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    • 4. 发明专利
    • 微細パターニング用表面化学処理装置
    • 的精细图案的表面的化学处理装置
    • JPWO2014125591A1
    • 2017-02-02
    • JP2015500038
    • 2013-02-14
    • 株式会社島津製作所公立大学法人首都大学東京学校法人早稲田大学
    • 内山 一美一美 内山秀 中嶋秀 中嶋楊 明明 楊湖烈 曽湖烈 曽義之 菅原義之 菅原西本 尚弘尚弘 西本
    • B05C5/02B01J19/00B05B15/04
    • B05B15/0431B01J19/00B05B7/06B05B7/14B05B15/0412B05C3/20B05C5/02B05C9/06C23F1/00C23F1/08
    • 溶液(31)中に溶質(32)として溶解している分子の固相表面(1)への固定化の効率を向上させ、かつ、固相表面(1)での溶液(31)の広がりを確実に抑制して、固定化面積の微小化を可能とする微細パターニング用表面化学処理装置を提供する。本発明の装置は、一端が開口(11a)し、他端が液供給手段(14)に連通する第1の管路(11)と、その第1の管路(11)の開口(11a)の周りを囲むように一端が開口(12a)し、他端が液吸引手段(16)に連通する第2の管路(12)を備えるとともに、これらの第1、第2の管路(11,12)の開口(11a,12a)と、パターニング対象である固相表面(1)とを相対的に移動させる移動機構(21)を備えた構成とし、第1の管路(11)の開口(11a)からパターニング溶液(31)を吐出しながら、その周囲に存在する第2の管路(12)の開口(12a)からその溶液(31)を周囲の液相(2)もしくは気相とともに吸引することで、全方位への溶液(31)の滲みを防止し、微細パターンでの表面化学処理を可能とする。
    • 将溶液(31)的固定化的效率,其中溶质溶解作为(32)固体表面的分子(1)而提高,在固相表面上的溶液(31)的传播(1) 和可靠地抑制,它提供了对表面的化学处理装置,用于固定化的区域的精细图案的小型化的可能性。 本发明的装置中,一个端口(11a),第一导管,而另一端与液体供给装置(14)和(11),第一管道,其(11)的开口(11A)进行通信 一端,以包围的开口部(12A),在另一端设置有第二导管进行通信(12)的吸液装置(16),第一,第二它们导管(11 ,12的开口(11A,12A)),用于相对移动的固体表面和(1)的图案化的对象(21),所述第一导管的开口设置有移动机构的结构(11) 同时排出从(11A),图案形成溶液(31)中,用从溶液中(31)的第二导管(12)周围的液相中的开口(12A)(2)一起或气相周围存在 通过抽吸,出血,以防止溶液(31)到所有方向,以允许表面化学处理的精细图案的。
    • 9. 发明专利
    • ノズル
    • 喷嘴
    • JP2017001127A
    • 2017-01-05
    • JP2015116513
    • 2015-06-09
    • 株式会社スギノマシン
    • 舟津 昭博江尻 祥恵
    • B24C5/02B24C5/04
    • B24C5/04B05B1/34B05B7/32B24C3/327B05B7/14
    • 【課題】液体を噴出するノズル、及び液体の噴流に研磨材を混合して噴出するノズル装置において、収束した噴流を得る。 【解決手段】ノズル10は、本体11と、本体11に設けられ、液体の噴流Jの中心線である軸線28を中心軸とするバッファー室29と、バッファー室29の前方側の面291に設けられ、軸線28を中心軸とし、液体を噴出する絞り35と、バッファー室29の前方側の面291に対向してバッファー室29の内部に設けられ、軸線28を中心軸とする円板30と、円板30をバッファー室29内で支持する支持部材31と、本体11に設けられ、液体を供給するための供給口121と、軸線28の延伸方向と異なる方向に沿って設けられ、バッファー室29の円板30よりも後方側に開口するとともに供給口121に連通する流入路12と、を備えている。 【選択図】図1
    • 一种用于喷射液体的喷嘴,和用于喷射的液体研磨材料喷射的混合物中,得到的融合射流喷嘴装置。 喷嘴10包括一主体11,在主体11中提供,缓冲室29的中心轴线的轴线28是流体喷射j的中心线上,设置在缓冲腔室29的前侧的面291上 是,中心轴的轴28,用于喷射液体的隔膜35设置在缓冲腔室29内以面向缓冲室29的前侧的面291,盘30,其中心轴线重合的轴线28 在缓冲室29支撑盘30的支撑件31,在主体11中,用于供应液体的供应口121提供,设置在从轴28,缓冲室的延伸方向不同的方向 比29的盘30包括与供给口121与一向后开口的侧连通的入口通道12。 点域1