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    • 1. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER LEUCHTDIODE UND LEUCHTDIODE
    • 一种用于生产发光二极管和发光二极管
    • WO2011018380A1
    • 2011-02-17
    • PCT/EP2010/061222
    • 2010-08-02
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHSTAUSS, PeterRODE, Patrick
    • STAUSS, PeterRODE, Patrick
    • H01L33/00
    • H01L33/0079H01L33/007
    • Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Leuchtdiode mit den folgenden Schritten angegeben: Bereitstellen eines Trägersubstrats (10), das eine Silizium-Oberfläche (10a) aufweist, epitaktisches Abscheiden einer aluminiumhaltigen Nitrid-Schichtenfolge (20) auf der Silizium-Oberfläche (10a) des Trägersubstrats (10) zur Bildung eines Leuchtdiodenträgers (100), Bereitstellen einer Leuchtdioden-Struktur (300) auf einem Aufwachsträger (200), Verbinden der dem Aufwachsträger (200) abgewandten Oberfläche der Leuchtdioden-Struktur (300) mit der dem Trägersubstrat (10) abgewandten Oberfläche des Leuchtdiodenträgers (100), Ablösen des Aufwachsträgers (200), Herstellen zumindest eines p-Kontaktes (62) und eines n-Kontaktes (61) zum Kontaktieren der Leuchtdioden-Struktur (300) von der dem Trägersubstrat (10) abgewandten Oberfläche der Leuchtdioden-Struktur (300) her.
    • 提供了一种方法,用于制造发光二极管,包括以下步骤:提供具有硅表面(10A)的支撑基板(10)的硅表面(10A)上外延沉积含铝氮化物层序列(20) 载体衬底(10),以形成发光结构(100),提供对一个Aufwachsträger从发光结构(300)与所述载体基片的表面背对发光结构(300)(200)连接所述的Aufwachsträger(200)(10) 表面面对所述LED载体(100)的表面,剥离Aufwachsträgers(200),产生至少一个p接触(62)和n接触(61),用于在载体衬底(10)的发光结构(300)接触,从背对 发光结构(300)前。
    • 2. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SOLCHEN
    • 光电子半导体芯片和方法生产同样
    • WO2009121319A1
    • 2009-10-08
    • PCT/DE2009/000354
    • 2009-03-13
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHENGL, KarlHÖPPEL, LutzRODE, PatrickSABATHIL, Matthias
    • ENGL, KarlHÖPPEL, LutzRODE, PatrickSABATHIL, Matthias
    • H01L33/00H01L29/45H01L21/225
    • H01L33/382H01L33/10H01L33/40H01L33/46H01L33/62H01L2924/0002H01L2924/00
    • Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip angegeben. Der Halbleiterchip weist eine Halbleiterschichtenfolge (2) mit einer zur Strahlungserzeugung vorgesehenen aktiven Schicht (23) zwischen einer Schicht eines ersten Leitfähigkeitstyps (21) und einer Schicht eines zweiten Leitfähigkeitstyps (22) auf. Die Schicht des ersten Leitfähigkeitstyps (21) ist einer Vorderseite (110) der Halbleiterschichtenfolge (2) benachbart. Die Halbleiterschichtenfolge (2) enthält mindestens eine Ausnehmung (3), die sich von einer der Vorderseite (110) gegenüberliegenden Rückseite (120) der Halbleiterschichtenfolge (2) durch die aktive Schicht (23) hindurch zur Schicht des ersten Leitfähigkeitstyps (21) erstreckt. Die Schicht des ersten Leitfähigkeitstyps (21) ist mittels einer ersten elektrischen Anschlussschicht (5), welche die Rückseite (120) der Halbleiterschichtenfolge (2) zumindest stellenweise bedeckt, durch die Ausnehmung (3) hindurch elektrisch angeschlossen. Der Halbleiterchip enthält im Bereich der Ausnehmung (3) eine Übergangsschicht (20), die eine Materialzusammensetzung aus Material der Schicht des ersten Leitfähigkeitstyps (21) und aus Material der ersten elektrischen Anschlussschicht (5) aufweist. Weiter wird ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Halbleiterchips angegeben.
    • 提供了一种光电子半导体芯片。 半导体芯片具有预期用于第一导电类型(21)和第二导电类型(22)的层构成的层之间产生辐射活性层(23)的半导体层序列(2)。 第一导电类型(21)的层是相邻的半导体层序列(2)的前侧(110)。 半导体层序列(2)包含通过对第一导电类型(21)的层(3)从通过有源层(23)的半导体层序列(2)的前侧(110)相对的后侧(120)中的一个延伸的至少一个凹部。 由(5)覆盖所述半导体层序列(2)中的至少在通过电连接由凹部(3)所覆盖的地方的背面(120)的第一电连接层的装置中的第一导电类型(21)的层。 该半导体芯片包括具有在所述凹部的区域中的第一导电类型(21)的材料层的材料组成的过渡层(20),(3)和从所述第一电连接层的材料(5)。 此外,被指定用于制造这样的半导体芯片的方法。