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1. 发明专利

JP2018121060A マルチビーム描画機のための改善されたドーズレベルの量子化审中-公开
公开(公告)号：JP2018121060A
公开(公告)日：2018-08-02
申请号：JP2018011698
申请日：2018-01-26
申请人：アイエムエスナノファブリケーションゲーエムベーハー
发明人：エルマープラツグマー , クリストフシュペングラー , ハンスペーターペッチュ
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/3026 , H01J2237/31764 , H01J2237/31766
摘要：【課題】露光ストライプを用いる荷電粒子マルチビーム描画法においてビームレットのドーズ変化によって引き起こされる露光エリアにわたるストライプ状の変化パターン(サブストライプ)の生成を回避する。【解決手段】パターンは、パターン定義装置のアパーチャをターゲット上に結像し、移動されるパターン像としてターゲット上に描画される。かくして、露光されるべき領域をカバーする露光ストライプ(複数)が形成され、露光ストライプは互いにオーバーラップし、当該領域の各エリアはパターン像の少なくとも2つの異なるエリアによって異なる横オフセット(Y1)で露光される。各ピクセル毎に、公称ドーズ量の値を補正係数(q)で除算することにより補正ドーズ量が計算される。オーバーラップするストライプの前記横オフセット(Y1)だけのみ相違する位置に位置するピクセルによって、同じ補正係数(q)が使用される。【選択図】図31

2. 发明专利

JP6027798B2 荷電粒子ビーム描画装置及び多重描画用の荷電粒子ビームの照射時間振り分け方法有权
标题翻译：带电粒子束写入装置的照射时间分配方法和用于多次写入的带电粒子束
公开(公告)号：JP6027798B2
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：JP2012154457
申请日：2012-07-10
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：八島純 , 安保彰人 , 加藤靖雄
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： G06F17/5081 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31764 , H01J2237/31766

3. 发明专利

JP2016122676A 露光装置および露光方法审中-公开
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：JP2016122676A
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：JP2014260001
申请日：2014-12-24
申请人：株式会社アドバンテスト
发明人：山田章夫 , 菅谷慎二 , 黒川正樹 , 瀬山雅裕
IPC分类号： H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/31766
摘要：【課題】光露光技術および荷電粒子ビーム露光技術を組み合わせて、複雑で微細なパターンを形成する。【解決手段】試料上のラインパターンに応じた位置に荷電粒子ビームを照射する露光装置であって、ラインパターンの幅方向に照射位置が異なる複数の荷電粒子ビームを発生するビーム発生部と、複数の荷電粒子ビームの照射位置を、ラインパターンの長手方向に沿って走査させる走査制御部と、ラインパターン上の長手方向の指定された照射位置において、複数の荷電粒子ビームのうち試料に照射すべき少なくとも1つの荷電粒子ビームを選択する選択部と、選択された少なくとも1つの荷電粒子ビームを試料へと照射する制御をする照射制御部と、を備える露光装置および露光方法を提供する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供通过组合光学曝光技术和带电粒子束曝光技术形成复杂精细图案的曝光装置和方法。解决方案：将带电粒子束施加到对应于线图案的位置的曝光装置提供样品，并提供曝光方法。曝光装置具有用于在线条图案的宽度方向上产生用于不同照射位置的多个带电粒子束的束发生器，用于沿着线条图案的纵向扫描多个带电粒子束的照射位置的扫描控制器，选择器，用于从所述线图案上的纵向方向上的特定照射位置选择要从所述多个带电粒子束施加到所述样本的至少一个带电粒子束;以及照射控制器，用于控制所述样品与所述至少一个选择带电粒子束。选择图：图1

4. 发明专利

JP2015095524A 描画装置、および物品の製造方法审中-公开
标题翻译：绘图装置和制造方法
公开(公告)号：JP2015095524A
公开(公告)日：2015-05-18
申请号：JP2013233454
申请日：2013-11-11
申请人：キヤノン株式会社
发明人：菊地一哉 , 森田知之
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J2237/30483 , H01J2237/31761 , H01J2237/31766
摘要：【課題】重ね合わせ精度およびスループットの点で有利な描画装置を提供する。【解決手段】荷電粒子線を用いて基板に描画を行う描画装置は、前記荷電粒子線を前記基板上で走査するための偏向器と、前記基板を保持して移動可能なステージと、前記偏向器による主走査と前記ステージの移動による副走査とを制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記主走査の幅を、前記基板上の描画対象領域の前記主走査の方向における幅に基づいて制御する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在重叠精度和吞吐量方面有利的绘图装置。解决方案：使用带电粒子束在基板上进行绘图的绘图装置包括：用于在基片上扫描带电粒子束的偏转器; 保持基板的可移动台; 以及控制单元，其通过偏转器控制主扫描并且通过台的移动进行副扫描。控制单元基于基板上的绘制对象区域的主扫描方向上的宽度来控制主扫描的宽度。

5. 发明专利

JP5697414B2 荷電粒子線描画装置、および、物品の製造方法有权
标题翻译：一种带电粒子束描绘设备，以及用于制造制品的方法
公开(公告)号：JP5697414B2
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：JP2010259523
申请日：2010-11-19
申请人：キヤノン株式会社
发明人：伊藤博仁
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/26 , H01J37/3177 , H01J2237/304 , H01J2237/31766

7. 发明专利

JP2014017391A Charged particle beam drawing device and multiple drawing charged particle beam irradiation time dividing method 有权
标题翻译：充电颗粒光束绘图装置和多个图形充电颗粒光束辐射时间分配方法
公开(公告)号：JP2014017391A
公开(公告)日：2014-01-30
申请号：JP2012154457
申请日：2012-07-10
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： YASHIMA JUN , ANPO AKIHITO , KATO YASUO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/305
CPC分类号： G06F17/5081 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31764 , H01J2237/31766
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for restraining imbalance in irradiation time between shots.SOLUTION: A drawing device 100 includes a total irradiation time calculation unit 21 in which, referring to an integral value derived by dividing an aggregate irradiation time n of multiple beams by the number of layers m in which multiple drawing is performed while shifting the position times the number of repetitions r that the multiple drawing is repeated without shifting the position per layer and then multiplied by r, calculates the following as a total irradiation time of beam in the layer concerned among multiple electronic beams shot at the same position: for a layer which is other than a preset specific layer and does not include the specific layer and whose layer ID is equal to or smaller than a first remainder of n/(mr) further divided by the number of repetitions r, a value having the number of repetitions r added to said integral value; for a layer which is not a specific layer and does not include the specific layer and whose layer ID is equal to or smaller than the first remainder divided by the number of repetitions r, a value having nothing added; for a specific layer, a value having a second remainder derived from division of the aggregate irradiation time n by the number of repetitions r added to said integral value.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种抑制镜头之间的照射时间不平衡的装置。解决方案：绘图装置100包括总照射时间计算单元21，其中参考通过将多个照射时间n的聚集照射时间n除以导出的积分值在将位置重复多次重复次数r的同时进行多次绘制的层数m而不移动每层的位置，然后乘以r的光束，计算以下作为总照射时间在相同位置拍摄的多个电子束中涉及的层中的波束：对于不同于预定的特定层的层并且不包括特定层并且其层ID等于或小于n /（ mr）进一步除以重复次数r，具有添加到所述积分值的重复次数r的值; 对于不是特定层并且不包括特定层并且其层ID等于或小于第一余数除以重复次数r的层，没有添加的值; 对于特定层，具有从聚集照射时间n除以加到所述积分值的重复数r得到的具有第二余数的值。

8. 发明专利

JP2012015246A Device and method for drawing charged particle beam 有权
标题翻译：用于绘制充电颗粒束的装置和方法
公开(公告)号：JP2012015246A
公开(公告)日：2012-01-19
申请号：JP2010148843
申请日：2010-06-30
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： NAKAYAMADA NORIAKI , WAKE SEIJI , INOUE HIDEO , ANPO AKIHITO
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J2237/304 , H01J2237/30461 , H01J2237/31766 , H01J2237/31776 , H01J2237/31796
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device for drawing a charged particle beam, which corrects displacement of an irradiation position due to the charge amount obtained by taking the deflection position dependency into consideration.SOLUTION: The drawing device 100 includes: a charge amount distribution calculation unit 122 which calculates the charge amount distribution obtained by vertically making a charged particle beam incident on a drawing region of a sample; a position correction part 183 which calculates a correction position in each drawing position in which the amount of displacement including the amount of displacement of the deflection position due to the charge amount depending on the deflection position to deflect the charged particle beam is corrected using the charge amount distribution; and a drawing part 150 which draws a pattern in the correction position using the charged particle beam.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于绘制带电粒子束的装置，其校正由于考虑到偏转位置依赖性而获得的充电量的照射位置的位移。解决方案：绘图装置100包括：计费通过垂直使入射到样本的绘图区域上的带电粒子束获得的电荷量分布的电荷量分布计算单元122; 位置校正部分183，其计算在每个绘制位置中的校正位置，其中，包括由于根据偏转位置而引起的充电量的偏转位置的偏移量的偏移量的位移量，以使偏转带电粒子束被校正金额分配; 以及使用带电粒子束将图案画成校正位置的绘图部150。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2009529802A Lithography system and projection method 有权
公开(公告)号：JP2009529802A
公开(公告)日：2009-08-20
申请号：JP2009500306
申请日：2007-03-09
申请人：マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
发明人：ウィーランド、マルコ・ヤン−ヤコ , クルイト、ピエテル , ステーンブリンク、スティーン・ウィレム・カレル・ヘルマン , ヤゲル、レムコ
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70291 , G03F7/70383 , G03F7/70508 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31764 , H01J2237/31766 , H01J2237/31771 , H01L21/67282
摘要：本発明は、白黒の書き込み方式、即ち１つの格子セルへの書き込みまたは非書き込みを使用し、複数の前記格子セルを有する格子の上でパターンを分割することによって、ウェハのようなターゲット面上に前記パターンを発生させるためのプローブ形成リソグラフィシステムであって、前記パターンは、１つの前記格子セルのフィーチャよりも大きなサイズの複数のフィーチャを有し、前記格子セルの各々において、前記プローブは、オンまたはオフに切り替えられ、前記ターゲット上のプローブは、１つの前記格子セルよりも十分に大きな表面積を覆っており、また、前記白黒の書き込みの位置依存分布が、１つのフィーチャ内で、このようなシステムに基づく方法と同様に、前記プローブのサイズの範囲内に与えられるシステムに関する。

10. 发明专利

JP6353278B2 マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置有权
公开(公告)号：JP6353278B2
公开(公告)日：2018-07-04
申请号：JP2014114526
申请日：2014-06-03
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：松本裕史
IPC分类号： H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/1472 , G11B9/10 , H01J37/06 , H01J37/20 , H01J37/3023 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/30483 , H01J2237/31762 , H01J2237/31766

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