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21. 发明授权

KR101529844B1 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：曝光装置和装置的制造方法
公开(公告)号：KR101529844B1
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：KR1020147016500
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압패드 (32) 와수압패드 (34) 에의해, 웨이퍼 (W) 및그 웨이퍼가재치된테이블 (TB) 이협지되어있다. 수압패드 (32) 에의해, 그베어링면과웨이퍼 (W) 의투영광학계 (PL) 의광축방향에관한간격이소정치수로유지된다. 또, 수압패드는기체정압베어링과는달리베어링면과지지대상물 (기판) 사이의비압축성유체 (액체) 의정압을이용하기때문에, 베어링의강성이높고베어링면과기판의간격이안정되어더욱일정하게유지된다. 또액체 (예를들어순수) 는기체 (예를들어공기) 에비하여점성이높고, 액체는진동감쇠성이기체에비하여양호하다. 따라서, 초점위치검출계등을반드시형성하지않고도디포커스가거의없는웨이퍼 (기판) 상에대한패턴의전사가실현된다.

22. 发明授权

KR101472249B1 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101472249B1
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：KR1020137031353
申请日：2004-05-24
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 나가사카히로유키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70725 , G03F7/70775
摘要： 노광방법은, 투영광학계 (PL) 와액체 (1) 를통하여패턴의이미지를기판상에투영함으로써기판을노광할때, 기판상의액체접촉면에형성되는막부재 (SP) 에따라서, 기판에대하여실시되는액침조건, 예를들어, 액체종류를결정하는것을포함한다. 액체종류는, 제 1 및제 3 액체공급부 (11, 21) 를전환함으로써선정된다. 상이한포토레지스트층이형성되는기판 (P) 에대하여, 액침노광을원활하게행할수 있다.

23. 发明公开

KR1020140140644A 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：KR1020140140644A
公开(公告)日：2014-12-09
申请号：KR1020147032263
申请日：2005-03-23
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 하라히데아키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70758 , G03F7/70833 , G03F7/709 , H01L21/0273
摘要： 액체의 공급 및 회수를 소망 상태에서 행할 수 있고, 기판 상에 투영되는 패턴 이미지의 열화를 억제할 수 있는 노광 장치를 제공한다. 노광 장치는, 액체(LQ) 를 공급하는 공급구 (12) 및 액체 (LQ) 를 회수하는 회수구 (22) 를 갖는 노즐 부재 (70) 와, 메인 칼럼 (1) 의 하측 단부 (7) 에 대하여 노즐 부재 (70) 를 방진 지지하는 방진 기구 (60) 를 구비하고 있다.
摘要翻译：提供了能够以规定的状态供给和收集液体的曝光装置，并且能够抑制投射到基板上的图案图像的劣化。曝光装置设置有具有供应液体（LQ）的供给口（12）和收集液体（LQ）的收集入口（22））的喷嘴构件（70），以及防振机构支撑喷嘴构件（70）并使喷嘴构件（70）与主柱（1）的下侧台阶部（7）振动隔离。

24. 发明公开

KR1020130053837A 수직광 렌티큐라 노광기 有权
标题翻译：曝光装置
公开(公告)号：KR1020130053837A
公开(公告)日：2013-05-24
申请号：KR1020110119514
申请日：2011-11-16
申请人： 성낙훈
发明人： 성낙훈
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70008 , G03F7/70075 , G03F7/70141 , G03F7/70191 , G03F7/70208 , G03F7/70308 , G03F7/70325
摘要： PURPOSE: A vertical light lenticular exposure apparatus is provided to use a vertical light in a center part of a lenticular lens which is located in the lower part of a light source. CONSTITUTION: A vertical light lenticular exposure apparatus(1) irradiates a film(6) with a light from a light source device(2) and exposes photosensitive agent(7) into patterns formed on a film by light irradiation. The vertical light lenticular exposure apparatus includes the light source device which forms vertical light by using function of a center part region of a lenticular lens(11). The light source device is located in and below a light source emitting light and includes a lenticular which is composed by connecting center regions of each lenticular lens.
摘要翻译：目的：提供一种垂直光透镜曝光装置，用于在位于光源下部的双凸透镜的中心部分使用垂直光。构成：垂直光柱状体曝光装置（1）用来自光源装置（2）的光照射薄膜（6），并通过光照射将感光剂（7）暴露于形成在薄膜上的图案。垂直光双凸透镜装置包括通过利用双凸透镜（11）的中心部分区域的功能形成垂直光的光源装置。光源装置位于发光光源的内部和下方，并且包括通过连接每个双凸透镜的中心区域而组成的透镜。

25. 发明公开

KR1020130042028A 노광 방법 및 노광 장치, 그리고 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR1020130042028A
公开(公告)日：2013-04-25
申请号：KR1020137006891
申请日：2004-05-24
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 나가사카히로유키
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , H01L21/0274 , G03F7/70866
摘要： 노광 방법은, 투영 광학계 (PL) 와 액체 (1) 를 통하여 패턴의 이미지를 기판 상에 투영함으로써 기판을 노광할 때, 기판 상의 액체 접촉면에 형성되는 막부재 (SP) 에 따라서, 기판에 대하여 실시되는 액침 조건, 예를 들어, 액체 종류를 결정하는 것을 포함한다. 액체 종류는, 제 1 및 제 3 액체 공급부 (11, 21) 를 전환함으로써 선정된다. 상이한 포토레지스트층이 형성되는 기판 (P) 에 대하여, 액침 노광을 원활하게 행할 수 있다.

26. 发明公开

KR1020120129669A 접촉형 임프린팅 시스템, 접촉형 임프린팅 방법 및 접촉형 임프린팅 시스템용 스탬프 제조방법 有权
标题翻译：接触型印刷系统，使用该印刷方法的印刷方法及其相同的印刷方法
公开(公告)号：KR1020120129669A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：KR1020110048063
申请日：2011-05-20
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원 , 최준혁
IPC分类号： G03F7/20 , B29C33/38
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C33/38 , G03F7/2002 , G03F7/2004 , G03F7/70008 , G03F7/70325 , G03F7/7035
摘要： PURPOSE: A contact type imprinting system, a contact type imprinting method, and a stamp manufacturing method for the contact type imprinting system are provided to improve the accuracy of pattern formation. CONSTITUTION: A contact type imprinting system includes an exposure module(120), a substrate part(140), and a moving part(150). The exposure module includes a light source part(122), a stamp(131), a lens part, and a protective layer. The light source part generates UV rays. The stamp is arranged on the pathway of the light source part and selectively transmits the UV rays by including patterns. One side of the lens part is combined with the cross section of the stamp and has negative refractive index. The protective layer is combined with another side of the lens part.
摘要翻译：目的：提供接触式压印系统，接触式压印方法和接触式压印系统的印模制造方法，以提高图案形成的精度。构成：接触型压印系统包括曝光模块（120），基底部分（140）和移动部分（150）。曝光模块包括光源部分（122），印模（131），透镜部分和保护层。光源部分产生紫外线。印模布置在光源部分的路径上，并通过包括图案选择性地透射紫外线。透镜部分的一侧与印模的横截面结合并具有负折射率。保护层与透镜部分的另一侧结合。

27. 发明授权

KR101187617B1 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101187617B1
公开(公告)日：2012-10-08
申请号：KR1020117028752
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압 패드 (32) 와 수압 패드 (34) 에 의해, 웨이퍼 (W) 및 그 웨이퍼가 재치된 테이블 (TB) 이 협지되어 있다. 수압 패드 (32) 에 의해, 그 베어링면과 웨이퍼 (W) 의 투영광학계 (PL) 의 광축 방향에 관한 간격이 소정 치수로 유지된다. 또, 수압 패드는 기체 정압 베어링과는 달리 베어링면과 지지대상물 (기판) 사이의 비압축성 유체 (액체) 의 정압을 이용하기 때문에, 베어링의 강성이 높고 베어링면과 기판의 간격이 안정되어 더욱 일정하게 유지된다. 또 액체 (예를 들어 순수) 는 기체 (예를 들어 공기) 에 비하여 점성이 높고, 액체는 진동감쇠성이 기체에 비하여 양호하다. 따라서, 초점위치 검출계 등을 반드시 형성하지 않고도 디포커스가 거의 없는 웨이퍼 (기판) 상에 대한 패턴의 전사가 실현된다.

28. 发明公开

KR1020110013909A 리소그래피 방법 및 장치 有权
标题翻译： LITHOGRAPHY设备和LITHOGRAPHY方法
公开(公告)号：KR1020110013909A
公开(公告)日：2011-02-10
申请号：KR1020090071615
申请日：2009-08-04
申请人： 한국기계연구원
发明人： 김기홍 , 이재종 , 최기봉 , 임형준 , 최두선
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7055 , G03F7/70233 , G03F7/70308 , G03F7/70325 , G03F7/70466
摘要： PURPOSE: A lithography method and a lithography apparatus are provided to improve the integrate degree and the precision of a semiconductor device by forming fine patterns, compared to the wavelength of laser beam. CONSTITUTION: A substrate supporting stand(15) supports a substrate(1). A plurality of reflective mirrors(11) radiates light to the substrate. A light splitter(112) splits incident light(E) into two right and left interference lights(E1, E2). A light direction adjusting part(13) adjusts the incident angle of the right and left interference lights. An incident angle adjusting part(14) radiates the interference lights with adjusted incident angle to the substrate.
摘要翻译：目的：提供光刻方法和光刻装置，与激光束的波长相比，通过形成精细图案来提高半导体器件的集成度和精度。构成：衬底支撑架（15）支撑衬底（1）。多个反射镜（11）向基板辐射光。光分路器（112）将入射光（E）分成两个左右干涉光（E1，E2）。光调整部（13）调整左右干涉光的入射角。入射角度调节部件（14）将具有调节的入射角的干涉光照射到基板。

29. 发明公开

KR1020100124346A 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR1020100124346A
公开(公告)日：2010-11-26
申请号：KR1020107023718
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826 , H01L21/0275
摘要： 수압 패드 (32) 와 수압 패드 (34) 에 의해, 웨이퍼 (W) 및 그 웨이퍼가 재치된 테이블 (TB) 이 협지되어 있다. 수압 패드 (32) 에 의해, 그 베어링면과 웨이퍼 (W) 의 투영광학계 (PL) 의 광축 방향에 관한 간격이 소정 치수로 유지된다. 또, 수압 패드는 기체 정압 베어링과는 달리 베어링면과 지지대상물 (기판) 사이의 비압축성 유체 (액체) 의 정압을 이용하기 때문에, 베어링의 강성이 높고 베어링면과 기판의 간격이 안정되어 더욱 일정하게 유지된다. 또 액체 (예를 들어 순수) 는 기체 (예를 들어 공기) 에 비하여 점성이 높고, 액체는 진동감쇠성이 기체에 비하여 양호하다. 따라서, 초점위치 검출계 등을 반드시 형성하지 않고도 디포커스가 거의 없는 웨이퍼 (기판) 상에 대한 패턴의 전사가 실현된다.

30. 发明授权

KR100850390B1 노광장치, 노광방법 및 노광마스크 有权
标题翻译：曝光装置，曝光方法和曝光掩模
公开(公告)号：KR100850390B1
公开(公告)日：2008-08-04
申请号：KR1020067027503
申请日：2005-06-24
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 이나오야스히사 , 쿠로다료 , 미즈타니나츠히코
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7035 , B82Y10/00 , G03F1/50 , G03F1/60 , G03F7/2014 , G03F7/70325 , G03F7/70433 , G03F7/70691 , G03F9/703 , G03F9/7053 , G03F9/7088
摘要： 본 발명에는 광학 리소그래피를 향상시키기 위한, 노광장치, 노광방법 및 노광마스크가 개시되어 있다. 구체적으로, 본 발명의 하나의 바람직한 형태에 따르면, 노광장치는 탄성변형 가능한 유지부재 및 유지부재 상에 설치되고 개구패턴이 형성된 차광막을 가진 노광마스크를 사용하도록 배치되어 있고, 상기 노광마스크를 휘게하여 피노광물에 접촉시켜서 노광을 실시한다. 상기 노광장치는 상기 노광마스크를 휘게하기 전의 노광마스크와 피노광물 간의 거리를 검출하는 거리검출시스템과, 상기 거리검출시스템으로부터의 신호에 의거하여 상기 노광마스크를 휘게하기 전의 노광마스크와 피노광물 간의 거리를 제어하는 거리제어시스템을 포함하고 있다.

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