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1. 发明专利

JP6052291B2 半導体装置の製造方法、半導体製造装置有权
标题翻译：制造半导体装置，半导体制造装置的方法
公开(公告)号：JP6052291B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：JP2014537877
申请日：2012-09-26
申请人：三菱電機株式会社
发明人：寺島知秀 , 吉浦康博 , 大月詠子
IPC分类号： H01L21/683 , H01J37/30 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/263 , H01J37/30 , H01J37/3002 , H01L21/67115 , H01L21/67718 , H01L21/67745 , H01L21/6776 , H01L21/68 , H01J2237/201 , H01J2237/202 , H01J2237/20221 , H01J2237/30455 , H01J2237/317

2. 发明专利

JP5846931B2 電子顕微鏡用試料ホルダ有权
标题翻译：用于电子显微镜的样品保持器
公开(公告)号：JP5846931B2
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：JP2012012610
申请日：2012-01-25
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：寺田尚平 , 谷口佳史 , 長久保康平
IPC分类号： H01J37/20
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J2237/2007 , H01J2237/201 , H01J2237/20214 , H01J2237/2802

3. 发明专利

JPWO2013014860A1 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法有权
标题翻译：等离子体处理装置和等离子体处理方法
公开(公告)号：JPWO2013014860A1
公开(公告)日：2015-02-23
申请号：JP2013525555
申请日：2012-06-29
申请人：パナソニック株式会社
发明人：尚吾置田 , 尚吾置田 , 渡邉　彰三 , 彰三渡邉
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/3065 , H01L21/673 , H01L31/04
CPC分类号： H01L31/18 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01J2237/201 , H01L21/67069 , H01L21/68764 , H01L21/68785
摘要：ドライエッチング装置1は基板5を搬送するトレイ3を備える。トレイ3には3枚の基板5を収容可能な貫通孔である基板収容孔4A〜4Cが設けられている。基板5は基板収容孔4A〜4Cの孔壁から突出する基板支持部11により支持される。プラズマを発生させるチャンバ2内にはステージ21が設けられている。ステージ21はトレイ3の下面から基板収容孔4A〜4Cに挿入され、かつその上端面である基板載置面28に基板支持部11から受け渡された基板の5下面が載置される基板載置部27A〜27Cを備える。角型基板に対する高い形状制御性と良好な生産性の両方を、装置の大型化を抑制しつつ実現できる。
摘要翻译：干式蚀刻装置1中设置有用于输送基板5的托盘3。基板收纳孔4A〜4C中的托盘3能够容纳设置三个5所述基板的通孔中。基板5由基板支撑部11从基板收容孔4A-4C的孔壁突出支撑。台21在腔室2，用于产生等离子体提供。台21从基板收容孔4A-4C在托盘3的下侧插入，并且所述基板的所述安装架5的下表面被放置在从基板的基板载置面28上支撑单元11，其是其上端表面转印的基板它设置有一个部27A〜27C。兼具高的形状控制性和方形基板良好的生产率，能够在抑制装置的大型化而实现。

4. 发明专利

JP2014182125A Multiple sample attachment to nano manipulator for high throughput sample preparation 审中-公开
标题翻译：用于高通量样品制备的纳米操纵器的多个样品附着
公开(公告)号：JP2014182125A
公开(公告)日：2014-09-29
申请号：JP2014040004
申请日：2014-03-02
申请人： Fei Co , エフ・イ−・アイ・カンパニー
发明人： SCHMIDT MICHAEL , STONE STACEY , COREY SENOWITZ
IPC分类号： G01N1/28 , G01N1/04 , H01J37/20 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3023 , G01N1/286 , H01J2237/201 , H01J2237/208 , H01J2237/31745
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an improved method for extracting and handling multiple samples for S/TEM analysis.SOLUTION: Preferred embodiments of the present invention make use of a micromanipulator that attaches multiple samples at one time in a stacked formation and a method of placing each of the samples onto a TEM grid. By using a method that allows the processing of multiple samples, the throughput of sample preparation is increased significantly.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于提取和处理多个样品以进行S / TEM分析的改进方法。解决方案：本发明的优选实施方案利用在堆叠形式中一次附着多个样品的显微操纵器，以及将每个样品放置在TEM网格上。通过使用允许多个样品处理的方法，样品制备的通过量显着增加。

5. 发明专利

JP5035345B2 Ion implantation apparatus, the substrate clamping mechanism, and ion implantation method 有权
公开(公告)号：JP5035345B2
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：JP2009529914
申请日：2007-08-30
申请人：富士通セミコンダクター株式会社
发明人：秀徳高橋
IPC分类号： H01L21/265 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/20 , H01J2237/2007 , H01J2237/201 , H01J2237/204 , H01J2237/31701 , H01L21/68728 , H01L21/68771

6. 发明专利

JP4966693B2 Sample transfer device and method 有权
公开(公告)号：JP4966693B2
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：JP2007049618
申请日：2007-02-28
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：秀寿佐藤 , 克也川上 , 英樹谷田部 , 毅志郡司
IPC分类号： H01L21/677
CPC分类号： H01L21/67769 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J2237/201 , H01J2237/204 , H01J2237/2816 , H01J2237/2817 , H01L21/67236 , H01L21/67259 , H01L21/67742

7. 发明专利

JP2012015286A Substrate processing apparatus 有权
标题翻译：基板加工设备
公开(公告)号：JP2012015286A
公开(公告)日：2012-01-19
申请号：JP2010149656
申请日：2010-06-30
申请人： Tokyo Electron Ltd , 東京エレクトロン株式会社
发明人： ODAGIRI MASAYA , MURAKI YUSUKE , FUJIWARA HITOSHI
IPC分类号： H01L21/3065 , C23C14/50 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67248 , C23C16/4586 , C23C16/463 , H01J37/20 , H01J37/32724 , H01J37/32779 , H01J2237/2001 , H01J2237/201 , H01L21/68771
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing apparatus capable of precisely performing temperature management and temperature control of the peripheral part and the central part of a substrate independently and simplifying a piping structure.SOLUTION: A substrate processing apparatus for processing substrates in a vacuum processing space includes a substrate mounting table for mounting at least two substrates thereon. The substrate mounting table includes substrate mounting units whose number corresponds to the number of the substrates mounted on the substrate mounting table. Each of the substrate mounting units includes a central temperature control flow path for cooling a central portion of the substrates to be mounted and a peripheral temperature control flow path for cooling a peripheral portion of the substrates, and the central temperature control flow path and the peripheral temperature control flow path are formed independently of each other. The substrate mounting table includes one temperature control medium inlet port for introducing a temperature control medium into the peripheral temperature control flow path, and temperature control medium outlet ports for discharging the temperature control medium from the peripheral temperature control flow path. The number of the temperature control medium outlet ports corresponds to the number of substrates to be mounted.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够独立地精确地进行基板的周边部分和中心部分的温度管理和温度控制的基板处理装置，并且简化管道结构。解决方案：用于在真空处理空间中处理基板的基板处理装置包括用于在其上安装至少两个基板的基板安装台。基板安装台包括基板安装单元，其数量对应于安装在基板安装台上的基板的数量。每个基板安装单元包括用于冷却要安装的基板的中心部分的中央温度控制流动路径和用于冷却基板的周边部分的周边温度控制流动路径，以及中央温度控制流路和周边温度控制流路彼此独立地形成。基板安装台包括一个用于将温度控制介质引入外围温度控制流路的温度控制介质入口和用于从温度控制流路径排出温度控制介质的温度控制介质出口。温度控制介质出口的数量对应于要安装的基板的数量。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2010511144A Apparatus and method for preparing a microscope specimen 有权
公开(公告)号：JP2010511144A
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：JP2009512270
申请日：2007-05-22
申请人： 10エイチインコーポレイテッド10H,Inc.
发明人：エル．グッドマン、スティーブン
IPC分类号： G01N1/28 , G01N1/30 , G01N1/36
CPC分类号： G01N1/31 , B01L3/0275 , B01L3/502 , B01L2300/042 , B01L2300/0609 , B01L2300/0681 , G01N1/36 , G01N2035/0427 , G01N2035/1048 , G02B21/34 , H01J2237/20 , H01J2237/2007 , H01J2237/201
摘要：顕微鏡分析用試料を調製し保存する装置、方法、およびシステムを開示する。該装置は、変位型ピペットに取り付けることによって、顕微鏡分析用試料を調製するのに望ましい試薬で貯留部を満たすことのできる貯留部を提供する。いくつかの実施形態では、標本が透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）グリッド上に含まれていてもよい。他の実施形態では、試料は光学顕微鏡（ＬＭ）標本または走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）標本であってもよい。さらに別の実施形態では、本発明は、ＴＥＭグリッドを調製する装置、ＴＥＭ、ＳＥＭ、またはＬＭ標本を調製する装置、およびグリッドと標本の両方を保存する装置など、顕微鏡検査用試料を調製する方法を提供する。さらに別の実施形態では、本発明は、長期保存を提供しつつ、複数の試料の調製、分析、および組織学的評価を追跡するシステムを提供する。

9. 发明专利

JP2009193833A Electron beam observation device using pre-specimen magnetic field as image-forming lens and specimen observation method 有权
标题翻译：使用预制磁场作为图像形成透镜和样本观察方法的电子束观测装置
公开(公告)号：JP2009193833A
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：JP2008033945
申请日：2008-02-15
申请人： Hitachi Ltd , 株式会社日立製作所
发明人： KASAI HIROTO , HARADA KEN
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/26 , H01J37/141 , H01J37/20 , H01J2237/14 , H01J2237/20 , H01J2237/201 , H01J2237/2802
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem that, since an objective lens having the most important role in electromagnetic lenses used for an electron microscope achieves a short focal length by a large exciting current to perform high spatial resolution, on the other hand, in case if it is used for dimension instrumentation, reproducibility of image forming condition is insufficient due to magnetic hysteresis, as well as observation in a low magnification of about 200 to 2,000 times is difficult, and also, since the specimen is disposed in a magnetic field generated in the objective lens, the specimen is observed in a state of being always immersed in a magnetic field. SOLUTION: The electron beam observation device includes a mechanism which disposes a specimen at an upstream side in an electron beam traveling direction outside an objective lens, from which an image is transferred under a magnification of 1/5 to 1/30, in addition to an inside of the objective lens in which a specimen is disposed at a time of ordinary observation. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题为了解决由于在电子显微镜中使用的电磁透镜中具有最重要作用的物镜通过大的激励电流实现短焦距以执行高空间分辨率的问题，另一方面手，如果用于尺寸仪器，则由于磁滞而导致图像形成条件的再现性不足，并且难以在约200至2,000倍的低倍率下观察，并且由于将样品置于在物镜中产生的磁场，在始终浸没在磁场中的状态下观察样本。解决方案：电子束观察装置包括将物镜放置在物镜外侧的电子束行进方向上游侧的试样，以1/5〜1/30的倍率进行图像转印的机构，除了在普通观察时在其中放置样本的物镜的内部。版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2007129214A Stage assembly, particle-optical apparatus including such stage assembly, and method of treating sample in such apparatus 审中-公开
标题翻译：阶段装配，包括这种装配的颗粒光学装置以及在这种装置中处理样品的方法
公开(公告)号：JP2007129214A
公开(公告)日：2007-05-24
申请号：JP2006286486
申请日：2006-10-20
申请人： Fei Co , エフイーアイカンパニFei Company
发明人： TAPPEL HENDRIK GEZINUS , HEES VAN IAN JOHANNES BERNARDU , LANKERS DANNY , VAN VEEN GERARD NICOLAAS ANNE , YOUNG RICHARD , GIANNUZZI LUCILLE ANN
IPC分类号： H01L21/683 , G01N1/28 , H01J37/20 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/68 , G01R31/2898 , H01J37/20 , H01J37/3005 , H01J37/3056 , H01J2237/201 , H01J2237/202 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/20221 , H01J2237/20242 , H01L21/68764
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a stage assembly that allows a sample to be more uniformly treated in a dual-beam particle optical apparatus. SOLUTION: The stage assembly includes a first source for generating a first irradiating beam E along a first axis A1; a second source for generating a second irradiating beam I along a second axis A2 that intersects the first axis at a beam intersection point; a sample table 21 on which a sample can be mounted; and a set of actuators arranged to effect translation of the sample table along directions substantially parallel to an X-axis that is perpendicular to a reference plane, a Y-axis parallel to the reference plane, and a Z-axis parallel to the reference plane. The set of actuators is further arranged to effect rotation of the sample table 21 about a rotation axis RA substantially parallel to the Z-axis and rotation of the sample table about a flip axis FA substantially perpendicular to the Z-axis. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种允许在双光束粒子光学装置中更均匀地处理样品的载物台组件。解决方案：舞台组件包括用于沿着第一轴线A1产生第一照射光束E的第一光源; 第二源，沿着与光束交叉点处的第一轴相交的第二轴线A2产生第二照射光束I; 其上可以安装样品的样品台21; 以及一组致动器，其被布置成沿着基本上平行于垂直于参考平面的X轴，平行于参考平面的Y轴和平行于参考平面的Z轴的方向来实现样本台的平移。该组致动器进一步布置成使样本台21围绕基本上平行于Z轴的旋转轴线RA和基本上垂直于Z轴的翻转轴FA的样本台的旋转来进行旋转。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

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