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1. 发明专利

JP2016012694A リソグラフィ装置、および物品製造方法审中-公开
标题翻译：平面设备和产品生产方法
公开(公告)号：JP2016012694A
公开(公告)日：2016-01-21
申请号：JP2014134545
申请日：2014-06-30
申请人：キヤノン株式会社
发明人：小川茂樹 , 杵渕広海
IPC分类号： H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70383 , G03F7/70558 , G03F7/70616
摘要：【課題】ビームに関する検査の頻度と生産性との両立の点で有利なリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】パターンの形成を複数のビームで基板に行うリソグラフィ装置であって、複数のビームを基板に照射する光学系と、光学系を制御する制御部とを備え、制御部は、基板の第1領域に物品のための第1パターンの形成を行い、第1領域とは異なる基板の第2領域に複数のビームの検査のための第2パターンの形成を行うように、光学系を制御することを特徴とする。【選択図】図8
摘要翻译：要解决的问题：提供有利于实现检查频率和射束生产率的光刻设备。解决方案：公开了一种通过多个光束在基板上形成图案的光刻设备。该装置包括：用多个光束照射基板的光学系统; 以及控制光学系统的控制部。所述控制部分形成用于所述基板的第一区域中的物品的第一图案，并且控制所述光学系统，以便形成用于在与所述第一区域不同的所述基板的第二区域中检查所述多个光束的第二图案。

2. 发明专利

JP2015164227A レーザ・アブレーション微細機械加工用の荷電粒子ビーム・マスキング有权
标题翻译：充电粒子束掩模用于激光吸收微孔
公开(公告)号：JP2015164227A
公开(公告)日：2015-09-10
申请号：JP2015111004
申请日：2015-05-31
申请人：エフ・イ−・アイ・カンパニー
发明人：マーカス・ストロー , ミロス・トス , マーク・ダブリュー・ウトロート , スティーブン・ランドルフ , マイケル・リソー
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/066 , B23K26/361 , B23K26/18 , H01J37/305 , H01J37/317 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70383 , B23K26/0624 , B23K26/0661 , B23K26/18 , H01J37/228 , B23K2201/40 , B23K2201/42 , H01J2237/31749
摘要：【課題】基板を微細機械加工する改良された方法を提供すること。【解決手段】本発明の好ましい実施形態は、荷電粒子ビーム・マスキングおよびレーザ・アブレーションを利用する改良された方法を提供する。荷電粒子ビーム・マスク製造と超短パルス・レーザ・アブレーションの利点の組合せを使用して、基板の加工時間を著しく短縮し、レーザ・アブレーションによって機械加工されるフィーチャの横方向解像度およびアスペクト比を向上させる、好ましくは機械加工レーザの回折限界よりも小さくする。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供用于微加工基底的改进方法。解决方案：本发明的优选实施例提供了使用带电粒子束掩蔽和激光烧蚀的改进方法。使用带电粒子束掩模制造和超短脉冲激光烧蚀的优点的组合来显着地减少基板处理时间并提高由激光烧蚀加工的特征的横向分辨率和纵横比，优选地小于加工激光器的衍射极限。

3. 发明专利

JP5603957B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5603957B2
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：JP2012554303
申请日：2011-02-18
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：オンフリー、ヨハネス , ヤーハー、ピーターデ , ズウェット、アーウィンファン
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/704 , G03F7/70383 , G03F7/70391

4. 发明专利

JP2014124939A Nanostructure and method for producing the same 有权
标题翻译：纳米结构及其制造方法
公开(公告)号：JP2014124939A
公开(公告)日：2014-07-07
申请号：JP2012285976
申请日：2012-12-27
申请人： Dexerials Corp , デクセリアルズ株式会社
发明人： ENDO SOMEI
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , G02B1/11 , G03F7/20 , G03F7/24 , H01L21/027
CPC分类号： B29C59/022 , B29C33/3842 , B29C43/021 , B29C59/04 , B29C2059/023 , B29K2833/04 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G02B1/118 , G03F7/0002 , G03F7/2053 , G03F7/32 , G03F7/70383
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a nanostructure which can be visually recognized in a seamless state owing to more regular and uniform formation of a fine uneven structure, and which exhibits an excellent antireflection effect to light in the visible light wavelength region.SOLUTION: In a nanostructure 1, tracks T1, T2, and T3 which are composed of structures 3, each formed with a protrusion or a recession on a surface of a substrate 2 and aligned with a fine predetermined pitch P1, are arranged in multiple rows. In the nanostructure 1, a center-to-center distance between mutually adjacent structures 3 in a seam (belt-like part) is adjusted such that the seam composed of sections with no structure 3 existing with a predetermined pitch thereon and continuously formed in the arrangement direction of the tracks is not visually recognized.
摘要翻译：要解决的问题：提供由于细小的不均匀结构的更规则和均匀的形成而可以在无缝状态下视觉识别的纳米结构，并且对可见光波长区域中的光表现出优异的抗反射效果。解决方案：在纳米结构1，轨道T1，T2和T3，其由在基板2的表面上形成有突起或凹陷并且与精细的预定间距P1对齐的结构3组成，排成多行。在纳米结构1中，调整接缝（带状部分）中相邻的结构体3之间的中心到中心距离，使得由没有结构3的部分构成的接缝以预定的间距存在并连续地形成在轨道的排列方向不能被视觉识别。

6. 发明专利

JP5397378B2 Photosensitive adhesive composition, film-like photosensitive adhesive, adhesive patterns, semiconductor wafer with adhesive, semiconductor device, and electronic components 有权
公开(公告)号：JP5397378B2
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：JP2010526745
申请日：2009-08-26
申请人：日立化成株式会社
发明人：崇司川守 , 一行満倉 , 崇増子 , 茂樹加藤木
IPC分类号： C09J179/08 , C09J4/02 , C09J7/00 , C09J7/02 , C09J163/00 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/075 , H01L21/301 , H01L21/52
CPC分类号： C09J4/00 , C08G73/1042 , C08G73/1046 , C08G73/106 , C08G73/1082 , C08L63/00 , C08L79/08 , C08L2666/02 , C08L2666/20 , C08L2666/22 , C09J4/06 , C09J163/00 , C09J179/08 , G03F7/038 , G03F7/70383 , H01L21/6836 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/48 , H01L24/73 , H01L24/83 , H01L25/50 , H01L2224/16 , H01L2224/274 , H01L2224/2919 , H01L2224/32145 , H01L2224/32225 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/73265 , H01L2224/83191 , H01L2224/83192 , H01L2224/83194 , H01L2224/83856 , H01L2224/92247 , H01L2225/06513 , H01L2924/00014 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01012 , H01L2924/01013 , H01L2924/01019 , H01L2924/0102 , H01L2924/01023 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/0104 , H01L2924/01044 , H01L2924/01046 , H01L2924/01047 , H01L2924/0105 , H01L2924/01051 , H01L2924/01075 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/014 , H01L2924/0665 , H01L2924/10253 , H01L2924/12041 , H01L2924/15788 , H01L2924/181 , H01L2924/351 , Y10T428/24355 , Y10T428/287 , Y10T428/31518 , H01L2924/00 , H01L2924/3512 , H01L2924/00012 , H01L2224/45099 , H01L2224/45015 , H01L2924/207
摘要： A photosensitive adhesive composition that can form an adhesive layer on an adherend and allows an adhesive pattern to be formed by exposure treatment with radiation and developing treatment with a developing solution, the photosensitive adhesive composition having solubility and developability, and the film thickness T 1 (µm) of the adhesive pattern formed after development satisfying the conditions represented by the following expression (1). T 1 / T 0 × 100 ‰¥ 90 [In expression (1), T 0 represents the film thickness (µm) of the adhesive layer before developing treatment.]

7. 发明专利

JP2014500523A Laser direct writing system to the mesa structure having a side wall of the reverse slope 审中-公开
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP2014500523A
公开(公告)日：2014-01-09
申请号：JP2013535359
申请日：2011-10-18
申请人：コミシリアアレネルジアトミックエオエナジーズオルタネティヴズ
发明人：デラ、オリビエ , フュジエ、パスカル , テビー、ゾエ
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： B23K26/02 , B41J2/442 , B41J2/465 , G03F7/20 , G03F7/2053 , G03F7/70383 , H01L21/0272 , H01L21/0275
摘要：本発明の全般的分野は、１つ以上の平らな感光層を含む平坦な基板（１）上で「リフトオン」として知られている技術を用いて、電子部品を製作するために設計されるフォトリソグラフィー・システムに関する。本発明によるシステムは、レーザー直接書き込み技術を使用する。それは前記層内で逆傾斜を有する外形を作り出すために、光学ビーム（Ｆ）の有用な部分が感光層の平面上で傾いているように構成される、光学的又は機械的手段を備え、光学ビームの有用な部分は前記外形を作り出すために効果的に寄与する、光学ビームの部分である。本発明の１つの好適な実施形態において、本システムは集束用光学的部分（２３）の近傍に位置する光学ビームの部分的な閉鎖用の手段（５０）を含む。
摘要翻译：在设计用于使用在包括一个或多个平面感光层的平面基板上使用称为“剥离”的技术来生产电子部件的光刻系统领域中，系统使用激光直写技术。其包括光学或机械装置，其被配置为使得光束的有用部分在感光层的平面上倾斜，以便在所述层内产生具有倒置斜率的轮廓，光束的有用部分是光束有效地用于创建所述轮廓。在一个优选实施例中，该系统包括用于部分快门位于聚焦光学器件附近的光束的装置。

8. 发明专利

JP2013546186A Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP2013546186A
公开(公告)日：2013-12-26
申请号：JP2013541282
申请日：2011-11-15
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：ズウェット、アーウィンファン , ヤーハー、ピーターデ , オンフリー、ヨハネス , マン、ヘンドリックデ
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F7/70216 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/70275 , G03F7/70375 , G03F7/70383 , G03F7/70391 , G03F7/704
摘要：【課題】マスクレスリソグラフィ装置のフォーカスを制御するシステムを提供する。
【解決手段】プログラマブルパターニングデバイスの像を基板に投影する投影系が設けられている。第１アクチュエータシステムは、投影系の複数のレンズの少なくとも１つを投影系の光軸に垂直な方向に移動させるよう構成されている。また、放射ビームエキスパンダが設けられており、プログラマブルパターニングデバイスの像を前記レンズに投影するよう構成されている。さらに、第２アクチュエータシステムが設けられており、基板に投影される像のフォーカスを制御するために投影系の光軸に平行な方向に放射ビームエキスパンダを移動させるよう構成されている。
【選択図】図５

9. 发明专利

JP2013069888A Pattern forming device 审中-公开
标题翻译：图案形成装置
公开(公告)号：JP2013069888A
公开(公告)日：2013-04-18
申请号：JP2011207687
申请日：2011-09-22
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： INENAMI RYOICHI , SANHONGI AKIKO , KASHIWAGI HIROYUKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70383
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To improve pattern drawing accuracy in a multi-probe lithography technique.SOLUTION: A pattern forming device of an embodiment comprises: a stage 11; a plurality of probes A to E; drive units 14 and 15; a drawing unit 16; and a control unit 18. The control unit 18 draws the same pattern under the same condition as a test using the plurality of probes A to E, calculates deviations with respect to target values of positions and sizes of a plurality of patterns drawn as the test as a positional deviation and a size deviation, selects a normal probe whose positional deviation and size deviation are in an allowable range, performs correction processing for adjusting a sub-drawing area drawn by the normal probe in a main drawing area of a substrate 12, and draws the sub-drawing area using the normal probe.
摘要翻译：要解决的问题：为了提高多探针光刻技术中的图形绘制精度。解决方案：实施例的图案形成装置包括：台11; 多个探针A〜E; 驱动单元14和15; 绘图单元16; 和控制单元18.控制单元18在与使用多个探针A至E的测试相同的条件下绘制相同的图案，计算相对于作为测试绘制的多个图案的位置和尺寸的目标值的偏差作为位置偏差和尺寸偏差，选择位置偏差和尺寸偏差在允许范围内的普通探针，进行校正处理，用于调整由基板12的主绘图区域中的普通探针绘制的辅助绘图区域，并使用普通探针绘制子绘图区域。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2013511737A Exposure equipment 审中-公开
公开(公告)号：JP2013511737A
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：JP2012539264
申请日：2010-11-08
申请人：クレオアクチェンゲゼルシャフト
发明人：オポバーハンス , ユンガークラウス
IPC分类号： G03F7/22 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/20 , B23K26/0608 , B23K26/0821 , B23K26/083 , G02B26/123 , G03F7/70383 , G03F7/704 , G03F7/70791
摘要：本発明は、対象物上に配置された感光層において露光された構造を作り出すための露光システムに関し、該露光システムは、対象物を受容する対象物キャリアと露光装置とを備え、対象物キャリア及び露光装置は相互に変位可能であり、露光装置から出る露光ビームの各々によって露光ユニットが露光スポットを感光層上に形成可能となるように、露光装置は露光スポットを制御された位置で感光層上に形成することができる。本発明の提案によれば、一連の第１露光ビームを発生させる少なくとも一つの第１露光ユニット及び一連の第２露光ビームを発生させる少なくとも一つの第２露光ユニットが、少なくとも一つの偏向要素に関連付けられ、その第１露光ビーム又は第２露光ビームは、変位中に同偏向要素によって偏向可能であり、第１露光ビームに対する反射領域及び第２露光ビームに対する反射領域が、連続方向にて相互にオフセットして偏向要素に配置される。

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