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    • 50. 发明专利
    • Pattern generator and pattern generating method for semiconductor test
    • 用于半导体测试的图案发生器和图案生成方法
    • JP2008039784A
    • 2008-02-21
    • JP2007203419
    • 2007-08-03
    • Unitest Inc株式會社Unitest
    • KANG JONG KOO
    • G01R31/3183G11C29/10G11C29/56
    • G11C29/56G01R31/31813G01R31/3183G01R31/318335G11C29/56004
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern generator and capable of generating test pattern data by an interleave method without having to analyze or creating internal operations for pattern generation for each interleave operation, and to provide a pattern generating method.
      SOLUTION: The pattern generator is provided with: a test pattern program reading part 310 for reading a test pattern program compiled in prediction of data operations in such a way as to operate all data without any restricting conditions to different frames and operate only data corresponding to specific data prediction conditions to an interleave cycle in the same frames; a large number of algorithm pattern generating parts 320a-320d for generating patterns after operating data by an interleave method on the basis of the test pattern program; and a multiplexing part 330 for generating test pattern data for testing semiconductor elements by multiplexing the patterns.
      COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
    • 要解决的问题:提供一种图形生成器,并且能够通过交错方式生成测试图案数据,而不必分析或创建用于每个交织操作的图案生成的内部操作,并提供模式生成方法。 解决方案:模式发生器具有:测试模式程序读取部分310,用于读取以预测数据操作编译的测试模式程序,以便对所有数据进行操作,而不对任何限制条件进行操作,并仅操作 对应于特定数据预测条件的数据到相同帧中的交织周期; 大量的算法模式产生部分320a-320d,用于在基于测试模式程序的交错方法操作数据之后产生模式; 以及复用部330,用于通过多路复用图案来生成用于测试半导体元件的测试图案数据。 版权所有(C)2008,JPO&INPIT