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    • 8. 发明申请
    • STRAHLUNGSEMITTIERENDER HALBLEITERCHIP
    • 发射辐射的半导体芯片
    • WO2010060404A1
    • 2010-06-03
    • PCT/DE2009/001524
    • 2009-10-29
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHMOOSBURGER, JürgenVON MALM, NorwinRODE, PatrickHÖPPEL, LutzENGL, Karl
    • MOOSBURGER, JürgenVON MALM, NorwinRODE, PatrickHÖPPEL, LutzENGL, Karl
    • H01L25/16H01L27/15H01L33/38H01L33/08
    • H01L27/15H01L25/167H01L33/005H01L33/02H01L33/08H01L33/382H01L33/62H01L2924/0002H01L2933/0016H01L2924/00
    • Es wird ein strahlungsemittierender Halbleiterchip (1) angegeben, der einen Träger (5) und einen Halbleiterkörper (2) mit einer Halbleiterschichtenfolge aufweist. In dem Halbleiterkörper (2) mit der Halbleiterschichtenfolge ist ein Emissionsbereich (23) und ein Schutzdiodenbereich (24) gebildet. Die Halbleiterschichtenfolge umfasst einen zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich (20) der zwischen einer ersten Halbleiterschicht (21) und einer zweiten Halbleiterschicht (22) angeordnet ist. Die erste Halbleiterschicht (21) ist auf der dem Träger (5) abgewandten Seite des aktiven Bereichs (20) angeordnet. Der Emissionsbereich (23) weist eine Ausnehmung (25) auf, die sich durch den aktiven Bereich hindurch erstreckt. Die erste Halbleiterschicht (21) ist im Emissionsbereich (23) elektrisch leitend mit einer ersten Anschlussschicht (31) verbunden, wobei sich die erste Anschlussschicht in der Ausnehmung (25) von der ersten Halbleiterschicht (21) in Richtung des Trägers (5) erstreckt. Die erste Anschlussschicht im Schutzdiodenbereich (24) ist mit der zweiten Halbleiterschicht (22) elektrisch leitend verbunden. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines strahlungsemittierenden Halbleiterchips angegeben.
    • 提供了一种具有一个支撑件(5)和(2),其具有半导体层序列的半导体主体中的发射辐射的半导体芯片(1)。 在半导体主体(2)与该半导体层序列,发射区域(23)和一个保护二极管区(24)形成。 半导体层序列包括打算用于第一半导体层(21)和被布置在第二半导体层(22)之间产生辐射激活区(20)。 在第一半导体层(21)是在(5)的面对从有源区域(20)离开侧上的支撑。 发射区域(23)具有延伸穿过所述活性区域穿过其的凹部(25)。 在发射区(23)中的第一半导体层(21)被导电地连接到第一连接层(31),其中,从在所述载体(5)的方向上的第一半导体层(21)延伸在所述凹部(25)的第一连接层。 在保护二极管区(24)的第一连接层连接到导电连接在第二半导体层(22)。 此外,被指定用于制造发射辐射的半导体芯片的方法。