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1. 发明专利

JP6183915B2 照明方法および顕微観察装置有权
公开(公告)号：JP6183915B2
公开(公告)日：2017-08-23
申请号：JP2014500972
申请日：2013-02-25
申请人：国立大学法人東京大学 , 国立大学法人静岡大学
发明人：高橋哲 , 高増潔 , 工藤良太 , 臼杵深
IPC分类号： G02B21/06
CPC分类号： G02B21/06 , G02B21/14 , G02B21/26 , G02F1/01 , G02B27/58 , G02B27/60

2. 发明专利

JP6369860B2 欠陥観察方法及びその装置有权
公开(公告)号：JP6369860B2
公开(公告)日：2018-08-08
申请号：JP2014145199
申请日：2014-07-15
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 国立大学法人東京大学
发明人：大谷祐子 , 前田俊二 , 浦野雄太 , 本田敏文 , 平井大博 , 高橋哲 , 高増潔
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8822 , G01N2021/8848 , G01N2021/8867

3. 发明专利

JP2017154260A オーバーハング構造体の製造方法及び製造装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017154260A
公开(公告)日：2017-09-07
申请号：JP2016036719
申请日：2016-02-29
申请人：国立大学法人東京大学 , JXTGエネルギー株式会社
发明人：高橋哲 , 道畑正岐 , 鈴木裕貴 , 鈴木邦和 , 田中大直
IPC分类号： B33Y10/00 , B33Y30/00 , B29C67/00
摘要：【課題】オーバーハング構造体を短時間で製造する新規な方法及び製造装置を提供する。【解決手段】光硬化材料に光照射することによりオーバーハング構造体を製造する方法は、光透過性の基材194の表面194s上に光硬化材料を供給して光硬化材料層210を形成することと、光300を前記基材194の前記表面194sの反対側から前記基材194の前記表面194sと前記光硬化材料層210の界面194sに集光させることにより、前記光硬化材料層210の一部をオーバーハング形状に硬化させることと、前記光硬化材料層210の未硬化の部分を除去することとを含む。【選択図】図2

4. 发明专利

JP2016020867A 欠陥観察方法及びその装置有权
标题翻译：缺陷审查方法和缺陷审查设备
公开(公告)号：JP2016020867A
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：JP2014145199
申请日：2014-07-15
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 国立大学法人東京大学
发明人：大谷祐子 , 前田俊二 , 浦野雄太 , 本田敏文 , 平井大博 , 高橋哲 , 高増潔
IPC分类号： G01N21/956
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/8851 , G01N21/9501 , G01N21/956 , G01N2021/8822 , G01N2021/8848 , G01N2021/8867
摘要：【課題】センサで捕集される欠陥散乱光量を上げるため,照明波長の短波長化や検出レンズの高NA化(NA: Numerical Aperture)などが行われている。しかし,照明波長短波長化には技術,装置コスト的に限界がある。検出レンズの高NA化方法としては,液浸や屈折率が負のメタマテリアルなどがあるが,液浸は半導体検査において使用は難しく、またメタマテリアルは、まだ技術的に実用化は困難である。【解決手段】照射条件または試料の条件または検出条件のうち少なくとも一つの条件のみを変化させた異なる複数の光学条件にて該試料を照射し該試料からの複数の光を検出する光取得ステップと、該検出した複数の光に基づく複数の信号を取得する信号取得ステップと、該複数の信号を用いて作成した波形特徴量または画像特徴量または値特徴量により、欠陥とノイズとを判別し、該欠陥の座標を求める処理ステップと、を備えた欠陥観察方法である。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题为了解决为了增加由传感器捕获的不良散射光的量，减少照明波长的波长，获得更高的NA（NA：数值孔径）检测的问题透镜等已经实现，但是照明波长的波长的降低在技术和设备成本方面具有其限制，并且作为获得检测透镜的高NA，浸液或具有负的超临界材料的方法屈光力等已经可以获得，然而，在半导体器件中难以使用液浸，并且在技术上难以实际使用超临界材料。解决方案：缺陷检查方法包括：光获取步骤，来自样品的多条光在多个不同的光学条件下照射样品，其具有至少仅一个条件的照射条件样品的条件或其检测条件发生变化; 信号获取步骤，基于所述多条检测到的光来获取多个信号; 以及根据通过使用多个信号准备的波形特征量，图像特征量或值特征量的量来识别缺陷与噪声的处理步骤，以及计算缺陷的坐标。选择图：图1

5. 发明专利

JP2020067538A 顕微鏡及び顕微法审中-公开
公开(公告)号：JP2020067538A
公开(公告)日：2020-04-30
申请号：JP2018199590
申请日：2018-10-23
申请人：国立大学法人東京大学
发明人：高橋哲 , 久米大将 , 道畑正岐
IPC分类号： G01N21/45 , G01N21/17 , G02B21/36 , G02B21/06
摘要：【課題】コヒーレント結像によって高解像ながら高い信頼性で対象像を取得することができる顕微鏡及び顕微法を提供する。【解決手段】顕微鏡100は、コヒーレント光源10と、コヒーレント光源10から構造照明用の光L21,L22を分岐して略対称的な一対の斜め方向から試料面88aの試料位置に照射する構造照明部20と、試料面88aの試料位置から射出された散乱光LO1の分布を対物レンズ45を介して検出する光検出部60と、コヒーレント光源10から参照用の光L3を分岐して光検出部60の検出面DSに照射することによって一様な電場シフトを与える参照光照射部30と、コヒーレント光源10から通常照明用の光L4を分岐して対物レンズ45越しに試料面88aの試料位置に照射する基本光照射部40と、を備える。【選択図】図1

6. 发明专利

JP2020051823A 計測装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020051823A
公开(公告)日：2020-04-02
申请号：JP2018179727
申请日：2018-09-26
申请人：国立大学法人東京大学
发明人：道畑正岐 , 高橋哲
IPC分类号： G01B11/08
摘要：【課題】測定対象への影響がなく、簡易かつ迅速な計測を可能にし、光ファイバその他の微小な計測対象についてサイズを正確に計測できる計測装置を提供すること。【解決手段】計測装置100は、円柱状の計測対象WOの中心軸SXを挟んで対向する方向から光を照射する光照射部10と、光が照射された計測対象WOの側面からの散乱光SLを検出する光検出部20と、光検出部20によって検出された散乱光SLの分布から計測対象WOのサイズを決定する情報処理部80とを備える。【選択図】図1

7. 发明专利

JP2019148773A 観察装置、観察方法、及び照明装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019148773A
公开(公告)日：2019-09-05
申请号：JP2018035106
申请日：2018-02-28
申请人：国立大学法人東京大学
发明人：高橋哲 , 佐久間涼子 , 道畑正岐
IPC分类号： G01N21/17 , G02B21/06
摘要：【課題】回折限界の1/2倍程度を超える分解能の実現が可能であり、シミュレーションによらないで直接的に対象像を演算できる観察装置を提供する。【解決手段】観察装置100は、所定の周期的な構造的パターンが形成された基板50と、基板50を一方側から所定波長の照明光で照明する光源部42と、基板50の近傍における光パターンの状態を変化させる照明変更部43,48aとを備える照明装置10と、基板50の近傍に配置された観察対象SAによって形成される像を撮影する撮像系61と、撮像系61によって得た像信号を演算処理することによって観察対象の像を再構築する演算処理装置80とを備え、演算処理装置80は、光源部42によって基板50を一方側から照明した状態で得た像から、基本光学応答分布と、当該基本の光学応答分布を挟んで所定空間周波数をシフトさせた複数対の拡張光学応答分布とを取得する。【選択図】図1

8. 发明专利

JP6555534B2 オーバーハング構造体の製造方法及び製造装置有权
公开(公告)号：JP6555534B2
公开(公告)日：2019-08-07
申请号：JP2016036719
申请日：2016-02-29
申请人：国立大学法人東京大学 , JXTGエネルギー株式会社
发明人：高橋哲 , 道畑正岐 , 鈴木裕貴 , 鈴木邦和 , 田中大直
IPC分类号： B29C64/268 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B29C64/135

9. 发明专利

JPWO2017030151A1 母型の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017030151A1
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2016074037
申请日：2016-08-17
申请人：国立大学法人東京大学 , JXTGエネルギー株式会社
发明人：高橋哲 , 鈴木裕貴 , 鈴木邦和 , 道畑正岐 , 高増潔 , 田中大直 , 西村涼
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027 , B29C33/38
CPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , G03F7/20
摘要：凹凸パターンを有する母型の製造方法は、高屈折率媒質130上に光硬化材料を供給して光硬化材料膜210を形成することと、前記高屈折率媒質130と前記光硬化材料膜210の界面230における所定領域に、前記高屈折率媒質130側から複数の光束330、370、390を、互いに異なる入射方向で且つ臨界角以上の入射角度で照射し、それにより発生した複光束干渉エバネッセント波により前記所定領域近傍の前記光硬化材料膜210を硬化させることとを含む。ナノインプリント法に用いるモールドの凹凸パターンを形成するための母型の新規な製造方法が提供される。

10. 发明专利

JP6808155B2 母型の製造方法有权
公开(公告)号：JP6808155B2
公开(公告)日：2021-01-06
申请号：JP2017535554
申请日：2016-08-17
申请人：国立大学法人東京大学
发明人：高橋哲 , 鈴木裕貴 , 鈴木邦和 , 道畑正岐 , 高増潔 , 田中大直 , 西村涼
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027 , B29C33/38

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