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41. 发明公开

KR1020020033159A 전자빔 리소그래피법에서 전자분무의 최소화 无效
标题翻译：电子束光刻中电子雾化的最小化
公开(公告)号：KR1020020033159A
公开(公告)日：2002-05-04
申请号：KR1020027001079
申请日：2000-07-28
申请人： 에텍 시스템즈, 인코포레이티드
发明人： 인네스로버트 , 베네클라젠리에이치 , 사글알랜엘 , 바빈세르게이브이 , 화첸
IPC分类号： H01J37/09
CPC分类号： H01J37/09 , H01J2237/028 , H01J2237/3175
摘要： 전자빔리소그래피법에서전자분무효과를감소시키는차폐어셈블리 (24). 전자빔컬럼의마지막개구와빔 타겟사이에위치한이 차폐어셈블리는타겟의전자빔입사점을향하는날카로운에지 (28) 를가진복수의베인 (26) 이고, 이들베인은차폐어셈블리의중앙을통과하는전자빔경로 (18) 주위에동심원적그리고원뿔형으로되어있다. 또한, 날카로운에지는외부베인면에대해서 10°내지 20°사이의각을가진베인들의단부에서경사면을나타내고, 이들경사면은전자빔경로를향하도록한다. 또한, 차폐어셈블리는빔입사점 (22) 를향하는각을가진베인들을가지고, 원뿔형베인어셈블리의정점이빔입사점과일치하도록할 수있다.
摘要翻译：一种用于减少电子束光刻中电子雾效应的屏蔽组件。位于电子束柱最终孔和束目标之间的该屏蔽具有多个叶片，其尖锐边缘指向靶上的电子束入射点; 叶片是圆锥形的并且围绕电子束路径同心，该电子束路径穿过组件的中心。此外，锋利的边缘使得它们在叶片的端部处呈现相对于外部叶片表面成10°和20°之间的倾斜表面，并且这些倾斜表面朝向电子束路径。此外，屏蔽组件还可以具有朝向光束入射点成角度的叶片，使得锥形叶片组件的顶点与光束入射点重合。

42. 发明授权

KR100259728B1 실리콘 멤브레인 마스크, 실리콘 스텐슬 마스크 및 실리콘 산란마스크의 오염을 줄이는 방법 失效
标题翻译：用于电子束光刻系统中的膜掩模的HEATET
公开(公告)号：KR100259728B1
公开(公告)日：2000-06-15
申请号：KR1019970050707
申请日：1997-09-30
申请人： 인터내셔널 비지네스 머신즈 코포레이션
发明人： 조던마이클스튜어트 , 스페이델제임스루이스 , 켄달로드니아더 , 핑크니데이비드존
IPC分类号： H01L21/033
CPC分类号： G03F1/20 , G03F1/22 , H01J37/09 , H01J2237/022 , H01J2237/0453 , H01J2237/3175
摘要： 본 발명은 리쏘그래피 시스템(lithography system)에서 실리콘 멤브레인 마스크(silicon membrane mask)의 오염을 줄이는 방법을 제공한다. 이 방법은 실리콘 멤브레인 마스크의 상부 표면을 붕소로 도핑하여 마스크의 전기 저항을 줄이는 단계와, 마스크의 표면을 금속화하여 이 마스크의 전기 저항을 더욱 줄이는 단계와, 마스크의 마주하는 표면들 사이에 전압을 인가하고, ― 이 전압은 멤브레인 마스크를 통과시키 전계를 발생시킴 ― 멤브레인 마스크를 가열하는 단계를 포함한다. 본 발명의 방법은 멤브레인 마스크를 가열함으로써 야기된 마스크내의 각각의 패턴의 형상의 왜곡을 계산하는 단계와, 각각의 패턴에 인접하여 위치된 다른 형상의 근접성(proximity)을 보상하는 단계와, 각각의 패턴의 형상을 적절하게 정정하는 단계를 더 포함한다. 전술한 본 발명의 방법은 e 빔 시스템 또는 이온 빔 리쏘그래피 시스템과, 스텐슬 마스크(stencil masks) 및 산란 마스크(scattering masks)에도 동일하게 적용될 수 있다.

43. 发明公开

KR1019990072999A 전자빔셀투영어퍼쳐 형성방법 失效
标题翻译：电子束投影孔形成方法
公开(公告)号：KR1019990072999A
公开(公告)日：1999-09-27
申请号：KR1019990006595
申请日：1999-02-26
申请人： 닛본 덴끼 가부시끼가이샤
发明人： 야마시타히로시
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3056 , H01J37/09 , H01J2237/0453 , H01J2237/3175
摘要： 본발명은집속이온빔을기판의상면에인가하여전자빔을흡수또는산란하는데 충분한막두께를얻을수 있는깊이로에칭함으로써상기상면에소망하는패턴의개구를형성하는단계와, 그리고상기기판의이면에상기집속이온빔을균일하게인가하여, 주변부분을제외하고, 상기개구에도달하는깊이까지에칭하는단계를구비하는전자빔셀투영어퍼쳐형성방법을제공한다.

44. 发明授权

KR100160362B1 전자빔 리소그래피 시스템 및 근접 효과의 영향을 받지 않는 미세 패턴 전사방법 失效
标题翻译：电子束光刻技术和传递微小图案的方法，没有影响接近效应
公开(公告)号：KR100160362B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019950009521
申请日：1995-04-22
申请人： 닛본 덴끼 가부시끼가이샤
发明人： 나까지마켄
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/20 , H01J37/09 , H01J37/3174 , H01J2237/0453 , H01J2237/31769 , Y10S430/143
摘要： 전자빔 리소그래피 시스템은 애퍼츄어 판(12)내에 형성된 애퍼츄어(12b)를 통해 균일한 빔 전류 밀도의 전자빔(10a)을 전자 레지스트 층(15a)에 조사하고, 스텝(12d)가 입사 전자빔의 주변부(10e)의 빔 전류 밀도를 감소시키도록 애퍼츄어의 출구 단부내에 형성되므로써, 전자 레지스트 층(15a)를 근접 효과로부터 보호한다.

45. 发明公开

KR20180004671A 멀티 하전 입자빔 묘화 장치 및 멀티 하전 입자빔 묘화 방법 审中-公开
标题翻译：多电荷粒子束写法
公开(公告)号：KR20180004671A
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：KR20170084210
申请日：2017-07-03
IPC分类号： G03F1/20 , G03F1/66 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J37/3023 , H01J2237/0453 , H01J2237/202 , H01J2237/30455 , H01J2237/31774
摘要： 본실시형태에따른멀티하전입자빔묘화장치는, 묘화대상의기판을재치하는이동가능한스테이지와, 하전입자빔을방출하는방출부와, 복수의개구부가형성되고, 상기복수의개구부를상기하전입자빔이통과함으로써멀티빔을형성하는애퍼처부재와, 상기멀티빔의각 빔의블랭킹편향을행하는복수의블랭커를가지는블랭킹플레이트와, 상기기판의묘화영역을메쉬형상으로가상분할한복수의조사위치마다의조사시간을규정한비트맵데이터를다중묘화의묘화패스마다생성하는비트맵생성부와, 상기비트맵생성부로부터각각분할된상기비트맵데이터를수신하여상기조사시간의보정처리를행하고, 각각의처리범위에분할된복수의조사량데이터를생성하여보유하는복수의조사량보정부와, 상기복수의조사량보정부에서생성또는보유된상기복수의조사량데이터를복수의신호선군을거쳐상기블랭킹플레이트로전송하는데이터전송부를구비한다. 상기데이터전송부는, 묘화패스마다각 조사량보정부에서생성또는보유된상기분할된복수의조사량데이터의전송에사용할신호선군을상기각각의처리범위에대응하여전환한다.
摘要翻译：在一个实施例中，多粒子束写入设备包括：包括多个消隐器的消隐板;位图产生处理电路，产生用于多遍写入的每个写入通道的位图数据，位图数据指定用于多次照射的照射时间段位置;多个剂量校正单元，被配置为接收通过划分来自位图生成处理电路的位图数据而获得的位图子数据项，并且校正照射时间段以生成与各个处理范围相对应的多个剂量数据项;以及数据传送处理电路通过多个信号线组将多个剂量数据项传送到消隐板。每个信号线组对应于位于消隐板的预定区域中的消隐器。数据传输处理电路针对每个写入通道改变信号线组，用于传输由各个剂量校正单元生成的多个剂量数据项。

46. 发明授权

KR101800105B1 하전 입자선 장치 有权
标题翻译：带电粒子束装置
公开(公告)号：KR101800105B1
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：KR1020157033515
申请日：2014-03-19
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 후지따,마사시 , 쯔노다,마사히로 , 오누끼,가쯔노리 , 아이바라,가쯔야 , 신도,세이이찌 , 니시모리,다까아끼
IPC分类号： H01J37/09 , H01J37/18 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/165 , H01J37/09 , H01J37/18 , H01J2237/0262 , H01J2237/0264 , H01J2237/0266 , H01J2237/26 , H01L21/6719 , H01L21/67201
摘要： 본발명은, 진공밸브와같은차폐부재의개방상태에있어서도, 외부의전자파영향을억제하는하전입자선장치의제공을목적으로한다. 상기목적을달성하기위해, 진공챔버(111)를구비한하전입자선장치에있어서, 상기진공챔버는시료반송경로를포위하는개구부(104)를갖고, 상기진공챔버(111)와, 대기측에배치된도전부재(106) 사이를도통함과함께, 상기개구부(104)를포위하는도전재(118)를구비한하전입자선장치를제안한다. 본발명에따르면반송경로를경유한시료실에의전자파(117)의도달을억제하는것이가능하게된다.
摘要翻译：本发明的目的在于提供一种即使在真空阀等遮蔽部件的开放状态下也能够抑制外部的电磁波影响的带电粒子束装置。为了实现上述目的，在具有真空室（111）的带电粒子束装置中，真空室具有围绕样品输送路径的开口（104），并且真空室（111）并且导电材料118在导电构件106之间导电并围绕开口104。根据本发明，能够抑制电磁波（117）经由输送路径到达样品室的到来。

47. 发明公开

KR1020170108804A 복합 하전 입자 빔 장치 审中-实审
标题翻译：复合带电粒子束装置
公开(公告)号：KR1020170108804A
公开(公告)日：2017-09-27
申请号：KR1020170009732
申请日：2017-01-20
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스
发明人： 오오니시츠요시 , 하스다마사카츠
IPC分类号： G03F1/20 , G03F1/78 , G03F1/64 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/09 , H01J37/023 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/30 , H01J37/3005 , H01J37/3056 , H01J37/31 , H01J2237/022 , H01J2237/2809 , H01J2237/2813 , H01J2237/31745
摘要： (과제)집속이온빔 경통과전자빔 경통을모두구비한복합하전입자빔 장치에있어서, 전자빔 경통의오손을방지하여, 고정밀도로전자빔을조사가능한복합하전입자빔 장치를제공한다. (해결수단)시료를올려놓는시료대와, 상기시료에집속이온빔을조사하는집속이온빔 경통과, 상기시료에전자빔을조사하는전자빔 경통과, 상기시료대, 상기집속이온빔 경통, 및전자빔 경통을수용하는시료실과, 상기전자빔 경통의출사면과상기시료대의사이에삽입된삽입위치, 및상기출사면과상기시료대의사이로부터퇴출한개방위치의사이에서변위가능하게형성된방오판과, 상기방오판을상기삽입위치및 상기개방위치사이에서변위시키는조작수단을구비했다.
摘要翻译：（任务）在聚焦离子束柱和包含两种电子束柱的复合带电粒子束的装置，以防止电子束柱的结垢，并提供带电粒子束照射能够复杂且高度精确的电子束的装置。 [解决问题的手段]和以装载样品试样台，接收到该聚焦离子束柱用于照射聚焦离子束的样品和用于照射电子束到样品中，样品台，其中，所述聚焦离子束柱的电子束柱，和电子束柱样品室，及电子束柱的出射面之间的插入位置和所述样品单元，并且形成出射表面，并从样品条带之间抽出的打开位置之间房间错误的决定进行位移，用于放电误判那以及用于在插入位置和打开位置之间移位的操作装置。

48. 发明公开

KR1020170093062A 노광장치 审中-实审
标题翻译：曝光装置
公开(公告)号：KR1020170093062A
公开(公告)日：2017-08-14
申请号：KR1020170004128
申请日：2017-01-11
申请人： 주식회사 아도반테스토
发明人： 하마구치신이치 , 타나카히토시 , 토쿠노아츠시 , 코지마신이치 , 야마다아키오
IPC分类号： G03F1/20 , G03F1/78 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/065 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/06308 , H01J2237/0835 , H01J2237/31754
摘要： 노광장치에있어서, 애퍼처어레이위의가늘고긴 피조명영역을, 강한강도로조명하는전자빔을형성하는수단을제공한다. 시료상에서조사위치가서로다른복수의하전입자빔을형성하는형성부 122를포함하는노광장치 100에있어서, 형성부 122는, 장방향과그에직교하는단방향에서서로다른폭을갖는방출영역 21로부터하전입자빔을방출하는입자원 20과, 장방향과그에직교하는단방향에서서로다른폭을갖는피조명영역 61에복수의개구 62가배치된애퍼처어레이소자 60과, 입자원 20과애퍼처어레이소자 60 사이에마련된조명렌즈 30, 50과, 입자원 20과애퍼처어레이소자 60 사이에마련되어자기장또는전기장의작용에의해하전입자빔의단면형상을비등방성형상으로변형시키는빔 단면변형소자 40을포함하는노광장치 100에의함.
摘要翻译：在曝光设备中，提供了用于形成电子束的装置，该装置以强烈的强度照射孔径阵列上的细长照明区域。在对照射位置的曝光装置100的样品包括用于形成多个带电粒子的形成部分122的光束彼此不同，形成单元122具有，从发射区21在纵向方向和单向与其垂直，并具有不同的宽度和用于发射的带电粒子束，在照明区域61中的纵向和随后正交多个开口62的具有从单向到部署孔径阵列装置60和粒子源20个gwaae孔径阵列元件60具有不同的宽度的颗粒源20 半曝光之间设有照明透镜，其中包括50与梁的横截面变形元件40由在非晶形60中的磁场或电场的工作之间的粒子源20 gwaae孔径阵列元件变形带电粒子束的横截面形状 Lt。

49. 发明授权

KR101607043B1 하전 입자선 장치 有权
标题翻译：带电粒子束装置
公开(公告)号：KR101607043B1
公开(公告)日：2016-03-28
申请号：KR1020147021504
申请日：2013-02-15
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 오미나미,유스께 , 오시마,다까시 , 이또,히로유끼 , 사또,미쯔구 , 이또,스께히로
IPC分类号： H01J37/18 , H01J37/16
CPC分类号： H01J37/28 , H01J37/09 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J2237/0451 , H01J2237/06341 , H01J2237/10 , H01J2237/1405 , H01J2237/164 , H01J2237/2608 , H01J2237/2801
摘要： 격막(101)을간단하게착탈할수 있고, 시료(6)를진공하와고압하에배치할수 있는하전입자선장치(111)를제공한다. 하전입자원(110)과전자광학계(1, 2, 7)를보유지지하는경통(3)과, 경통(3)에연결되는제1 하우징(4)과, 제1 하우징(4)의내측으로우묵하게들어가는제2 하우징(100)과, 경통(3) 내의공간과제1 하우징(4) 내의공간을격리하고하전입자선이투과하는제1 격막(10)과, 제2 하우징(100)의오목부(100a)의내부와외부의공간을격리하고하전입자선이투과하는제2 격막(101)과, 하전입자원(110)을수용하는제3 하우징(22)에연결되는관(23)을갖고, 제1 격막(10)은관(23)에설치되고, 관(23)과제3 하우징(22)은경통(3)에대해광축(30)의방향으로착탈가능하다. 제1 하우징(4)과제2 하우징(100)으로둘러싸인공간(105)은감압되고, 오목부(100a) 중(inside)에배치된시료(6)에, 하전입자선이조사된다.
摘要翻译：本发明提供一种能够容易地拆卸并安装隔膜（101）并且能够在高真空且高压下放置试样（6）的带电粒子束装置（111）。连接到镜筒3的第一外壳4和连接到第一外壳4的内部的第二外壳4.镜筒3包括用于保持带电粒子源110和电光源110的镜筒3。隔离透镜镜筒3的外壳4中的空间并穿过带电粒子束的第一隔膜10和穿过第二外壳100的凹部的第二隔膜10，隔离单元100a的内部空间和外部空间并传输带电粒子束的第二隔膜101以及连接到容纳带电粒子源110的第三壳体22的管23 第一光阑10安装在管23中，并且管3壳体22可相对于管3在光轴30的方向上拆卸。第一壳体4任务2将由壳体100包围的空间105减压并且将带电粒子照射到放置在凹部100a内的样品6。

50. 发明公开

KR1020150138098A 입자 빔 시스템 审中-实审
标题翻译：粒子束系统
公开(公告)号：KR1020150138098A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：KR1020150076109
申请日：2015-05-29
申请人： 칼 짜이스 마이크로스카피 게엠베하
发明人： 제이들러,디르크 , 케멘,토마스 , 리에데셀,크리스토프 , 렌케,랄프
IPC分类号： H01J3/14 , H01J37/26 , H01J37/10 , H01J3/18 , H01J37/12
CPC分类号： H01J37/10 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/24 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J2237/0453 , H01J2237/1202
摘要： 입자빔 시스템으로서: 입자소스; 하류에입자빔이형성되는다수의개구(353)를갖는제1 멀티-애퍼쳐플레이트(351); 입자빔에의해관통되는다수의개구(361)를갖는제2 멀티-애퍼쳐플레이트(359); 상기제1 및제2 멀티-애퍼쳐플레이트내의개구를또한관통하는모든입자에의해관통되는애퍼쳐플레이트(363); 입자빔에의해관통되는다수의개구(357)를가지며, 빔에대한 2극필드또는 4극필드를각각제공하는다수의필드생성기(372)를갖는제3 멀티-애퍼쳐플레이트(355); 및전위를상기멀티애퍼쳐플레이트및 상기애퍼쳐플레이트에공급하여상기제2 멀티-애퍼쳐플레이트내의상기제2 개구각각이입자빔(3)에대한렌즈로서작용하고, 상기필드생성기에조절가능한여기를공급하는제어기(369)를포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种粒子束系统，包括：粒子源; 具有多个开口（353）的第一多孔板（351），其包括形成在其下游的颗粒束; 具有由所述粒子束穿透的多个开口（361）的第二多孔板（359）; 具有开口的开口板（363），所述开口由穿过所述第一和第二多孔板中的开口的所有颗粒穿透; 具有由粒子束穿透的多个开口（357）的第三多孔板（355）以及分别为梁提供偶极场或四极场的多场发生器（372）; 以及用于向多孔板和孔板供电的控制器（369），使得第二多孔板中的第二开口分别用作粒子束（3）上的透镜，并将可调节的激励馈送到现场发电机。

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