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1. 发明专利

JP6305042B2 ガラスパネル用間隔保持部材及びその製造方法有权
公开(公告)号：JP6305042B2
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：JP2013253393
申请日：2013-12-06
申请人：日本板硝子株式会社 , ザ・ユニバーシティ・オブ・シドニー
发明人：河嶋由美 , 浅野修 , ジェンクコッカー
IPC分类号： E06B3/66 , C03C27/06
CPC分类号： E06B3/67326 , C23F1/00 , E06B3/6608 , E06B3/6612 , E06B3/66304 , E06B3/66309 , E06B3/66333 , E06B3/66357 , E06B3/677 , Y02A30/25 , Y02B80/24

2. 发明专利

JPWO2016181936A1 プリント基板用材料、金属積層板、それらの製造方法およびプリント基板の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016181936A1
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：JP2017517934
申请日：2016-05-09
申请人：旭硝子株式会社
发明人：細田朋也 , 笠井渉 , 佐々木徹 , 阿部正登志
IPC分类号： C08J5/18 , B32B15/08 , B32B15/082 , B32B27/30 , H05K1/03
CPC分类号： B32B15/08 , B32B7/12 , B32B27/30 , B32B37/06 , B32B2307/306 , B32B2457/08 , C09J5/06 , C09J7/00 , C09J7/0296 , C09J7/20 , C09J127/12 , C09J129/10 , C09J135/00 , C09J2203/326 , C09J2400/163 , C09J2427/00 , C23F1/00 , H05K1/03 , H05K1/0353 , H05K3/06
摘要：電気特性を維持しつつ、高温領域(150〜200℃)における反りを改善したプリント基板用材料、金属積層板、それらの製造方法およびプリント基板の製造方法を提供する。含フッ素樹脂層を有する材料について熱処理する。含フッ素樹脂層は、カルボニル基含有基、ヒドロキシ基、エポキシ基、およびイソシアネート基からなる群から選択される少なくとも1種の官能基を有し、融点が280〜320℃で、372℃、49Nの荷重下で測定された溶融流れ速度が2g/10分以上である含フッ素共重合体(a)を含有する組成物からなる。熱処理は、250℃以上、かつ、含フッ素共重合体(a)の融点よりも5℃以上低い温度で、熱処理前後の含フッ素樹脂層の溶融流れ速度の比と、熱処理後の含フッ素樹脂層の溶融流れ速度の値が、それぞれ特定の範囲内となるように行う。

3. 发明专利

JP6199564B2 低エネルギー・イオン・ビーム・エッチング有权
公开(公告)号：JP6199564B2
公开(公告)日：2017-09-20
申请号：JP2013004130
申请日：2013-01-13
申请人：エフ・イ−・アイ・カンパニー
发明人：チャド・ルー
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01J37/3053 , C23C14/022 , C23C14/46 , C23F1/00 , C23F1/02 , H01L21/31138 , H01J2237/3174

4. 发明专利

JP2017145497A 転がり摺動部材とこれを利用した転がり軸受、及び転がり摺動部材の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017145497A
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：JP2016030498
申请日：2016-02-19
申请人：株式会社ジェイテクト , 大同特殊鋼株式会社
发明人：稲崎奈雄 , 古川史洋 , 川崎官治 , 西坂寿人 , 服部智哉 , 北村和久 , 草深佑介 , 日下恵太 , 高林宏之 , 石田和久
IPC分类号： C21D9/40 , C22C38/54 , C21D1/76 , F16C19/06 , F16C33/62 , F16C33/64 , C22C38/00
CPC分类号： C21D1/76 , C21D9/40 , C22C38/00 , C22C38/54 , F16C19/06 , F16C33/62 , F16C33/64 , C22C38/60 , C23F1/00
摘要：【課題】優れた硬度と良好な耐食性を有する、転がり軸受に好適な転がり摺動部材の製造方法を提供する。【解決手段】質量%で、0.15≦C 【選択図】図1

5. 发明专利

JP2017515967A エッチングによって表面構造を形成するためのステンシル有权
公开(公告)号：JP2017515967A
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：JP2016548743
申请日：2014-11-24
申请人：アーカーカーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングAKK GmbH , アーカーカーゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツングAKK GmbH
发明人：ケスパーペーター , ケスパーペーター
IPC分类号： C23F1/00 , C09D11/00
CPC分类号： B41F15/34 , B29C45/372 , B41F19/00 , B41F23/00 , B41F31/00 , B41M7/00 , B41M7/0081 , B41M2205/00 , C23F1/00 , G03F7/12 , G03F7/24
摘要：本発明は、エッチングによって表面構造を形成するためのステンシルと、エッチングによって表面構造を形成するためのステンシルを製作する方法と、エッチングによって表面構造を形成するためのステンシルを製作するための印刷機と、エッチングによって表面構造を形成する方法とに関する。エッチングによって表面構造を形成するための公知のステンシルは、耐エッチング性ステンシル層(3)を備え、ステンシル層(3)は構造化対象の表面(2)に転写可能であり、エッチング処理の後にステンシル層(3)は構造化対象の表面(2)から少なくとも部分的に除去可能である。本発明によると、この公知のステンシルは、ステンシル層(3)が少なくとも2つの部分領域(4、5)を備え、少なくとも2つの部分領域(4、5)が構造化対象の表面から別々に除去可能であるように、精緻化および発展される。【選択図】図1b

6. 发明专利

JPWO2014125591A1 微細パターニング用表面化学処理装置有权
标题翻译：的精细图案的表面的化学处理装置
公开(公告)号：JPWO2014125591A1
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：JP2015500038
申请日：2013-02-14
申请人：株式会社島津製作所 , 公立大学法人首都大学東京 , 学校法人早稲田大学
发明人：内山　一美 , 一美内山 , 秀中嶋 , 秀中嶋 , 楊　明 , 明楊 , 湖烈曽 , 湖烈曽 , 義之菅原 , 義之菅原 , 西本　尚弘 , 尚弘西本
IPC分类号： B05C5/02 , B01J19/00 , B05B15/04
CPC分类号： B05B15/0431 , B01J19/00 , B05B7/06 , B05B7/14 , B05B15/0412 , B05C3/20 , B05C5/02 , B05C9/06 , C23F1/00 , C23F1/08
摘要：溶液(31)中に溶質(32)として溶解している分子の固相表面(1)への固定化の効率を向上させ、かつ、固相表面(1)での溶液(31)の広がりを確実に抑制して、固定化面積の微小化を可能とする微細パターニング用表面化学処理装置を提供する。本発明の装置は、一端が開口(11a)し、他端が液供給手段(14)に連通する第1の管路(11)と、その第1の管路(11)の開口(11a)の周りを囲むように一端が開口(12a)し、他端が液吸引手段(16)に連通する第2の管路(12)を備えるとともに、これらの第1、第2の管路(11,12)の開口(11a,12a)と、パターニング対象である固相表面(1)とを相対的に移動させる移動機構(21)を備えた構成とし、第1の管路(11)の開口(11a)からパターニング溶液(31)を吐出しながら、その周囲に存在する第2の管路(12)の開口(12a)からその溶液(31)を周囲の液相(2)もしくは気相とともに吸引することで、全方位への溶液(31)の滲みを防止し、微細パターンでの表面化学処理を可能とする。
摘要翻译：将溶液（31）的固定化的效率，其中溶质溶解作为（32）固体表面的分子（1）而提高，在固相表面上的溶液（31）的传播（1）和可靠地抑制，它提供了对表面的化学处理装置，用于固定化的区域的精细图案的小型化的可能性。本发明的装置中，一个端口（11a），第一导管，而另一端与液体供给装置（14）和（11），第一管道，其（11）的开口（11A）进行通信一端，以包围的开口部（12A），在另一端设置有第二导管进行通信（12）的吸液装置（16），第一，第二它们导管（11 ，12的开口（11A，12A）），用于相对移动的固体表面和（1）的图案化的对象（21），所述第一导管的开口设置有移动机构的结构（11）同时排出从（11A），图案形成溶液（31）中，用从溶液中（31）的第二导管（12）周围的液相中的开口（12A）（2）一起或气相周围存在通过抽吸，出血，以防止溶液（31）到所有方向，以允许表面化学处理的精细图案的。

7. 发明专利

JP2017007086A 少なくとも1つの面取りを有するシリコン系構成部品及びその製作方法审中-公开
标题翻译：具有至少一个倒角部及其制造方法的硅结构
公开(公告)号：JP2017007086A
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2016122399
申请日：2016-06-21
申请人：ニヴァロックス−ファーソシエテアノニム
发明人：アレクス・ガンデルマン
IPC分类号： G04B17/06 , G04B15/14 , G04B13/02 , B81C1/00
CPC分类号： G04D99/00 , B81C1/00103 , C23F1/00 , B81B2201/035 , B81B2203/0384 , B81C2201/0132 , B81C2201/0138 , B81C2201/014
摘要：【課題】構成部品の美的外観を改善し、かつ機械的強度を改善するための、新たなタイプのシリコン系微小機械構成部品及び新たなタイプの製作方法を提案する。【解決手段】本発明は、少なくとも1つの面取りを有するシリコン系微小機械構成部品に関し、このシリコン系微小機械構成部品は、少なくとも1つの傾斜した側壁のエッチングステップを、垂直な側壁の「Bosch」エッチングと組み合わせた方法から形成され、これにより、シリコン系ウェハの微小機械加工によって形成される構成部品の美的外観の改善及び機械的強度の改善が可能となる。【選択図】図16
摘要翻译：甲提高组件的美学外观，并且提高了机械强度，提出一种新的形态的制造方法的一个新的类型和基于硅的微机械部件。本发明涉及一种具有至少一个倒角，所述基于硅的微机械元件，所述至少一个倾斜的侧壁的蚀刻步骤的硅基微机械部件，“博世”垂直侧壁蚀刻它从该方法中的组合形成了，从而，提高了部件的美学外观的改进的和机械强度以由硅晶片的微细加工来形成也是可能的。 .The 16

9. 发明专利

JP2016054214A パターン形成方法审中-公开
标题翻译：模式形成方法
公开(公告)号：JP2016054214A
公开(公告)日：2016-04-14
申请号：JP2014179359
申请日：2014-09-03
申请人：株式会社東芝
发明人：小林克稔 , 笠原佑介 , 米満広樹 , 久保田仁 , 川西絢子
IPC分类号： G03F7/40 , B82Y40/00 , B82Y30/00 , H01L21/027
CPC分类号： C23F1/00 , B81C1/00396 , C23F4/00 , G03F7/0002
摘要：【課題】寸法ばらつきが抑制されたパターン形成方法を提供する。【解決手段】一実施形態によれば、パターンは、第1の膜の上に第1のパターンを形成し、第1および第2のブロック鎖を有するブロックコポリマ層を前記第1のパターン上に形成し、第2のパターンを形成する工程と、該第2のパターン上に第2の膜を成膜し、前記第2のパターンが露出するまで前記第2の膜を選択的に除去し、第3のパターンを形成し、前記第3のパターンをマスクとして前記第1の膜を加工することにより形成される。前記第2のパターンは、前記ブロックコポリマ層をミクロ相分離させ、前記第1または第2のブロック鎖を除去することにより形成される。前記第2の膜は、前記第1および第2のパターンとの加工選択比が取れる材料を塗布することにより成膜される。前記第3のパターンは、前記第2の膜をマスクとして前記第2のパターンおよび前記第1のパターンを選択的に除去することにより形成される。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：提供抑制尺寸变化的图案形成方法。解决方案：通过以下步骤形成图案：在第一膜上形成第一图案; 在所述第一图案上形成具有第一和第二嵌段链的嵌段共聚物层; 形成第二种模式; 在第二图案上沉积第二膜; 选择性地移除第二膜直到第二图案曝光; 形成第三种模式; 以及通过使用第三图案作为掩模来处理第一胶片。通过使嵌段共聚物层进行微相分离并除去第一嵌段链或第二嵌段链而形成第二图案。通过施加能够获得第一和第二图案之间的加工选择比的材料来沉积第二薄膜。通过使用第二膜作为掩模选择性地去除第二图案和第一图案来形成第三图案。选择图：图5

10. 发明专利

JP2015525040A トポグラフィー構造及びその製造方法有权
标题翻译：地形结构和其制造方法
公开(公告)号：JP2015525040A
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：JP2015524779
申请日：2013-07-31
申请人：エプコスアクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag , エプコスアクチエンゲゼルシャフトEpcos Ag
发明人：マルクシュタイナー、ステファン
IPC分类号： H03H9/17 , H03H3/02
CPC分类号： H03H9/171 , C23C16/44 , C23C16/45525 , C23C16/50 , C23F1/00 , H01L41/047 , H01L41/0805 , H01L41/316 , H03H3/02 , H03H9/02133 , H03H9/19 , H03H9/25
摘要： BAW共鳴器の製造は通常、基板及び金属層(TS、M1、M2)の圧電層(PS)上のヘテロエピタキシャル成長を伴う。この層成長方法ではカラム状、多結晶圧電層となり、トポロジー段に沿った結晶構造の成長欠陥を呈することが知られている。該成長欠陥はBAW共鳴器の技術的性能と信頼性に重大な影響を与える。よって本発明の目的は、製造段階で生じる問題点を回避し、特定の金属層の腐食受容性を低減できるような、例えばBAW電極に好適な構造及びその製造方法を提供することである。これは、トポロジー段に沿った形成被覆(AB)が稜線鈍角化の役割を果たし、被腐食性金属層の保護となる、本発明のトポグラフィー構造により達成される。【選択図】図4
摘要翻译： BAW谐振器的生产典型地涉及在衬底上的异质外延生长和所述金属层（TS，M1，M2）的压电体层（PS）。在此层生长方法柱形状，变得多晶压电体层中，已知呈现沿着拓扑阶段的晶体结构的生长缺陷。生长缺陷严重影响了体声波谐振器的技术性能和可靠性。因此，本发明的目的是避免在生产阶段出现的问题，可以降低特定金属层的腐蚀可接受性，例如，以提供一个合适的结构及其制造方法BAW电极。这形成沿着拓扑阶段（AB）的涂层起着钝角的脊的作用，腐蚀金属层的保护是由本发明的形貌结构来实现。点域4

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