专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

2. 发明专利

JP6262007B2 セトリング時間の取得方法有权
公开(公告)号：JP6262007B2
公开(公告)日：2018-01-17
申请号：JP2014025787
申请日：2014-02-13
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：西村理恵子
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , H01J2237/15 , H01J2237/30433 , H01J2237/30494 , H01J2237/31776

4. 发明专利

JP2016082131A 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビームを用いた描画方法、および荷電粒子ビーム描画でのショット補正方法审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束光刻装置，使用充电颗粒光束的光刻方法，以及带电粒子束光刻的发光校正方法
公开(公告)号：JP2016082131A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：JP2014213726
申请日：2014-10-20
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：本杉知生
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , H01J37/3045 , H01J2237/30433 , H01J2237/30455 , H01J2237/31776 , H01J2237/31796
摘要：【課題】被パターニング部材上にレジスト層が形成された試料におけるレジスト層に荷電粒子ビームで微細パターンの潜像を描画するにあたって、当該潜像を被パターニング部材に転写することで当該被パターニング部材に形成される微細パターンでのXY寸法変動量を被パターニング部材の全面に亘って低減させることが容易な荷電粒子ビーム描画装置を提供する。【解決手段】潜像を描画すべき試料に対応した層構成を有するテストサンプルに、所定の条件下に多数の寸法測定用パターンを形成したときにおけるXY寸法変動量の面内分布データから得られるショット断面サイズおよびショット照射位置それぞれの補正情報と、前記微細パターンの設計データとを用いて、前記レジスト層に照射すべき各ショットのショットデータを作成するショットデータ作成処理装置32を設ける。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种带电粒子束光刻装置，其能够通过转印潜像来容易地将待形成图案的构件的XY尺寸变化量减小到要构图的构件的整个表面上在被图案化部件上形成抗蚀剂层的试样的抗蚀剂层中，使用带电粒子束将潜像的图案图案化的图案的图案化。解决方案：拍摄数据生成处理装置32 提供用于创建用于照射抗蚀剂层的拍摄数据，同时使用从数字上的XY尺寸变化量的平面内分布数据获得的拍摄截面尺寸和拍摄照射位置的校正信息尺寸测量图案在预定条件下形成在具有对应于潜在的样本的层构造的测试样品上应绘制图像，精细图案的设计数据。选择图：图1

5. 发明专利

JP2016001708A リソグラフィ装置、及び物品の製造方法审中-公开
标题翻译： LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE
公开(公告)号：JP2016001708A
公开(公告)日：2016-01-07
申请号：JP2014121842
申请日：2014-06-12
申请人：キヤノン株式会社
发明人：小川茂樹 , 稲秀樹 , 大石哲
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/304 , H01J37/244 , H01J37/3045 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/20 , H01J2237/30433
摘要：【課題】重ね合わせ精度と線幅精度との両立に有利なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】基板上の第1領域及び第2領域のそれぞれにビームを順次照射してパターンを形成するリソグラフィ装置であって、前記ビームを検出するビーム検出部と、前記第1領域へのビームの照射の前における前記ビーム検出部の出力に基づく前記第2領域の第1位置情報と、該照射の後における前記ビーム検出部の出力に基づく前記第2領域の第2位置情報とのそれぞれに重み付けを与えて前記第2領域の位置情報を得る処理部と、を有することを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。【選択図】図4
摘要翻译：要解决的问题：提供有利于实现重叠精度和线宽精度两者的光刻设备。解决方案：提供一种光刻设备，其分别顺序地用光束照射第一区域和第二区域以在其上形成图案。该装置包括：检测光束的光束检测部; 以及处理部，其通过基于在用所述光束照射所述第一区域之前的所述光束检测部的输出对所述第二区域的第一位置信息进行加权来获得关于所述第二区域的位置信息，以及基于所述第二区域的第二位置信息，基于辐射后光束检测部分的输出。

6. 发明专利

JP2015076614A 電子ビーム露光装置审中-公开
标题翻译：电子束曝光装置
公开(公告)号：JP2015076614A
公开(公告)日：2015-04-20
申请号：JP2014205833
申请日：2014-10-06
申请人：三星電子株式会社 , Samsung Electronics Co.,Ltd.
发明人：劉相用 , 李祥熙 , 文誠庸
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/20 , H01J37/244 , H01J37/304 , H01J37/3174 , H01J2237/24514 , H01J2237/24542 , H01J2237/24564 , H01J2237/30433 , H01J2237/30455 , H01J2237/31774 , H01J2237/31776 , H01J2237/31798
摘要：【課題】露光過程においてリアルタイムで電子ビームのエラーを検出できる電子ビーム露光装置を提供する。【解決手段】電子ビーム露光装置は、第1入力データに対応する電子ビームと第2入力データに対応する電子ビームとを照射する電子ビームソース部20と、第1入力データに基づいて電子ビームが照射されるマスク200が上面に形成され、マスク200を移動させるステージ100と、第2入力データに基づいて照射される電子ビームに関するエラーを検出し、エラーが検出された電子ビームに基づいてエラー検出情報を出力するエラー検出装置300と、を含む。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在曝光过程中实时检测电子束的误差的电子束曝光装置。解决方案：电子束曝光装置包括：电子束源20，其发射对应于第一输入数据和对应于第二输入数据的电子束; 具有基于第一输入数据形成在其表面上并用电子束照射的掩模200的台架100，并且被配置为移动掩模200; 以及错误检测装置300，其基于第二输入数据检测与发射的电子束有关的误差，并且基于检测到错误的电子束输出错误检测信息。

7. 发明专利

JP5203992B2 Electron beam lithography system and an electron beam drawing method 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5203992B2
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：JP2009020272
申请日：2009-01-30
申请人：株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：高尚東矢
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/76 , G03F1/78 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/78 , H01J37/21 , H01J2237/20235 , H01J2237/216 , H01J2237/30433

8. 发明专利

JP2008300479A Charged particle beam drawing apparatus, and charged particle beam drawing method 有权
标题翻译：充电颗粒光束绘图设备和充电颗粒光束绘图方法
公开(公告)号：JP2008300479A
公开(公告)日：2008-12-11
申请号：JP2007143034
申请日：2007-05-30
申请人： Nuflare Technology Inc , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人： ABE TAKAYUKI
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/20 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/244 , H01J37/3174 , H01J2237/20235 , H01J2237/30433
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus in which the drawing time is shortened and the number of sensors for measuring the height of a sample is decreased even when a multicolumn system is employed. SOLUTION: The drawing apparatus 100 includes an XY stage 105 moving in a predetermined direction while mounting a sample 101, a column 220 for irradiating the drawing region of the sample 101 with an electron beam 200, a column 320 located in the rear of the column 220 and irradiating the drawing region of the sample 101 with an electron beam 300, a z sensor (a floodlight 209 and a photodetector 210) for measuring the height of a sample in front of the position where the column 220 irradiates the electron beam 200 in the predetermined direction or directly under the irradiating position. The drawing time can be shortened and the number of sensors can be made fewer than the number of columns. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：即使使用多列系统，也提供了缩短抽取时间并且用于测量样品的高度的传感器的数量减少的装置。解决方案：绘图装置100包括：XY平台105，在安装样品101的同时沿预定方向移动，用于用电子束200照射样品101的绘制区域的柱220;位于后方的柱320 并用电子束300照射样品101的绘图区域，用于测量在柱220照射电子束的位置之前的样品的高度的az传感器（泛光灯209和光电检测器210） 200在预定方向上或直接在照射位置下。可以缩短绘图时间，并且可以使传感器的数量少于列数。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2003077813A Method of evaluating imaging performance of charged particle beam exposure device, method of adjusting the charged particle beam exposure device, beam spread measuring apparatus and the charged particle beam exposure device 审中-公开
标题翻译：评估充电颗粒光束曝光装置的成像性能的方法，调整充电颗粒光束曝光装置的方法，光束传播测量装置和充电颗粒光束曝光装置
公开(公告)号：JP2003077813A
公开(公告)日：2003-03-14
申请号：JP2001268320
申请日：2001-09-05
申请人： Nikon Corp , 株式会社ニコン
发明人： YAHIRO TAKEHISA
IPC分类号： G03F1/44 , G03F7/20 , H01J37/04 , H01J37/305 , H01J37/317 , H01L21/027 , G03F1/08
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174 , H01J2237/30433
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method, etc., of evaluating the imaging performance of a charged particle beam exposure device, which instantaneously measures the distribution of a beam spread in subfields.
SOLUTION: Rectangular beams EBa-EBi, passed through nine rectangular openings of a reticle are shown and arranged equidistant on a knife-edge plate 2 having knife edge-like reference marks 1a-1i disposed in three rows and three columns, so that the distances of the rectangular beams EBa-EBi from the reference marks 1a-1i increase one after the other in the direction X. The reference marks 1a-1i one after the other is irradiated by the rectangular beams EBa-EBi to scan over them, thereby obtaining nine beam current waveforms one after the other. The nine waveforms are differentiated to measure their respective rises, thus enabling measurement of the beam spread approximately at the same time, at the nine points.
COPYRIGHT: (C)2003,JPO
摘要翻译：要解决的问题：提供一种评估带电粒子束曝光装置的成像性能的方法等，其即时地测量在子场中扩展的光束的分布。解决方案：将通过分划板的九个矩形开口的矩形光束EBa-EBi示出并布置在具有设置在三列和三列的刀形状参考标记1a-1i的刀刃板2上，使得距离来自参考标记1a-1i的矩形光束EBa-EBi沿方向X一个接一个地增加。一个接一个地照射参考标记1a-1i被矩形光束EBa-EBi照射以扫描它们，从而获得九个电流波形一个接一个。 9个波形被差分以测量它们各自的上升，从而能够在9点的同时测量光束。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式