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61. 发明授权

EP2492950B1 Method for rapid switching between a high current mode and a low current mode in a charged particle beam system 有权
标题翻译：用于在带电粒子束系统中在高电流模式和低电流模式之间进行快速切换的方法
公开(公告)号：EP2492950B1
公开(公告)日：2018-04-11
申请号：EP12155691.4
申请日：2012-02-16
申请人： FEI Company
发明人： Miller, Tom
IPC分类号： H01J37/30 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/3053 , H01J37/1472 , H01J37/3005 , H01J37/3056 , H01J2237/0453 , H01J2237/049 , H01J2237/08 , H01J2237/30472 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
摘要： A method for rapid switching between operating modes with differing beam currents in a charged particle system is disclosed. Many FIB milling applications require precise positioning of a milled pattern within a region of interest (Rol). This may be accomplished by using fiducial marks near the Rol, wherein the FIB is periodically deflected to image these marks during FIB milling. Any drift of the beam relative to the Rol can then be measured and compensated for, enabling more precise positioning of the FIB milling beam. It is often advantageous to use a lower current FIB for imaging since this may enable higher spatial resolution in the image of the marks. For faster FIB milling, a larger beam current is desired. Thus, for optimization of the FIB milling process, a method for rapidly switching between high and low current operating modes is realized.

62. 发明公开

EP2629079A3 Verfahren und Vorrichtungen zur Präparation mikroskopischer Proben mit Hilfe von gepulstem Licht 有权
标题翻译：用脉冲光制备显微样品的方法和设备
公开(公告)号：EP2629079A3
公开(公告)日：2017-12-20
申请号：EP13155360.4
申请日：2013-02-15
申请人： Carl Zeiss Microscopy GmbH
发明人： Stegmann, Heiko
IPC分类号： G01N1/28 , G01N1/32 , H01J37/00
CPC分类号： G01N23/04 , G01N1/286 , G01N1/32 , G01N2001/045 , G01N2001/2886 , H01J37/00 , H01J37/317 , H01J2237/206 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
摘要： Verfahren und Vorrichtungen zur Präparation mikroskopischer Proben mittels Lichtpulsen, wobei Volumen abgetragen werden, die größer als 100 µm 3 sind. Das Verfahren umfasst folgende Schritte:
- Inspizieren eines Objekts mittels eines Rasterelektronenmikroskops (REM) oder eines fokussierten Ionenstrahls (FIB), wobei ein Bild des Objekts aufgenommen wird
- Festlegen eines zu untersuchenden Bereichs des Objekts
- Festlegen eines Laser-Bearbeitungsweges anhand des Bilds des Objekts derart, dass eine Probe aus dem Objekt herauspräpariert werden kann.
- Entfernen eines abzutragenden Volumens durch Laserbearbeitung entlang des festgelegten Laser-Bearbeitungswegs
- Inspizieren des Objekts mittels Rasterelektronenmikroskop (REM) oder fokussiertem Ionenstrahl (FIB).
摘要翻译：通过光脉冲制备微观样品的方法和设备，其中除去的体积大于100微米。该方法包括以下步骤： - 使用扫描电子显微镜（SEM）或聚焦离子束（FIB）检查物体，所述物体的图像被拾取 - 设置对象的被调查区域 - 设置的激光加工路径基于所述对象的图像上使得可以从物体制备样品。 - 通过激光加工沿指定的激光加工路径去除要去除的体积 - 通过扫描电子显微镜（SEM）或聚焦离子束（FIB）检查物体。

63. 发明公开

EP3096867A4 RESONANT ENHANCEMENT OF PHOTOIONIZATION OF GASEOUS ATOMS 审中-公开
公开(公告)号：EP3096867A4
公开(公告)日：2017-10-18
申请号：EP15737044
申请日：2015-01-15
申请人： ZEROK NANO TECH CORP
发明人： KNUFFMAN BRENTON J , STEELE ADAM V
IPC分类号： H01J27/24 , G01N27/64 , H01J27/02 , H01J37/08
CPC分类号： H01J27/24 , G01N27/64 , H01J27/022 , H01J37/08 , H01J2237/0815 , H01J2237/31701 , H01J2237/31749
摘要： A system and method for using a high-performance photoionization subsystem are disclosed. Embodiments of the present disclosure employ narrow bandwidth laser radiation to selectively excite ionizing resonant states of gaseous atoms in electric fields. This subsystem and method may be incorporated in an ion source producing ions by photoionizing gaseous atoms; the resultant ions may be employed to efficiently produce an ion beam of high brightness.

64. 发明公开

EP3220407A1 FOCUSED ION BEAM APPARATUS 有权
标题翻译：聚焦离子束装置
公开(公告)号：EP3220407A1
公开(公告)日：2017-09-20
申请号：EP17161378.9
申请日：2017-03-16
申请人： Hitachi High-Tech Science Corporation
发明人： OONISHI, Tsuyoshi , IWAHORI, Toshiyuki
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/305
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/3056 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/20235 , H01J2237/2802 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
摘要： Disclosed herein is a focused ion beam apparatus moving a micro sample-piece between the focused ion beam apparatus and a sample observation apparatus by using simple configurations. The focused ion beam apparatus includes: a sample tray on which a sample is placed; a focused ion beam column irradiating the sample with a focused ion beam to obtain a micro sample-piece; a sample chamber receiving the sample tray and the focused ion beam column therein; a side-entry-type carrier being inserted into and removed from the chamber, with a front end side holding the sample-piece; and a sample-piece moving unit moving the sample-piece between the plate and the carrier, wherein the plate is movable on at least X, Y, and Z-axes respectively, and an end of the plate is provided with a carrier engagement part detachably fastened with the carrier, the carrier engagement part being moved with the carrier in company with movement of the plate.
摘要翻译：本文公开了一种聚焦离子束装置，其通过使用简单构造在聚焦离子束装置和样品观察装置之间移动微样品片。聚焦离子束装置包括：放置样品的样品盘; 聚焦离子束柱，用聚焦离子束照射样品以获得微样品; 样品室，在其中接收样品盘和聚焦离子束柱; 将侧入式载体插入腔室并从腔室中取出，其中前端侧保持样品; 以及样本移动单元，所述样本移动单元在所述板和所述载体之间移动所述样本片，其中所述板能够分别在至少X，Y和Z轴上移动，并且所述板的端部设置有载体接合部分与载体可拆卸地紧固，随着载体的运动，载体接合部分随着载体移动。

65. 发明授权

EP3029173B1 DEPOSITION METHOD AND FOCUSED ION BEAM SYSTEM 有权转让
标题翻译：沉积方法和聚焦离子束系统
公开(公告)号：EP3029173B1
公开(公告)日：2017-06-14
申请号：EP15196604.1
申请日：2015-11-26
申请人： JEOL LTD.
发明人： KADOI, Misumi
IPC分类号： C23C16/04 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/304 , C23C14/221 , C23C16/047 , C23C16/486 , C23C16/52 , H01J37/302 , H01J37/3178 , H01J2237/30461 , H01J2237/30477 , H01J2237/31732 , H01J2237/31749
摘要： A deposition method is implemented in a focused ion beam system (100) that supplies a compound gas to a specimen (S), and applies an ion beam (IB) to the specimen (S) to deposit a deposition film, the deposition method including: a first deposition film-depositing step that deposits a first deposition film (D1) on the specimen (S) using the ion beam (IB) that is defocused with respect to the specimen (S); and a second deposition film-depositing step that deposits a second deposition film (D2) on the first deposition film (D1) using the ion beam (IB) that is smaller in defocus amount than that used in the first deposition film-depositing step.
摘要翻译：沉积方法在将化合物气体供应到样品（S）并将离子束（IB）施加到样品（S）以沉积沉积膜的聚焦离子束系统（100）中实施，所述沉积方法包括：第一沉积膜沉积步骤，使用相对于所述样本（S）散焦的所述离子束（IB）将第一沉积膜（D1）沉积在所述样本（S）上; 以及第二沉积膜沉积步骤，使用离焦量小于第一沉积膜沉积步骤中使用的离子束的离子束（IB）在第一沉积膜（D1）上沉积第二沉积膜（D2）。

66. 发明公开

EP3153838A1 VERFAHREN ZUR PRÄPARATION EINER PROBE FÜR DIE MIKROSTRUKTURDIAGNOSTIK SOWIE PROBE FÜR DIE MIKROSTRUKTURDIAGNOSTIK 有权转让
标题翻译：工艺用于样品的FOR微观诊断显微诊断的制备及探头
公开(公告)号：EP3153838A1
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：EP15188587.8
申请日：2015-10-06
申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
发明人： Krause, Michael , Busch, Richard , Höche, Thomas , Schusser, Georg
IPC分类号： G01N1/32 , H01J37/305
CPC分类号： G01N1/32 , G01N1/44 , H01J37/02 , H01J37/26 , H01J37/3053 , H01J37/3056 , H01J2237/2802 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
摘要： Bei einem Verfahren zur Präparation einer Probe für die Mikrostrukturdiagnostik wird durch materialabtragende Bearbeitung an einem Probenkörper ein Probenabschnitt (PA) präpariert. Anschließend wird an dem Probenabschnitt ein Untersuchungsbereich erzeugt, welcher einen zu untersuchenden Zielbereich (ZB) umfasst. Das Verfahren beinhaltet folgende Schritte:
Erzeugen einer den Zielbereich umfassenden Terrassenbildungszone (TBZ) an mindestens einer Oberfläche des Probenabschnitts, wobei zur Erzeugung der Terrassenbildungszone neben dem Zielbereich durch materialabtragende Strahlbearbeitung mindestens eine Kerbe (K) mit schräg zu der Oberfläche verlaufenden Flanken (F1, F2) erzeugt wird; und
Abtragen von Material des Probenabschnitts (PA) im Bereich der Terrassenbildungszone (TBZ) mittels eines lonenstrahls (IB), welcher unter streifendem Einfall schräg zu einer Verlaufsrichtung der Kerbe (K) derart auf die Oberfläche eingestrahlt wird, dass der Zielbereich (ZB) in Einstrahlrichtung des lonenstrahls (IB) hinter der Kerbe liegt.
摘要翻译：通过材料烧蚀加工上的样品本体制备用于组织诊断的样品，并随后在所述样品部分检查区域的制造方法，包括目标区域的检查区域进行检查，该方法包括产生一个梯田区包括靶向样品部分中的至少一个表面上的区域，worin与侧面相倾斜延伸到由材料烧蚀束加工旁边的目标区域中产生，以产生梯田区，并从烧蚀材料的表面上的至少一个凹口在离子束中的梯田区的区域中的样品部分通过，的表面全部被下掠入射照射到表面倾斜于凹口的程度的检查的方向所做的目标区域位于所述凹口的后面中的入射辐射方向离子束和，如在凹口后面的区域梯田的结果，表面基本上是平行的凹通过离子束加工的方式的表面的原始高度。

67. 发明授权

EP2786113B1 HIGH THROUGHPUT TEM PREPARATION PROCESS FOR BACKSIDE THINNING OF CROSS-SECTIONAL VIEW LAMELLA 有权
标题翻译：一种制备TEM标本背减薄横截面的板条过程
公开(公告)号：EP2786113B1
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：EP12852813.0
申请日：2012-11-30
申请人： FEI Company
发明人： KEADY, Paul , PETERSON, Brennan , DAS, Guus , HENRY, Craig , DWORKIN, Larry , BLACKWOOD, Jeff , STONE, Stacey , SCHMIDT, Michael
IPC分类号： G01N1/28 , G01N1/32 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/3056 , C23C14/5833 , G01N1/32 , H01J37/20 , H01J37/28 , H01J37/3005 , H01J2237/024 , H01J2237/20207 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749

68. 发明公开

EP3111201A1 ALIGNMENT MARKING FOR ROCK SAMPLE ANALYSIS 审中-公开
标题翻译： AUSRICHTUNGSMARKIERUNG ZUR GESTEINSPROBENANALYSE
公开(公告)号：EP3111201A1
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：EP15708958.2
申请日：2015-02-17
申请人： Weatherford Technology Holdings, LLC
发明人： HOOGHAN, Kultaransingh
IPC分类号： G01N23/225 , G01N1/32
CPC分类号： H01J37/20 , G01N1/32 , G01N23/2251 , G01N23/2255 , G01N2223/616 , H01J37/28 , H01J2237/08 , H01J2237/202 , H01J2237/3174 , H01J2237/31749
摘要： A method for using a Focused Ion Beam and/or Scanning Electron Microscope (FIB/SEM) for etching one or more alignment markers (210, 230) on a rock sample (200), the one or more alignment markers (210, 230) being etched on the rock sample (200) using the FIB/SEM. The one or more alignment markers (210, 230) may further be filled with a platinum alloy or other suitable compositions for increasing alignment marker contrast.
摘要翻译：使用聚焦离子束和/或扫描电子显微镜（FIB / SEM）蚀刻岩石样品上的一个或多个对准标记的方法，使用FIB / SEM在岩石样品上蚀刻一个或多个对准标记。一个或多个对准标记可以进一步用铂合金或其它合适的组合物沉积，以增加对准标记的可视性。

69. 发明授权

EP3062329B1 Multi-source GIS for particle-optical apparatus 有权
标题翻译： GIS具有用于粒子光学设备的多个源
公开(公告)号：EP3062329B1
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：EP15156537.1
申请日：2015-02-25
申请人： FEI COMPANY
发明人： Mulders, Hans , Trompenaars, Piet , Dona, Pleun
IPC分类号： H01J37/30
CPC分类号： C23C14/221 , B05B1/005 , B05B1/14 , B05B7/24 , H01J37/30 , H01J2237/006 , H01J2237/31732 , H01J2237/3174 , H01J2237/31749

70. 发明公开

EP3096867A1 RESONANT ENHANCEMENT OF PHOTOIONIZATION OF GASEOUS ATOMS 审中-公开
标题翻译：谐振提高光离子气态ATOMS
公开(公告)号：EP3096867A1
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：EP15737044.6
申请日：2015-01-15
申请人： Zerok Nano Tech Corporation
发明人： KNUFFMAN, Brenton, J. , STEELE, Adam, V.
IPC分类号： B01D59/46 , H01J49/24 , G01N27/64
CPC分类号： H01J27/24 , G01N27/64 , H01J27/022 , H01J37/08 , H01J2237/0815 , H01J2237/31701 , H01J2237/31749
摘要： A system and method for using a high-performance photoionization subsystem are disclosed. Embodiments of the present disclosure employ narrow bandwidth laser radiation to selectively excite ionizing resonant states of gaseous atoms in electric fields. This subsystem and method may be incorporated in an ion source producing ions by photoionizing gaseous atoms; the resultant ions may be employed to efficiently produce an ion beam of high brightness.

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