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1. 发明申请

WO2010083965A1 DAMPING DEVICE 审中-公开
标题翻译：阻尼装置
公开(公告)号：WO2010083965A1
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：PCT/EP2010/000200
申请日：2010-01-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , VOGLER, Alexander , RIEF, Klaus , FROMMEYER, Andreas , BRYDON, Alan, L.
发明人： VOGLER, Alexander , RIEF, Klaus , FROMMEYER, Andreas , BRYDON, Alan, L.
IPC分类号： G02B7/02 , F16F15/023 , G03F7/20 , G02B27/64 , F16F7/10 , F16F15/02
CPC分类号： G02B7/00 , F16F7/104 , G02B7/02 , G03F7/70825 , G03F7/709
摘要： The invention relates to a damping device of an optical element (1) of a projection exposure machine, comprising at least two mass dampers (3), arranged spaced apart from one another, the vibration absorbers (3) each having at least one damper mass (30) and at least one damping element (32) and the damper masses (30) of the at least two mass dampers (3) being interconnected by means of at least one connecting element. The invention further relates to an optical element (1) of a projection exposure machine and to a projection exposure machine.
摘要翻译：本发明涉及一种投影曝光机的光学元件（1）的阻尼装置，包括至少两个互相间隔布置的质量阻尼器（3），所述减振器（3）各自具有至少一个阻尼块（30）和所述至少两个质量阻尼器（3）中的至少一个阻尼元件（32）和阻尼块（30）通过至少一个连接元件相互连接。本发明还涉及一种投影曝光机的光学元件（1）和投影曝光机。

2. 发明申请

WO2008037496A3 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHY APPARATUS WITH IMPROVED IMAGING PROPERTIES AND METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF THE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
公开(公告)号：WO2008037496A3
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：PCT/EP2007/008476
申请日：2007-09-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
发明人： BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02
摘要： A projection objective for microlithography comprises a plurality of lenses (32, 34, 36, 38, 42) which in each case have a local optical axis (40), a first manipulator (60) with a first actuator (46, 72) and at least one second actuator (48, 74) being assigned to at least one first lens (42) from the plurality of lenses (32, 34, 36, 38). A first force input and/or moment input can be realized by means of the first actuator (46, 72) and a second force input and/or moment input can be realized by means of the second actuator (48, 74), wherein the first force input and/or moment input and the second force input and/or moment input differ with regard to at least one of the parameters: intensity of the force and/or moment input, direction of the force input relative to the local optical axis (40), direction of the moment input relative to a periphery of the first lens (42).

3. 发明申请

WO2004066405A1 PIEZO-LINEARANTRIEB MIT EINER GRUPPE VON PIEZOSTAPELAKTUATOREN 审中-公开
标题翻译：随着压电叠层作动器一组PIEZO线性驱动
公开(公告)号：WO2004066405A1
公开(公告)日：2004-08-05
申请号：PCT/EP2004/000176
申请日：2004-01-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , RIEF, Klaus , FISCHER, Juergen
发明人： RIEF, Klaus , FISCHER, Juergen
IPC分类号： H01L41/09
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70258 , H02N2/0045 , H02N2/021
摘要： In einem Piezo-Linearantrieb (12) mit einer Gruppe von Piezostapelaktuatoren, welche einen in einer Führung befindlichen Läufer (17) antreiben, weisen die Aktuatoren mehrere auf einem gemeinsamen Trägerelement (13) befindliche Stapel (14) auf. Innerhalb eines Stapels (14) ist ein erstes Stapelteil (15) ausgehend vom Trägerelement (13) als Longitudinal- und wenigstens ein zweites Stapelteil (16) als Scheraktor ausgebildet. Die einzelnen Stapel (14) stehen in Klemm- und/oder Scherkontakt mit dem Läufer (17), wobei die einzelnen Stapel (14) in einem Schrittbetrieb wechselseitig Klemm- und Vorschubbewegungen ausführen. Zwischen dem ersten Stapelteil (15), welcher als Longitudinalaktor ausgebildet ist, und dem wenigstens einen zweiten Stapelteil (16), welcher als Scheraktor ausgebildet ist, ist wenigstens ein Verbindungselement (18) angeordnet. Das Verbindungselement (18) verbindet jeweils zumindest einen Teil der Stapel (14) untereinander, wobei die Verbindung in Aktorrichtung der Longitudinalaktoren (15) weich und in Bewegungsrichtung des Läufers (17) steif ausgebildet ist.
摘要翻译：在具有一组驱动位于一个指南中的转子（17）压电堆的致动器的压电线性驱动（12），所述致动器包括位于栈更常见的载体元件（13）（14）上。内的堆栈（14）包括从所述支撑构件（13），其纵向和至少形成为致动器的剪切的第二堆叠部分（16）的第一堆叠部（15）。单个堆叠（14）处于夹持与所述转子（17），其中所述个体堆叠（14）相互在步骤操作夹紧和前进运动执行和/或剪切接触。第一堆叠部分（15），其被设计为Longitudinalaktor，并且其被设计为一个致动器的剪切，至少一个连接元件（18）被布置在所述至少一个第二堆叠部分（16）之间。所述连接元件（18）各自具有至少一个堆（14），以彼此的一部分，其中，所述化合物是软的，在所述转子（17）的运动方向处于Aktorrichtung Longitudinalaktoren（15）是刚性的。

4. 发明申请

WO2007071353A1 IMAGING DEVICE IN A PROJECTION EXPOSURE MACHINE 审中-公开
标题翻译：投影曝光机成像装置
公开(公告)号：WO2007071353A1
公开(公告)日：2007-06-28
申请号：PCT/EP2006/012174
申请日：2006-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BACK, Stephan , HUMMEL, Wolfgang , FISCHER, Juergen , AUBELE, Karl-Eugen , MERZ, Erich , REINER, Raoul , RIEF, Klaus , SCHOENGART, Stefan , NEUMAIER, Markus , SCHWAER, Baerbel , WEBER, Ulrich , MUEHLBEYER, Michael , HOLDERER, Hubert , KOHL, Alexander , WEBER, Jochen , LIPPERT, Johannes , RASSEL, Thorsten
发明人： BACK, Stephan , HUMMEL, Wolfgang , FISCHER, Juergen , AUBELE, Karl-Eugen , MERZ, Erich , REINER, Raoul , RIEF, Klaus , SCHOENGART, Stefan , NEUMAIER, Markus , SCHWAER, Baerbel , WEBER, Ulrich , MUEHLBEYER, Michael , HOLDERER, Hubert , KOHL, Alexander , WEBER, Jochen , LIPPERT, Johannes , RASSEL, Thorsten
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70258
摘要： An imaging in a projection exposure machine for microlithography comprises at least one optical element (10) and at least one manipulator, a linear drive (9, 11) for manipulating the position of the optical element. Said linear drive (9, 11) has at least one moving element (43), said moving element having a shearing part (42) and a lifting part (40). Said shearing part (42) is arranged to move the optical element (10) and said lifting part (40) is arranged to move said shearing part (42). Said linear drive (9, 11) has a supporting element which is in contact with and prevents movement of the optical element while the shearing part is moved by the lifting part.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光机中的成像包括至少一个光学元件（10）和至少一个操纵器，用于操纵光学元件位置的线性驱动器（9,11）。所述直线驱动器（9,11）具有至少一个移动元件（43），所述移动元件具有剪切部分（42）和提升部分（40）。所述剪切部分（42）布置成移动光学元件（10），并且所述提升部件（40）被布置成移动所述剪切部分（42）。所述线性驱动器（9,11）具有支撑元件，该支撑元件在剪切部分被升降部分移动的同时与光学元件接触并防止其移动。

5. 发明申请

WO2003052511A3 ABBILDUNGSEINRICHTUNG IN EINER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2003052511A3
公开(公告)日：2003-06-26
申请号：PCT/EP2002/014380
申请日：2002-12-17
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HUMMEL, Wolfgang , FISCHER, Juergen , AUBELE, Karl-Eugen , MERZ, Erich , RAOUL, Reiner , RIEF, Klaus , SCHOENGART, Stefan , NEUMAIER, Markus , TROSSBACH, Baerbel , RASSEL, Thorsten , WEBER, Ulrich , MUEHLBEYER, Michael , HOLDERER, Hubert , KOHL, Alexander , WEBER, Jochen , LIPPERT, Johannes
发明人： HUMMEL, Wolfgang , FISCHER, Juergen , AUBELE, Karl-Eugen , MERZ, Erich , RAOUL, Reiner , RIEF, Klaus , SCHOENGART, Stefan , NEUMAIER, Markus , TROSSBACH, Baerbel , RASSEL, Thorsten , WEBER, Ulrich , MUEHLBEYER, Michael , HOLDERER, Hubert , KOHL, Alexander , WEBER, Jochen , LIPPERT, Johannes
IPC分类号： H01L41/09
摘要： Eine Abbildungseinrichtung (7) in einer Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Mikrolithographie hat wenigstens ein optisches Element (10, 33, 34) und wenigstens einen einen Linearantrieb (11) aufweisenden Manipulator (9, 36, 41) zur Manipulation der Position des optischen Elementes (10, 33, 34). Der Linearantrieb (11) weist einen angetriebenen Teilbereich (14) und einen nicht angetriebenen Teilbereich (15) auf, welche relativ zueinander in Richtung einer Bewegungsachse (17) beweglich sind. Die Teilbereiche (14, 15) sind über Funktionselemente (18) mit einer Wirkungsachse (17) und über Funktionselemente (19) mit einer Wirkungsrichtung wenigstens annähernd parallel zur Bewegungsachse (17) zumindest zeitweise miteinander verbunden.

6. 发明申请

WO2007062794A1 OBJECTIVE, IN PARTICULAR PROJECTION OBJECTIVE FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：目标，特殊投影目标半导体光刻
公开(公告)号：WO2007062794A1
公开(公告)日：2007-06-07
申请号：PCT/EP2006/011371
申请日：2006-11-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , RIEF, Klaus
发明人： RIEF, Klaus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70266
摘要： An objective, in particular a projection objective in semiconductor lithography, having an optical axis (z-axis) is provided with optical elements (20) mounted in an objective housing (10). At least one optical element is mounted in an inner part connected to an outer part (21) via an intermediate part (23) . Adjusting devices (26, 27) are provided in such a way as to enable relative movements between the outer part (21) and the intermediate part (23) and between the intermediate part (23) and the inner part (22), which can realize translations of the optical element in a plane perpendicular to the optical axis (z) and also parallel to the optical axis (z) and tiltings relative to the optical axis (z).
摘要翻译：具有光轴（z轴）的目标，特别是具有半导体平版印刷术的投影物镜，设置有安装在物镜壳体（10）中的光学元件（20）。至少一个光学元件经由中间部分（23）安装在连接到外部部分（21）的内部部分中。调节装置（26,27）设置成能够实现外部部分（21）和中间部分（23）之间以及中间部分（23）和内部部分（22）之间的相对运动，这可以实现光学元件在垂直于光轴（z）并且平行于光轴（z）并且相对于光轴（z）倾斜的平面中的平移。

7. 发明公开

EP1456891A2 ABBILDUNGSEINRICHTUNG IN EINER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 有权
标题翻译：图像设置在投影曝光系统
公开(公告)号：EP1456891A2
公开(公告)日：2004-09-15
申请号：EP02798340.2
申请日：2002-12-17
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： HUMMEL, Wolfgang , FISCHER, Juergen , AUBELE, Karl-Eugen , MERZ, Erich , RAOUL, Reiner , RIEF, Klaus , SCHOENGART, Stefan , NEUMAIER, Markus , TROSSBACH, Baerbel , RASSEL, Thorsten , WEBER, Ulrich , MUEHLBEYER, Michael , HOLDERER, Hubert , KOHL, Alexander , WEBER, Jochen , LIPPERT, Johannes
IPC分类号： H01L41/09
CPC分类号： G03F7/70258 , G03F7/70825
摘要： Disclosed is an imaging device (7) in a projection exposure facility (1) used in microlithography, comprising at least one optical element (10, 33, 34) and at least one manipulator (9, 36, 41) provided with a linear drive (11) for manipulating the position of the optical element (10, 33, 34). The linear drive (11) encompasses a driven section (14) and a non-driven section (15) which are movable towards each other along an axis (17). The two sections (14, 15) are at least temporarily connected to each other at least approximately parallel to the axis of movement (17) via functional elements (18) operable along an axis (17) and via functional elements (19) operable in one direction.

8. 发明公开

EP2067076A2 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHY APPARATUS WITH IMPROVED IMAGING PROPERTIES AND METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF THE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：具有改进图像属性和方法微光刻设备防护镜，以提高保护镜头的图像性能
公开(公告)号：EP2067076A2
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：EP07818556.8
申请日：2007-09-28
申请人： Carl Zeiss SMT AG
发明人： BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/023 , G02B13/14 , G02B27/0068 , G03F7/70058 , G03F7/70266
摘要： A projection objective for microlithography comprises a plurality of lenses (32, 34, 36, 38, 42) which in each case have a local optical axis (40), a first manipulator (60) with a first actuator (46, 72) and at least one second actuator (48, 74) being assigned to at least one first lens (42) from the plurality of lenses (32, 34, 36, 38). A first force input and/or moment input can be realized by means of the first actuator (46, 72) and a second force input and/or moment input can be realized by means of the second actuator (48, 74), wherein the first force input and/or moment input and the second force input and/or moment input differ with regard to at least one of the parameters: intensity of the force and/or moment input, direction of the force input relative to the local optical axis (40), direction of the moment input relative to a periphery of the first lens (42).

9. 发明申请

WO2002085688A1 ELEKTROMECHANISCHE LENKUNTERSTÜTZUNGSEINRICHTUNG FÜR EIN FAHRZEUG 审中-公开
标题翻译：机电转向辅助装置用于车辆
公开(公告)号：WO2002085688A1
公开(公告)日：2002-10-31
申请号：PCT/EP2002/002898
申请日：2002-03-15
申请人： ZF LENKSYSTEME GMBH , JANDL, Gerhard , RIEF, Klaus
发明人： JANDL, Gerhard , RIEF, Klaus
IPC分类号： B62D5/04
CPC分类号： B62D5/0409
摘要： Eine elektromechanische Lenkunterstützungseinrichtung für ein Fahrzeug weist einen Elektromotor mit einem fest in einem Ge-häuse angeordneten Stator und einem im Gehäuse drehbar gelager-ten Rotor auf, welcher über eine Koppeleinrichtung eine Lenk-stellwelle antreibt, die eine Lenksäule im Fahrzeug verstellt.Im Übertragungsweg zwischen Rotor und Lenkstellwelle ist ein der Koppeleinrichtung zugeordnetes elastisches Deformationsele-ment vorgesehen, das als ein in Richtung der Lenkstellwellen-Drehachse (7) wirkender Translationsdämpfer ausgebildet ist.
摘要翻译：一种机电转向的车辆辅助装置包括电动马达具有固定地布置在壳体中的定子和在该壳体转子可旋转地gelager个，其经由耦合装置，转向控制轴，在之间的车辆verstellt.Im传输路径的转向柱驱动转子和联接装置的转向控制轴与设置其用作在轴的旋转轴线的方向上的转向致动器的弹性Deformationsele-包换相关联（7）翻译阻尼器形成。

10. 发明申请

WO2012163643A1 BEWEGUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS IN EINER MIKROLITHOGRAFISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： AN光学元件的微光刻投射曝光系统MOVEMENT
公开(公告)号：WO2012163643A1
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：PCT/EP2012/058593
申请日：2012-05-10
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , AUBELE, Karl-Eugen , ULMER, Sven , RIEF, Klaus , JASSMANN, Marco
发明人： AUBELE, Karl-Eugen , ULMER, Sven , RIEF, Klaus , JASSMANN, Marco
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/00 , H01L41/04 , H01L41/09 , H02N2/06
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B7/005 , G03F7/70258 , G03F7/70825 , H02N2/021 , H02N2/06
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie beinhaltend ein durch einen ersten und einen zweiten Aktuator aktuierbares optisches Element. Die Aktuatoren werden mittels Steuerungsintervallen derart gesteuert, dass zu jedem Zeitpunkt der Steuerung eine gemäß einem vorab wählbaren Parameter α vorgegebene Mindestauslenkbarkeit garantiert ist.
摘要翻译：本发明涉及一种投射曝光系统的用于微光刻，其包括第一和第二致动器aktuierbares光学元件。所述致动器由控制间隔的装置以这样的方式控制，即在任何时间的控制的根据一个预先选择的参数的预定Mindestauslenkbarkeit保证。

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