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1. 发明公开

KR1020170055337A 아크방전 검출장치 및 방법 无效
标题翻译： Ar弧放电检测装置和方法
公开(公告)号：KR1020170055337A
公开(公告)日：2017-05-19
申请号：KR1020150158386
申请日：2015-11-11
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원
IPC分类号： G01R31/12 , H01J37/32 , G01N21/84
摘要： 본발명은아크방전검출장치및 아크방전검출방법에관한것으로, 본실시예에따른아크방전검출장치는플라즈마챔버의둘레를따라이격되어설치되고, 상기플라즈마챔버내부의영상을획득하는복수의영상획득장치; 및복수의영상획득장치에의해획득된영상들의아크방전영역의교차영역을검출하여아크방전위치를산출하는아크방전위치검출부를포함한다.
摘要翻译：本发明涉及一种电弧放电检测装置，和电弧放电检测方法，根据本实施例的电弧放电检测装置设置沿着等离子体室的外周间隔开，获得多个图像，以获取所述等离子体腔室的内部的图像，装置; 以及电弧放电位置检测器，用于检测由多个图像采集设备采集的图像的电弧放电区域的电弧区域并计算电弧放电位置。

2. 发明公开

KR1020130032046A 광신호의 세기 감소 방지 장치, 이를 구비한 발광분광분석기, 광학기기 및 질량분석기 有权
标题翻译：防止光信号强度降低的装置，光发射光谱仪，光学仪器和大量光谱仪
公开(公告)号：KR1020130032046A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：KR1020110095713
申请日：2011-09-22
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065 , G01N21/25 , G02B5/20
摘要： PURPOSE: A device for preventing strength reduction of an optical signal, an optical emission spectrometer, an optical instrument and a mass spectrometer having the same are provided to prevent performance degradation by using a shielding filter having a mesh structure. CONSTITUTION: A shielding filter(31) has the mesh structure for blocking RF electromagnetic waves. The RF electromagnetic waves are radiated to a plasma field for wafer fabrication. The shielding filter is installed in front of the optical window of an optical emission spectrometer. The shielding filter collects charged particles passing through a mesh structure. The optical emission spectrometer measures the plasma field.
摘要翻译：目的：提供一种用于防止光信号强度降低的装置，光发射光谱仪，光学仪器和具有该装置的质谱仪，以通过使用具有网状结构的屏蔽滤波器来防止性能下降。构成：屏蔽滤波器（31）具有阻挡RF电磁波的网格结构。 RF电磁波被辐射到用于晶片制造的等离子体场。屏蔽滤波器安装在光发射光谱仪的光学窗口的前面。屏蔽过滤器收集通过网状结构的带电粒子。光发射光谱仪测量等离子体场。

3. 发明公开

KR1020110092924A 플라즈모닉 광학 장치의 병렬 프로브의 제조방법 有权
标题翻译：接触式等离子光学纳米探针，由纳米探针组成的探针阵列，包括探针阵列的等离子体光学装置，以及用于制备纳米探针和探针阵列的方法
公开(公告)号：KR1020110092924A
公开(公告)日：2011-08-18
申请号：KR1020100012629
申请日：2010-02-11
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F1/50 , G03F7/7035 , Y10T29/49 , G03F7/2051 , G03F7/70008 , G03F7/7055
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing a parallel probe of a plasma monic optical device is provided to manufacture a plurality of probe modules on a wafer at the same time, thereby reducing manufacturing costs. CONSTITUTION: A plurality of probe modules(110) is arranged on a substrate(101). The probe module is composed of a probe tip(120) and a spring. The spring is located on the outer circumference of the probe tip. A thin metal film(122) is coated on the probe tip. A nano aperture(125) is placed on the thin metal film. A protective layer(127) is formed on the probe tip to protect the contact surface of the probe tip.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造等离子体单色光学器件的并行探针的方法，以在同一时间在晶片上制造多个探针模块，从而降低制造成本。构成：多个探针模块（110）布置在基底（101）上。探针模块由探针尖端（120）和弹簧构成。弹簧位于探针尖端的外周。金属薄膜（122）被涂覆在探针尖端上。将纳米孔（125）放置在薄金属膜上。在探针尖端上形成保护层（127），以保护探针尖端的接触表面。

4. 发明公开

KR1020090021977A 핀홀 부재를 구비한 광학 부품 측정 장치 및 방법 有权
标题翻译：用于使用具有针孔的构件测量光学的系统和测量其的方法
公开(公告)号：KR1020090021977A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：KR1020070086926
申请日：2007-08-29
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원 , 이진석 , 강동원
IPC分类号： G01M11/00
摘要： An optical parts measure system and a method for the same are provided to be possible for measure aberration of optical parts having high numerical apertures by diffusing numerical aperture of the incident light to a large diameter waveform generation part including a pinhole member. An optical parts measure system comprises a large diameter waveform generation part(100) including a pinhole member(140) expanding numerical aperture of incident light; a sensor(300) delivering the light generated in the large diameter waveform generation part; and an optical parts located between the large diameter waveform generation part and sensor. The large diameter waveform generation part includes the light source providing the incident light and a lens unit amplifying penetrometer of the light.
摘要翻译：提供了一种光学部件测量系统及其方法，用于通过将入射光的数值孔径扩散到包括针孔部件的大直径波形发生部件来测量具有高数值孔径的光学部件的像差。光学部件测量系统包括大直径波形发生部分（100），其包括扩大入射光的数值孔径的针孔部件（140）; 传递在大直径波形生成部中产生的光的传感器（300）; 以及位于大直径波形发生部和传感器之间的光学部件。大直径波形发生部分包括提供入射光的光源和放大光透射计的透镜单元。

5. 发明公开

KR1020080111606A 계측 유닛을 구비한 스캔 타입 레이저 가공 장치 有权
标题翻译：具有测量单位的扫描型激光加工设备
公开(公告)号：KR1020080111606A
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：KR1020070059752
申请日：2007-06-19
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원
IPC分类号： B23K26/03 , B23K26/60 , B23K26/00
摘要： A scan type laser processing apparatus for accurately analyzing the processing result of the specimen processed by the laser beam is provided. A scan type laser processing apparatus using the laser beam comprises a light source(110) irradiating the laser beam; a scanner(120) changing the progressive direction and incident angle of the laser beam; a first optic(130) focusing the laser beam provided from scanner on specimen; an aperture(160) selecting the scattering signal corresponding to the corresponding incident laser beam from a plurality of scattering signals emitted in the majority area of the specimen(150); and a measuring unit(200) measuring the processed information of specimen with the scattering signal.
摘要翻译：提供一种用于准确地分析由激光束处理的样本的处理结果的扫描型激光加工装置。使用该激光束的扫描型激光加工装置包括照射激光束的光源（110）扫描器（120），其改变激光束的行进方向和入射角; 将从扫描仪提供的激光束聚焦在样本上的第一光学元件（130）孔（160），其从在所述样本（150）的大部分区域发射的多个散射信号中选择与所述对应的入射激光束对应的散射信号; 以及测量单元（200），其利用所述散射信号测量所述经处理的样本信息。

6. 发明公开

KR1020080097266A 렌즈 구조체, 그 제조방법, 그것을 구비한 광학 시스템, 및광학 시스템을 이용한 리소그래피 방법 有权
标题翻译：透镜结构，其制造方法，具有该光学系统的光学系统和使用光学系统的光刻方法
公开(公告)号：KR1020080097266A
公开(公告)日：2008-11-05
申请号：KR1020070042270
申请日：2007-05-01
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원
IPC分类号： H01L21/027 , G02B3/02
CPC分类号： G03F7/70275 , G02B3/02
摘要： A lens structure and a method of manufacturing the same are provided to reduce the manufacturing cost by performing the role of photomask through the general processing of the lens. The lens structure includes the lens(105) in which the protrusion(110) of the truncated cone shape is equipped in the aspherical; the metallic foil including the opening developed in the protrusion upper center and installed at the projecting part surface; the coated lens structure(100) including the space maintainer(130). The coated lens structure has the constant thickness on the protrusion upper side. The metallic foil is the aluminium film.
摘要翻译：提供透镜结构及其制造方法，以通过透镜的一般处理来执行光掩模的作用来降低制造成本。透镜结构包括：透镜（105），其中截头锥形的突起（110）装配在非球面中; 所述金属箔包括在所述突出部上中心形成的开口，并且安装在所述突出部分表面; 所述涂覆透镜结构（100）包括所述空间维持器（130）。涂覆的透镜结构在突起上侧具有恒定的厚度。金属箔是铝膜。

7. 发明授权

KR101829811B1 플라즈마 공정 계측 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101829811B1
公开(公告)日：2018-02-20
申请号：KR1020160097008
申请日：2016-07-29
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원
IPC分类号： H01J37/32 , G01J3/02 , G01N21/66 , C23C14/22
摘要： 플라즈마공정계측장치및 플라즈마공정계측방법이개시된다. 본발명의실시예에따른플라즈마공정계측장치는플라즈마공정챔버내의광을수집하고분석하여, 플라즈마공정챔버내의소정의반응라디컬에대해시간축과공간축의함수로이루어진광학분광정보를생성하는분광계측기; 및광학분광정보를시간축으로적분하여, 공간축의함수로이루어진누적공간분포를생성하고, 누적공간분포에기초하여플라즈마공정의진행정도를판단하는분석부를포함한다. 본발명의실시예에의하면, 분광계측기에의해수집된분광신호의시공간적분에의하여플라즈마공정의진행정도를판단할수 있다.

8. 发明公开

KR1020180014349A 플라즈마 공정 계측 장치 및 방법 有权
标题翻译：测量等离子体过程的设备和方法
公开(公告)号：KR1020180014349A
公开(公告)日：2018-02-08
申请号：KR1020160097008
申请日：2016-07-29
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원
IPC分类号： H01J37/32 , G01J3/02 , G01N21/66 , C23C14/22
CPC分类号： H01J37/32972 , C23C14/22 , G01J3/0208 , G01N21/66
摘要： 플라즈마공정계측장치및 플라즈마공정계측방법이개시된다. 본발명의실시예에따른플라즈마공정계측장치는플라즈마공정챔버내의광을수집하고분석하여, 플라즈마공정챔버내의소정의반응라디컬에대해시간축과공간축의함수로이루어진광학분광정보를생성하는분광계측기; 및광학분광정보를시간축으로적분하여, 공간축의함수로이루어진누적공간분포를생성하고, 누적공간분포에기초하여플라즈마공정의진행정도를판단하는분석부를포함한다. 본발명의실시예에의하면, 분광계측기에의해수집된분광신호의시공간적분에의하여플라즈마공정의진행정도를판단할수 있다.
摘要翻译：公开了一种等离子体过程测量装置和等离子体过程测量方法。等离子体处理测量根据设备对本发明的实施例的光谱仪，以收集光在等离子体处理室中，并通过产生由时间轴的光谱信息和空间轴，对于给定反应在等离子体处理室中的基团功能分析; 并通过集成在时间轴上的光的光谱的信息，产生一个累积分布中心包括一个空间轴的功能，并且包括进行分析以确定所述等离子体处理的累积分布空间的基础上的进展。根据本发明的一个实施例，可确定通过由分光仪器收集到的信号的时间和空间光谱分数的等离子体处理的进步。

9. 发明授权

KR101422615B1 배열 광원 검출 장치, 시스템 및 방법 有权
标题翻译：源阵列检测装置，系统和方法
公开(公告)号：KR101422615B1
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：KR1020130012370
申请日：2013-02-04
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원
IPC分类号： G01J1/02 , G01J1/08
CPC分类号： G01J1/08 , G01J1/0228 , G01J1/0411 , G01J2001/086
摘要： An array light source detecting system according to an embodiment of the present invention includes: an array light source where unit light sources are arranged vertically and horizontally; and an array light source detecting apparatus for detecting light reflected from the array light source. The array light source detecting apparatus includes a detection unit for imaging the light reflected from the array light source; and a light processing unit for calculating the position and the intensity of the array light source by measuring and calculating the light of the array light light which is imaged in the detection unit.
摘要翻译：根据本发明实施例的阵列光源检测系统包括：单元光源垂直和水平布置的阵列光源; 以及用于检测从阵列光源反射的光的阵列光源检测装置。阵列光源检测装置包括用于对从阵列光源反射的光进行成像的检测单元; 以及光处理单元，用于通过测量和计算在检测单元中成像的阵列光的光来计算阵列光源的位置和强度。

10. 发明授权

KR101300735B1 광신호의 세기 감소 방지 장치, 이를 구비한 발광분광분석기, 광학기기 및 질량분석기 有权
标题翻译：用于防止光信号强度降低的装置，光发射光谱仪，光学仪器和质谱仪
公开(公告)号：KR101300735B1
公开(公告)日：2013-08-27
申请号：KR1020110095713
申请日：2011-09-22
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 한재원
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/3065 , G01N21/25 , G02B5/20
摘要： 광신호의 세기 감소 방지 장치가 개시된다. 본 발명의 실시예에 따른 광신호의 세기 감소 방지 장치는, 웨이퍼 가공을 위한 플라즈마 필드에서 방사되는 RF 전자기파를 차단가능한 메쉬(mesh) 구조를 가지고, 상기 플라즈마 필드의 방출 스펙트럼 영상으로부터 상기 플라즈마 필드를 계측하기 위한 발광분광분석기의 광학창 전방에 설치되며, 메쉬를 통과하는 하전입자가 포집되는 차폐필터;를 포함한다.

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