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    • 12. 发明公开
    • 반도체 장치
    • 半导体器件
    • KR1020120068717A
    • 2012-06-27
    • KR1020110135297
    • 2011-12-15
    • 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
    • 가마따고이찌로
    • G11C7/10G11C11/34
    • G11C16/3404G11C11/5621G11C16/0433
    • PURPOSE: A semiconductor device is provided to shorten a writing operation by integrally determining a potential of each memory cell on the same word line. CONSTITUTION: A memory cell(100) includes a first transistor(101), a second transistor(102), and a capacitive device(103). One of a source and a drain of the first transistor is electrically connected to a gate of the second transistor. The other of the source and the drain of the first transistor is electrically connected to a first bit line. A gate of the first transistor is electrically connected to a first word line. A second electrode of the capacitive device is electrically connected to a second word line. A gate of the second transistor is electrically connected to the first electrode of the capacitive device.
    • 目的:提供半导体器件,通过在同一字线上整体确定每个存储单元的电位来缩短写入操作。 构成:存储单元(100)包括第一晶体管(101),第二晶体管(102)和电容器件(103)。 第一晶体管的源极和漏极之一电连接到第二晶体管的栅极。 第一晶体管的源极和漏极中的另一个电连接到第一位线。 第一晶体管的栅极电连接到第一字线。 电容器件的第二电极电连接到第二字线。 第二晶体管的栅极电连接到电容器件的第一电极。
    • 15. 发明公开
    • 트랜지스터회로
    • 晶体管电路
    • KR1020100128643A
    • 2010-12-08
    • KR1020090047151
    • 2009-05-28
    • 에스케이하이닉스 주식회사
    • 박상일
    • G11C11/34G11C5/14
    • G11C5/147H03K19/00315H03K19/01721
    • PURPOSE: A transistor circuit is provided to easily implement the MOS transistors having various threshold voltages by supplying internal voltage of various levels with back bias voltage. CONSTITUTION: A first buffer part(1) comprises a PMOS transistor(P11) pulling up a node(nd11) and a NMOS transistor(N11) pulling down the node. A second buffer part(2) comprises e PMOS transistor(P12) pulling up a node(nd12) and a NMOS transistor(N12) pulling down the node. A third buffer part(3) comprises a PMOS transistor(P13) pulling up a node(nd13) and a NMOS transistor(N13) pulling down the node.
    • 目的:提供晶体管电路,通过提供具有背偏压的各种电平的内部电压来容易地实现具有各种阈值电压的MOS晶体管。 构成:第一缓冲部分(1)包括拉起节点(nd11)的PMOS晶体管(P11)和拉下节点的NMOS晶体管(N11)。 第二缓冲器部分(2)包括上拉节点(nd12)的PMOS晶体管(P12)和拉下节点的NMOS晶体管(N12)。 第三缓冲器部分(3)包括上拉节点(nd13)的PMOS晶体管(P13)和拉下节点的NMOS晶体管(N13)。
    • 19. 发明授权
    • 반도체 장치
    • 半导体器件
    • KR100787664B1
    • 2007-12-21
    • KR1020000044045
    • 2000-07-29
    • 소니 주식회사
    • 구보따미찌따까고바야시도시오
    • G11C11/34
    • G11C11/403G11C11/405H01L27/108
    • 정밀도에 영향을 끼치지 않고서 셀 면적을 줄일 수 있고, 배선층들의 수를 줄일 수 있고, 메모리 셀과 주변회로의 하이브리드 회로(hybrid circuit)를 저비용으로 용이하게 실현할 수 있는 반도체 장치가 제공되며, 이 장치는 비트라인, 워드라인, 컨트롤 게이트 라인, 워드라인에 접속된 제1 전극을 구비한 커패시터, 게이트 전극이 커패시터의 제2 전극에 접속되고 비트라인과 소정의 전위 사이에 접속된 NMOS를 포함하는 판독 트랜지스터, 및 게이트 전극이 컨트롤 게이트 라인에 접속되고 비트라인과 커패시터의 제2 전극 간에 접속된 NMOS를 포함하는 기입 트랜지스터를 포함한다.
      메모리 셀, 기입 트랜지스터, 판독 트랜지스터, 비트라인, 워드라인.
    • 提供一种能够在不影响精度的情况下减小单元面积,减少布线层的数量并且以低成本容易地实现存储单元和外围电路的混合电路的半导体器件, 被读出,包括NMOS连接在位线,字线,控制栅线之间,具有连接到字线电容器,栅电极连接到电容器的位线的第二电极和一预定的电势的第一电极 并且写入晶体管包括连接在位线和电容器的第二电极之间的NMOS,以及连接到控制栅极线的栅极。