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2. 发明专利

JP2009532887A Particle beam exposure apparatus having a comprehensive modulation of the patterned beam 有权
公开(公告)号：JP2009532887A
公开(公告)日：2009-09-10
申请号：JP2009503366
申请日：2007-03-16
申请人：イーエムエスナノファブリカツィオンアーゲー
发明人：プラッツグマー、エルマー
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3175 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/1506 , H01J2237/31766 , H01J2237/31774 , H01J2237/31777
摘要：電荷を帯びた粒子のビームでターゲット（４１）を露光するための荷電粒子露光装置（１００）は、照明システム（１０１）は、パターン画定手段に対する照明ビームの入射の方向を変動させるように構成された偏向手段（４０１）を含み、パターン画定手段（２０）は照明ビームの形状を所望のパターンにし、投影光学システム（１０３）は、パターン画定手段で画定されたビーム形状の画像をターゲット（４１）上に投影し、投影光学システムは、例えばパターン画定手段にパターンを読み込むプロセス中にブランクアウトするために、すなわちビームレットをその非偏向経路から充分な角度だけ傾けるように偏向手段（４０１）が作動したときに、開口を有しかつ前記開口の外側を通るビームの通過を阻止するように構成されたブロッキングアパーチャ手段（２０４）を含む。
【選択図】図４

3. 发明专利

JP2005268657A Electron beam drawing data generating method, program for generating electron beam drawing data and electron beam drawing system 审中-公开
标题翻译：电子束绘图数据生成方法，用于生成电子束绘图数据和电子束绘图系统的程序
公开(公告)号：JP2005268657A
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：JP2004081366
申请日：2004-03-19
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： INENAMI RYOICHI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/302
CPC分类号： H01L21/0277 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3175 , H01J2237/31777
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce a user's loading accompanying with a character pattern correction work without causing any double exposure by automatically extracting character patterns from pattern data of a graphic cell.
SOLUTION: An electron beam drawing data producing method with an action of extracting the graphic cell in device pattern data by which a cell base design is carried out as the character patterns, comprises the steps of:removing overlapping pattern data contained in the graphic cell; generating a character pattern segment frame from a cell arrangement frame 10 contained in the graphic cell; assigning a graphic 21 in this segment frame to a pattern shot by CP system as the character patterns; making a graphic 22 outside the segment frame as non-character patterns; removing overlapping adjacent patterns to the non-character patterns; and assigning non-overlapping adjacent patterns to a pattern shot by VSB system.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：通过从图形单元的图案数据自动提取字符图案，减少伴随字符图案校正工作的用户的加载而不引起任何双重曝光。解决方案：一种电子束绘制数据产生方法，其特征在于包括以下步骤：移除包含在所述图形单元中的重叠图案数据，图形单元格从包含在图形单元中的单元布置框架10生成字符图案段帧; 将该段帧中的图形21分配给由CP系统拍摄的图案作为字符图案; 在片段外部形成图形22作为非字符图案; 将重叠的相邻图案移除到非字符图案; 并将非重叠的相邻图案分配给由VSB系统拍摄的图案。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

5. 发明专利

JP2006179893A Electromagnetic field focusing device and electronic beam lithography system adopting same 审中-公开
标题翻译：电磁场聚焦装置和采用电子束光刻系统
公开(公告)号：JP2006179893A
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：JP2005353160
申请日：2005-12-07
申请人： Samsung Electronics Co Ltd , 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd.
发明人： MOON CHANG-WOOK , KIM DONG-SOO , SONG MYUNG-GON , LEE SEUNG-WOON , OH YUN-SANG
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/067 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/22 , H01J37/145 , H01J37/304 , H01J37/3174 , H01J2237/31776 , H01J2237/31777 , H01J2237/31781
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic field focusing device and an electronic beam lithography system adopting the device.
SOLUTION: The device is provided with magnetic field generating parts 151 and 152 forming a magnetic field in a vacuum chamber 110 surrounding a space into which a wafer 130 is inserted and upper and lower pole pieces 151a and 152a which pass through a ceiling wall and a base wall of the vacuum chamber 110, are oppositely arranged and apply the magnetic field formed in the magnetic field generating parts 151 and 152 to an inner part of the vacuum chamber 110. Magnetic field uniformity inside the vacuum chamber 110 can be adjusted by vertically moving the upper and lower pole pieces 151a and 152a with respect to the vacuum chamber 110.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供采用该装置的电磁场聚焦装置和电子束光刻系统。解决方案：该装置设置有磁场产生部件151和152，该磁场产生部件151和152在真空室110中形成磁场，该真空室110围绕晶片130插入的空间，上下极片151a和152a通过天花板壁和真空室110的底壁相对地布置，并将形成在磁场产生部分151和152中的磁场施加到真空室110的内部。可以调节真空室110内的磁场均匀性通过相对于真空室110垂直移动上下极片151a和152a。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

6. 发明专利

JP2018041920A ブランキングアパーチャアレイ装置、荷電粒子ビーム描画装置、および電極テスト方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018041920A
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：JP2016176933
申请日：2016-09-09
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：小野雅良
IPC分类号： H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/304 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/30433 , H01J2237/30455 , H01J2237/31761 , H01J2237/31777 , H01J2237/31798
摘要：【課題】ブランキングアパーチャアレイ(BAA)装置の電極の数が多い場合にも電極を容易にテストする。【解決手段】一の実施形態によれば、BAA装置204は、複数の荷電粒子ビーム20のブランキングがそれぞれ行われる複数のアパーチャ3を備える。BAA装置204はさらに、複数のアパーチャ3に対してそれぞれ設けられた第1電極6a、第2電極6b、第1ビアプラグ5a、第2ビアプラグ5c、駆動手段2、および比較手段7であって、互いに対向する第1および第2電極6a、6bと、第1および第2電極6a、6bにそれぞれ電気的に接続された第1および第2ビアプラグ5a、5cと、第1電極6aを駆動する駆動信号を、第1ビアプラグ5aを介して第1電極6aに供給する駆動手段2と、第1電極6aに対応して設けられ、駆動信号と、第2ビアプラグ5cから得られた信号とを比較して、比較の結果を示す比較結果信号を出力する比較手段7とを備える。【選択図】図1

7. 发明专利

JP2015528924A 光学距離測定システムを備えるマイクロリソグラフィー用の投影露光装置审中-公开
标题翻译：包括光学距离测量系统的用于微光刻的投射曝光设备
公开(公告)号：JP2015528924A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：JP2015521990
申请日：2013-07-12
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ヴォルフアレクサンダー , ヴォルフアレクサンダー , シュワブマルクス , シュワブマルクス , グルーナートラルフ , グルーナートラルフ , ハルトイェーズヨアヒム , ハルトイェーズヨアヒム
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/02 , G01C3/06
CPC分类号： G01B11/14 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , H01J37/317 , H01J2237/0203 , H01J2237/31777 , H05G2/008
摘要：マイクロリソグラフィー用の投影露光装置は、露光ビーム路を形成する複数の光学素子(M1−M6)と、少なくとも1つの光学素子(M1−M6)と、基準素子(40,140,240)との間の距離を測定する距離測定システム(30,130,230)と、を備える。距離測定システムは、周波数コム発生器(32,132,232)を備え、周波数コム発生器(32,132,232)は、コム状の周波数スペクトルで電磁放射を発生させるよう構成される。【選択図】図1
摘要翻译：用于微光刻的投射曝光设备，测量多个形成曝光光束路径（M1-M6）的光学元件，和至少一个光学元件（M1-M6），基准元件之间的距离（40，140，240）包括用于将所述的距离测量系统（30，130，230）。距离测量系统包括一个频率梳发生器（32，132，232），一个频率梳发生器（32，132，232）被配置为产生在一个梳齿状的频谱的电磁辐射。点域1

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