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1. 发明专利

JP2017154260A オーバーハング構造体の製造方法及び製造装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017154260A
公开(公告)日：2017-09-07
申请号：JP2016036719
申请日：2016-02-29
申请人：国立大学法人東京大学 , JXTGエネルギー株式会社
发明人：高橋哲 , 道畑正岐 , 鈴木裕貴 , 鈴木邦和 , 田中大直
IPC分类号： B33Y10/00 , B33Y30/00 , B29C67/00
摘要：【課題】オーバーハング構造体を短時間で製造する新規な方法及び製造装置を提供する。【解決手段】光硬化材料に光照射することによりオーバーハング構造体を製造する方法は、光透過性の基材194の表面194s上に光硬化材料を供給して光硬化材料層210を形成することと、光300を前記基材194の前記表面194sの反対側から前記基材194の前記表面194sと前記光硬化材料層210の界面194sに集光させることにより、前記光硬化材料層210の一部をオーバーハング形状に硬化させることと、前記光硬化材料層210の未硬化の部分を除去することとを含む。【選択図】図2

2. 发明专利

JP6555534B2 オーバーハング構造体の製造方法及び製造装置有权
公开(公告)号：JP6555534B2
公开(公告)日：2019-08-07
申请号：JP2016036719
申请日：2016-02-29
申请人：国立大学法人東京大学 , JXTGエネルギー株式会社
发明人：高橋哲 , 道畑正岐 , 鈴木裕貴 , 鈴木邦和 , 田中大直
IPC分类号： B29C64/268 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B29C64/135

3. 发明专利

JPWO2017030151A1 母型の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017030151A1
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2016074037
申请日：2016-08-17
申请人：国立大学法人東京大学 , JXTGエネルギー株式会社
发明人：高橋哲 , 鈴木裕貴 , 鈴木邦和 , 道畑正岐 , 高増潔 , 田中大直 , 西村涼
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027 , B29C33/38
CPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , G03F7/20
摘要：凹凸パターンを有する母型の製造方法は、高屈折率媒質130上に光硬化材料を供給して光硬化材料膜210を形成することと、前記高屈折率媒質130と前記光硬化材料膜210の界面230における所定領域に、前記高屈折率媒質130側から複数の光束330、370、390を、互いに異なる入射方向で且つ臨界角以上の入射角度で照射し、それにより発生した複光束干渉エバネッセント波により前記所定領域近傍の前記光硬化材料膜210を硬化させることとを含む。ナノインプリント法に用いるモールドの凹凸パターンを形成するための母型の新規な製造方法が提供される。

4. 发明专利

JP6808155B2 母型の製造方法有权
公开(公告)号：JP6808155B2
公开(公告)日：2021-01-06
申请号：JP2017535554
申请日：2016-08-17
申请人：国立大学法人東京大学
发明人：高橋哲 , 鈴木裕貴 , 鈴木邦和 , 道畑正岐 , 高増潔 , 田中大直 , 西村涼
IPC分类号： B29C59/02 , H01L21/027 , B29C33/38

5. 发明专利

JP2018025748A 光学位相差部材及びプロジェクタ审中-公开
公开(公告)号：JP2018025748A
公开(公告)日：2018-02-15
申请号：JP2017073865
申请日：2017-04-03
申请人： JXTGエネルギー株式会社
发明人：後藤正直 , 須崎吾郎 , 田中大直
IPC分类号： G02B1/11 , G02B5/18 , G03B21/14 , G02F1/13363 , G02F1/13357 , G02B5/30
摘要：【課題】広い波長範囲で高透過率を示す光学位相差部材を提供する。【解決手段】光学位相差部材100は、一方向に延在するとともに延在方向に垂直な面における断面が略台形状である複数の凸部60から構成された凹凸パターン80を有する透明基体40と、透明基体40の凸部60の上面60t及び側面60sに形成され、凸部60よりも高い屈折率を有する高屈折率層30と、凸部60の上面60tの高屈折率層30上に形成された積層体20とを備える。隣り合う凸部60の対向する側面60s上の高屈折率層30の間には空気層90が存在する。積層体20は、高屈折率層30上に形成された第1層22と、第2k−1層(kは1〜nの整数)上に形成された第2k層と、第2k層上に形成された第2k+1層を備え、第1層22の屈折率は高屈折率層30の屈折率よりも低く記第2k+1層の屈折率は第2k層の屈折率よりも低い。【選択図】図1

6. 发明专利

JP6484505B2 凹凸パターンを転写するための転写ロール、及びその転写ロールを有するフィルム部材の製造装置有权
公开(公告)号：JP6484505B2
公开(公告)日：2019-03-13
申请号：JP2015119666
申请日：2015-06-12
申请人： JXTGエネルギー株式会社
发明人：福田靖 , 田中大直 , 福田真林 , 大村匠
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , H01L21/027 , B29C59/04

7. 发明专利

JPWO2018212359A1 反射防止部材审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018212359A1
公开(公告)日：2020-03-19
申请号：JP2018019479
申请日：2018-05-21
申请人： JXTGエネルギー株式会社
发明人：高野香織 , 田中大直 , 關隆史 , 後藤正直
IPC分类号： G02B1/118
摘要：反射防止部材100は、凸部60及び凹部70から画成される凹凸表面80を有し、前記凹凸表面80の観察画像のフーリエ変換像が波数の絶対値が0μm −1 である原点を略中心とする円状又は円環状の模様を示し、前記凸部60及び前記凹部70が平面視上ランダムな方向に延在し、前記凸部60の延在方向に垂直な面で切断した前記凸部60の断面において、前記凸部60の幅が前記凸部60の底部70bから頂部60tに向かって小さくなっており、前記底部70bから0.95D(Dは前記凸部の高さ)の高さにおける前記凸部60の幅W1、及び、前記底部70bから0.05Dの高さにおける前記凸部60の幅W2が、0.04P

(81)指定国・地域 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,T J,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,R O,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,G T,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX ,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM, TN,TR,TT (72)発明者關隆史東京都千代田区大手町一丁目1番2号 JXTGエネルギー株式会社内 (72)発明者後藤正直東京都千代田区大手町一丁目1番2号 JXTGエネルギー株式会社内 Fターム(参考) 2K009 AA01 (注)この公表は、国際事務局(WIPO)により国際公開された公報を基に作成したものである。なおこの公表に係る日本語特許出願(日本語実用新案登録出願)の国際公開の効果は、特許法第184条の10第1項(実用新案法第48条の13第2項)により生ずるものであり、本掲載とは関係ありません。

8. 发明专利

JP6564714B2 光学位相差部材、光学位相差部材を備える複合光学部材、及び光学位相差部材の製造方法有权
公开(公告)号：JP6564714B2
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：JP2016018921
申请日：2016-02-03
申请人： JXTGエネルギー株式会社
发明人：後藤正直 , 須崎吾郎 , 田中大直
IPC分类号： G02B5/18 , H05B33/02 , H05B33/10 , G02F1/13363 , G02B5/30

9. 发明专利

JP2018180112A 光学位相差部材、及び光学位相差部材の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018180112A
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：JP2017076067
申请日：2017-04-06
申请人： JXTGエネルギー株式会社
发明人：田中大直 , 須崎吾郎 , 後藤正直
IPC分类号： G02B5/30
摘要：【課題】高透過率を有し、所望の位相差を生じることができ、機械強度及び耐湿性の高い光学位相差部材を提供する。【解決手段】本発明の光学位相差部材10Aは、第1面41及び該第1面41の反対側に位置する第2面42を有する基材40と、前記第1面41上に形成され、第1の無機材料から構成される第1凹凸構造体50と、前記第2面42上に形成され、第2の無機材料から構成される第2凹凸構造体52とを備え、前記第1凹凸構造体50が、前記第1面41に平行な第1方向に延在するとともに、前記基材40の前記第1面41から離れる方向に向かって幅が小さくなる複数の凸部60を備え、前記第2凹凸構造体52が、前記第1方向に延在するとともに、前記基材40の前記第2面42から離れる方向に向かって幅が小さくなる複数の凸部62を備える。【選択図】図1A

10. 发明专利

JP2017138464A 光学位相差部材、光学位相差部材を備える複合光学部材、及び光学位相差部材の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017138464A
公开(公告)日：2017-08-10
申请号：JP2016018921
申请日：2016-02-03
申请人： JXTGエネルギー株式会社
发明人：後藤正直 , 須崎吾郎 , 田中大直
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/10 , G02F1/13363 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/30 , G02F1/13363
摘要：【課題】粘着剤を用いて他の部材と接合したり荷重が印加されたりしても所望の位相差を生じることができるとともに、低コスト且つ短時間で製造可能な光学位相差部材及びその製造方法を提供する。【解決手段】光学位相差部材100は、凹凸パターン80を有する透明基体40と、前記凹凸パターン80の凹部70及び凸部60の表面に形成された位相差調整層35と、前記位相差調整層35を被覆する被覆層30と、前記位相差調整層35及び被覆層30が形成された前記凹凸パターン80の前記凸部60間に区画された間隙部90と、前記凹凸パターン80の前記凸部60の頂部60tを連結し且つ前記間隙部90を密閉するように前記凹凸パターン80の上部に設けられた密閉層20とを備え、前記凸部60の屈折率n 1 、前記位相差調整層35の屈折率n 2 、前記被覆層30の屈折率n 3 が、n 1

2

3を満たす。
【選択図】図1

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