, 패턴면의 변형량을 측정하는 측정 유닛과, 몰드에 복수의 힘이 가해지는 복수의 상태의 각각에서, 측정 유닛이 변형량을 측정하도록 제어하는 제어 유닛과, 몰드에 가해진 힘의 변화의 함수로서 변형량의 변화율을 산출하는 산출 유닛과, 변형량의 변화율에 기초하여, 임프린트 처리 시의 시간과, 몰드에 가해지는 힘을 나타내는 제어 프로파일을 교정하는 교정 유닛을 포함하는 임프린트 장치를 제공한다.

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