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1. 发明专利

JP5856351B2 リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法有权
标题翻译：光刻设备和器件制造方法
公开(公告)号：JP5856351B2
公开(公告)日：2016-02-09
申请号：JP2015502152
申请日：2013-02-05
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：フークス、マルティヌス , ブリーケル、アルノ
IPC分类号： G02B13/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/70191 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70391 , G03F7/704

2. 发明专利

JP5836002B2 荷電粒子ビーム描画方法及び装置有权
标题翻译：带电粒子束写入方法和装置
公开(公告)号：JP5836002B2
公开(公告)日：2015-12-24
申请号：JP2011176468
申请日：2011-08-12
申请人：日本電子株式会社
发明人：木内太一 , 長谷川貴久
IPC分类号： H01J37/305 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2059 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/704 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31776 , Y10S430/143

3. 发明专利

JP2015503234A リソグラフィ装置及びデバイス製造方法有权
标题翻译：光刻设备和器件制造方法
公开(公告)号：JP2015503234A
公开(公告)日：2015-01-29
申请号：JP2014543941
申请日：2012-12-05
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ. , エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：バトラー、ハンス , ブレーケル、アーノ , ヘヌス、ピーター , フークス、マルティヌス , アントワンヨハンホル、スフェン , アントワンヨハンホル、スフェン , デルスホート、ハルメンファン , デルスホート、ハルメンファン , スラヘッケ、ベルナルドュス , ティンネマンス、パトリシウス , デルウェイスト、マルクファン , デルウェイスト、マルクファン , ザール、コーエン , カデー、テオドルス、ペトルス、マリア , ベーレンス、リュート , フィスヘル、オロフ , アーンヘネント、ウーター , ヨハネスマリアボシュ、ニールス , ヨハネスマリアボシュ、ニールス
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70275 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70558 , G03F7/70816 , G03F7/709
摘要：【課題】例えば、パターン露光精度を保ちながら可動構成要素の高速/高加速度を提供することのできるシステムを提供する。【解決手段】露光装置(1)は、複数の放射ビームを目標物に投影するよう構成されている投影系(12,14)と、少なくとも軸(10)まわりに回転可能である可動フレーム(8)と、可動フレームの幾何学的な中心に相当する軸から離れた軸に可動フレームを変位させ、フレームの質量中心を通る軸まわりにフレームを回転させるアクチュエータシステム(11)と、を含む。【選択図】図1
摘要翻译：例如，为了提供能够提供运动部件的高速/高加速度，同时保持图案曝光精度的系统。的曝光装置（1）包括多个辐射束的投影系统的配置为将所述目标投影到（12，14），可移动框架（8是可旋转的，至少所述轴（10）周围）并且包括轴与可动框架从对应于移动框架的几何中心的轴线移位远离，用于旋转所述框架绕穿过所述框架的质量的中心的轴线，致动器系统（11）。点域1

4. 发明专利

JP5603957B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5603957B2
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：JP2012554303
申请日：2011-02-18
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：オンフリー、ヨハネス , ヤーハー、ピーターデ , ズウェット、アーウィンファン
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/704 , G03F7/70383 , G03F7/70391

5. 发明专利

JP5576509B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5576509B2
公开(公告)日：2014-08-20
申请号：JP2012551569
申请日：2011-02-02
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：ツウェット、エルウィンファン , ヤーゲル、ピエテルデ , オンフレー、ヨハネス , フリッツ、エリク
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70366 , G03F7/70275 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70491 , G03F7/70883

6. 发明专利

JP5469674B2 Methods and systems to write to the workpiece 有权
公开(公告)号：JP5469674B2
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：JP2011539039
申请日：2009-12-04
申请人：マイクロニックマイデータアーベーMicronic Mydata Ab
发明人：サンドストロム、トルプヨン , リンドウ、シュテン
IPC分类号： G03F7/20 , G06T3/00 , H01L21/027
CPC分类号： B41J2/47 , G02B26/105 , G03F7/70291 , G03F7/70366 , G03F7/70391 , G03F7/704

7. 发明专利

JP2013546186A Lithographic apparatus and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP2013546186A
公开(公告)日：2013-12-26
申请号：JP2013541282
申请日：2011-11-15
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：ズウェット、アーウィンファン , ヤーハー、ピーターデ , オンフリー、ヨハネス , マン、ヘンドリックデ
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70641 , G03F7/70216 , G03F7/70258 , G03F7/70266 , G03F7/70275 , G03F7/70375 , G03F7/70383 , G03F7/70391 , G03F7/704
摘要：【課題】マスクレスリソグラフィ装置のフォーカスを制御するシステムを提供する。
【解決手段】プログラマブルパターニングデバイスの像を基板に投影する投影系が設けられている。第１アクチュエータシステムは、投影系の複数のレンズの少なくとも１つを投影系の光軸に垂直な方向に移動させるよう構成されている。また、放射ビームエキスパンダが設けられており、プログラマブルパターニングデバイスの像を前記レンズに投影するよう構成されている。さらに、第２アクチュエータシステムが設けられており、基板に投影される像のフォーカスを制御するために投影系の光軸に平行な方向に放射ビームエキスパンダを移動させるよう構成されている。
【選択図】図５

8. 发明专利

JP5282979B2 Exposure device 有权
公开(公告)号：JP5282979B2
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：JP2009290649
申请日：2009-12-22
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：通伸水村
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/704
摘要： Disclosed is an exposure device provided with: a beam spot generation means (9) that receives light (L1) from a light source and generates a plurality of beam spots at prescribed intervals, in at least two staggered rows; an optical scanning means (10) that moves the plurality of beam spots back and forth a prescribed amount in the direction in which the rows of beam spots extend; a pattern generator (11); and a projection lens (12). A plurality of prism-shaped switching elements comprising an electro-optical crystal material are arranged such that the central axes thereof are aligned with the centers of the back-and-forth scan ranges of the aforementioned beam spots, and each switching element is provided with a pair of electrodes on an opposing surface parallel to the central axis of said switching element. The switching elements are wider in the scan direction of the beam spots than the beam spots are. By turning the plurality of switching elements on and off, the pattern generator (11) optically modulates the aforementioned light (L1) to generate a prescribed pattern of light and dark. The projection lens (12) projects said pattern onto a color filter substrate (5).

9. 发明专利

JP5258226B2 Drawing device and drawing method 有权
公开(公告)号：JP5258226B2
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：JP2007209528
申请日：2007-08-10
申请人：株式会社オーク製作所
发明人：隆志奥山 , 義則小林
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70508 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/704
摘要： A photolithography system has at least one spatial light modulator, a scanning mechanism configured to move an exposure area relative to a target object in a scanning direction, a plurality of memories (1st to Nth memories), a data processor, and exposure controller. The exposure area is defined as a projection area of the spatial light modulator. The plurality of memories corresponds to a plurality of partial exposure areas that is defined by dividing the exposure area. The data processor successively writes exposure data into each memory in accordance with the timing of an exposure, and the exposure controller controls the plurality of light modulating elements on the basis of the relative position of the exposure area. The data processor writes newly generated exposure data into the first memory, and shifts exposure data stored in the 1st to (N-1)st memories to the 2nd to Nth memories, respectively.

10. 发明专利

JP5226557B2 Laser exposure method, a manufacturing method of the processing method and pattern moldings of the photoresist layer 有权
公开(公告)号：JP5226557B2
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：JP2009032581
申请日：2009-02-16
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：由久宇佐美
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/704 , G03F9/7026

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