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    • 75. 发明专利
    • Composite type semiconductor device and method for manufacturing the same
    • 复合型半导体器件及其制造方法
    • JP2004214397A
    • 2004-07-29
    • JP2002381887
    • 2002-12-27
    • Sanken Electric Co Ltdサンケン電気株式会社
    • KOSUGI KIMIAKITAKAHASHI TETSUYA
    • H01L29/74H01L21/332H01L29/866
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite type semiconductor element where voltage to be turned on is easily set to a desired value.
      SOLUTION: The composite type semiconductor element is provided with a thyristor consisting of an n1 area 11, a p1 area 12, an n2 area 13 and a p2 area 14, a first diode consisting of a first p-type semiconductor area 15 and a first n-type semiconductor area 16 and connected to the p1 area, and a second diode consisting of a second p-type semiconductor area 17 and a second n-type semiconductor area 18 and connected to the n1 area. The first and second diodes are connected in series so that the flowing direction of currents flowing through each by breakdown. By properly increasing the number of diodes to be connected, it is possible to make the thyristor turn on a desired high voltage.
      COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI
    • 要解决的问题:提供一种复合型半导体元件,其中要接通的电压容易设定为期望值。 解决方案:复合型半导体元件设置有由n1区域11,p1区域12,n2区域13和p2区域14组成的晶闸管,由第一p型半导体区域15 以及与p1区域连接的第一n型半导体区域16,以及与n1区域连接的由第二p型半导体区域17和第二n型半导体区域18构成的第二二极管。 第一和第二二极管串联连接,使电流的流动方向通过击穿而流过。 通过适当地增加要连接的二极管的数量,可以使晶闸管导通期望的高电压。 版权所有(C)2004,JPO&NCIPI
    • 78. 发明专利
    • Thyristor and a method of manufacturing the same
    • JP2003509848A
    • 2003-03-11
    • JP2001522598
    • 2000-08-02
    • コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
    • ピーター、ダブリュ、グリーン
    • H01L21/332H01L21/225H01L29/06H01L29/74H01L29/747
    • H01L29/0619H01L29/74H01L29/747
    • (57)【要約】 サイリスタおよびその製法本発明によるサイリスタの順および逆電圧阻止能力は実質的に能動サイリスタ・エリア(Aa)とは無関係であり、従ってその設計と製造が容易になる。 これは、順ベース領域(2)の深い低ドーピングされた内側周辺区域(42)と、同一導電型のドーピング輪郭および深さ(Adxj=Axj)mpの深い外側周辺区域(43)との同心構造によって達成される。 外側周辺区域(43)は、正面(11)において順阻止p−n接合(32)の回りに横方向距離(D3)に逆阻止p−n接合(34)を配置する。 外側周辺区域(43)は深さにおいて下層領域(4)の下方周辺区域(44)まで延在し、この下方周辺区域(44)は逆導電型の高抵抗ベース領域(3)と逆阻止接合を成す。 これらのすべての周辺区域(42−44)が一緒にサイリスタに対して、能動サイリスタ・エリア(Aa)を包囲する深い周辺端末を与える。 このように包囲された順ベース領域(2)よりも内側および外側周辺区域(42,43)をはるかに深くすることによって、順ベース領域(2)のドーピングおよび能動サイリスタ・エリア(Aa)中のN−P−N−PまたはN−P−N−P−N領域構造のレイアウト・ジオメトリとは実質的に無関係に、サイリスタの順および逆電圧阻止能力が決定される。 ドーピングおよびレイアウト・ジオメトリは、すべての同一の周辺端末の中において種々のトランジスタ利得および種々のサイリスタ切り替え特性を与えるように選定することができる。 低ドーピングされた周辺区域(42)中の電流導通は先行技術の平面サイリスタの高ドーピングされた高導通性のベース周辺区域におけるよりも低く、また能動サイリスタ・エリア(Aa)からピンチオフする事もできるので、能動サイリスタ・エリア(Aa)中のエミッタ−ベース短絡通路(1a)のレイアウト設計が容易になる。