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1. 发明申请

WO2008113605A3 VERFAHREN ZUM VERBESSERN VON ABBILDUNGSEIGENSCHAFTEN EINES OPTISCHEN SYSTEMS SOWIE DERARTIGES OPTISCHES SYSTEM 审中-公开
公开(公告)号：WO2008113605A3
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：PCT/EP2008/002289
申请日：2008-03-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , KWAN, Yim-Bun-Patrick
发明人： GRUNER, Toralf , KWAN, Yim-Bun-Patrick
IPC分类号： G02B27/00 , G03F7/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Verbessern von Abbildungseigenschaften eines optischen Systems (10, 12). Das optische System (10, 12) weist eine Mehrzahl von optischen Elementen auf, um eine Struktur (24) auf ein Substrat (28), das in einer Bildebene (32) des optischen Systems (10, 12) angeordnet ist, abzubilden. Das Verfahren weist einen Verfahrensschritt (a), Erfassen zumindest eines ersten durch Erwärmung zumindest eines der optischen Elemente (36, 38) verursachten, zeitabhängigen zumindest teilweise reversiblen Abbildungsfehlers des optischen Systems (10, 12), sowie einen Verfahrensschritt (b), zumindest teilweise Korrigieren des zumindest ersten Abbildungsfehlers durch Austauschen zumindest eines ersten optischen Elements (36, 38) aus der Mehrzahl der optischen Elemente gegen zumindest ein erstes optisches Kompensationselement, auf. Die Erfindung betrifft ferner ein derartiges optisches System (10, 12) mit verbesserten Abbildungseigenschaften.

2. 发明申请

WO2008022680A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHIE-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：照明系统，微光刻投射曝光系统
公开(公告)号：WO2008022680A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/EP2007/006463
申请日：2007-07-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael
发明人： GRUNER, Toralf , TOTZECK, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , H05H7/04
CPC分类号： G03F7/70566 , B82Y10/00 , G03F7/70008 , G21K2201/061 , H05G2/00
摘要： Ein Beleuchtungssystem (6) für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage (1) hat eine EUV-Lichtquelle (7), die einen Ausgabestrahl (13) linear polarisierten EUV-Beleuchtungslichts erzeugt. Eine Beleuchtungsoptik (24, 25, 31, 37) führt den Ausgabestrahl (13) längs einer optischen Achse (20), wodurch ein Beleuchtungsfeld in einer Retikelebene (2) mit dem Ausgabestrahl (13) beleuchtet wird. Eine mindestens die EUV-Lichtquelle (7) umfassende Beleuchtungs-Untereinheit (7) des Beleuchtungssystems (6) hat eine Polarisations-Einstelleinrichtung (15, 18) zur Vorgabe einer definierten Polarisation des EUV-Ausgabestrahls (13) der Beleuchtungs-Untereinheit (7). Es resultiert ein Beleuchtungssystem, das flexibel an Polarisationsanforderungen der Anlage sowie der auf das Substrat bzw. den Wafer zu projizierenden Struktur angepasst werden kann.
摘要翻译：用于微光刻投射曝光设备（1）的照明系统（6）生成（7），其具有输出光束（13）的线偏振光EUV照明光的EUV光源。的照明光学部件（24，25，31，37）开沿着光轴（20），由此在掩模母版平面（2）的照明场由所述输出光束（13）照射的输出光束（13）。至少所述EUV光源（7）包括照射子单元（7）的照明系统（6）具有用于设置一个限定的照明子单元的EUV发射光束（13）的偏振的偏振调整装置（15，18）（7），结果是该系统的偏振要求的照明系统，并且可以被适配为在基板或晶片结构要投影灵活。

3. 发明申请

WO2005081067A1 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置投影目标
公开(公告)号：WO2005081067A1
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：PCT/EP2004/014727
申请日：2004-12-27
申请人： CARL ZEISS SMT AG , KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
发明人： KNEER, Bernhard , WABRA, Norbert , GRUNER, Toralf , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70241 , G03F7/70341 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： A projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus (110) is designed for immersion operation in which an immersion liquid (134) adjoins a photosensitive layer (126). The refractive index of the immersion liquid is greater than the refractive index of a medium (L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9). that adjoins the immersion liquid on the object side of the projection objective (120; 120'; 120"). The projection objective is designed such that the immersion liquid (134) is convexly curved towards the object plane (122) during immersion operation.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置（110）的投影物镜被设计用于浸没操作，其中浸没液体（134）邻接感光层（126）。浸没液的折射率大于介质的折射率（L5; 142; L205; LL7; LL8; LL9）。在所述投影物镜（120; 120'; 120“）的物体侧邻接所述浸没液体，所述投影物镜被设计为使得所述浸没液体（134）在浸入操作期间朝向所述物体平面（122）凸形弯曲。

4. 发明申请

WO2005031467A2 MICROLITHOGRAPHIC ILLUMINATION METHOD AS WELL AS A PROJECTION ILLUMINATION SYSTEM FOR CARRYING OUT THE METHOD 审中-公开
标题翻译：作为执行方法的投影照明系统的微观照明方法
公开(公告)号：WO2005031467A2
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：PCT/EP2003/011977
申请日：2003-10-29
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GRUNER, Toralf , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , WANGLER, Johannes , BROTSACK, Markus , DIECKMANN, Nils , GOEHNERMEIER, Aksel , SCHWAB, Markus
发明人： GRUNER, Toralf , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , WANGLER, Johannes , BROTSACK, Markus , DIECKMANN, Nils , GOEHNERMEIER, Aksel , SCHWAB, Markus
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566 , G03F7/70108 , G03F7/70225 , G03F7/70308
摘要： In an illumination method for illuminating a substrate which is arranged in the area of an image plane of a projection objective as well as in a projection illumination system for performing that method output radiation directed at the substrate and having an output polarization state is produced. By means of a variable adjustment of the output polarization state with the aid of at least one polarization manipulation device the output polarization state can be formed to approach a nominal output polarization state. The polarization manipulation can be performed in a control loop on the basis of polarization-optical measuring data.
摘要翻译：在用于照射布置在投影物镜的像面的区域中的基板以及在用于执行该方法的投影照明系统中的基板的照明方法中，产生了朝向基板并具有输出偏振状态的输出辐射。借助于至少一个偏振操纵装置借助于输出偏振状态的可变调节，可以形成输出偏振状态以接近标称输出偏振状态。可以在基于偏振光学测量数据的控制回路中进行极化处理。

5. 发明申请

WO2004111690A1 PROJEKTIONSOBJEKTIV SOWIE VERFAHREN ZUM AUSWÄHLEN VON OPTISCHEN MATERIALIEN IN EINEM DERARTIGEN OBJEKTIV 审中-公开
标题翻译：投影镜头和方法，这样的镜头选择光材料
公开(公告)号：WO2004111690A1
公开(公告)日：2004-12-23
申请号：PCT/EP2003/006402
申请日：2003-06-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , GERHARD, Michael , ENKISCH, Birgit , GRUNER, Toralf
发明人： GERHARD, Michael , ENKISCH, Birgit , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G02B1/02
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B13/143 , G02B17/08 , G03F7/70225 , G03F7/70958 , G03F7/70966
摘要： Ein Projektionsobjektiv (10) für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage umfasst mehrere Gruppen aufeinanderfolgender optischer Elemente. In wenigstens einer Gruppe sind wenigstens ein erstes optisches Element aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Reinkristall und wenigstens ein zweites optisches Element aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Mischkristall, das wenigstens zwei verschiedene Erdalkalimetalle enthält, angeordnet. Alle optischen Elemente aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Mischkristall und vorzugsweise keines der optischen Elemente aus einem Erdalkalimetall-Fluorid-Reinkristall erfüllen dabei die Bedingung m i = GPL i * DB (θ i ) ≥ S. Die Grösse m i ist ein jedem optischen Element L i zugeordneter Verzögerungsparameter, GPL i die geometrische Weglänge eines unter maximalem Öffnungswinkel auf das optische Element L i auftreffenden Aperturstrahls (28), θ i der Öffnungswinkel zwischen dem Aperturstrahl (28) und der optischen Achse (26) des optischen Elements L i , DB(θ i ) ein Mass für die Doppelbrechung des optischen Elements L i , das von dem Material und der Kristallorientierung des optischen Elements L i unabhängig ist, und S ein für alle optischen Elemente L i einheitlicher Schwellenwert. Das Projektionsobjektiv weist eine geringe Doppelbrechung auf und ist kostengünstiger, als wenn alle optischen Elemente aus teuren Mischkristallen beständen.
摘要翻译：用于微光刻投影曝光设备的投影透镜（10）包括多个连续的光学元件的组。在至少一个基团是至少一种碱土金属氟化物结晶的第一光学元件和至少由含有至少两种不同的碱土金属碱土氟化物固溶体布置的第二光学元件。的碱土氟化物固体溶液和优选没有碱土金属氟化物晶体的光学元件的所有光学元件满足该条件MI = GPLi * DB（thetai）> = S的大小MI是每个光学元件栗相关联的延迟参数，GPLi入射在最大打开角度的光学构件栗孔径射线（28）的几何路径，thetai孔射线（28）和光学构件的光轴（26）之间的打开角度栗，DB（thetai）的双折射的测量光学部件的Li，是独立于所述光学部件Li的材料和晶体取向的，和S，一个，通用于所有光学元件李阈值。投影透镜具有低的双折射，是便宜比如果昂贵混晶种群的所有光学元件。

6. 发明申请

WO2004107054A2 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：投射曝光系统，
公开(公告)号：WO2004107054A2
公开(公告)日：2004-12-09
申请号：PCT/EP2004/002309
申请日：2004-03-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf
发明人： DITTMANN, Olaf , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70308 , G03F7/70966
摘要： Eine insbesondere für die Mikro-Lithographie ausgeführte Projektionsbelichtungsanlage weist eine Projektionsoptik auf, die mindestens ein doppelbrechendes optisches Element umfasst. Mit der Projektionsoptik wird ein Projektionsstrahlenbündel von einer Objektebene in eine Bildebene abgebildet. Die optischen Komponenten der Projektionsoptik sind derart zueinander angeordnet und/oder eingerichtet, dass sich für die jedem Feldpunkt zugeordneten Abbildungsstrahlen durch die gemeinsame optische Wirkung (1) der optischen Elemente ein von null verschiedener näherungsweiser konstanter Betrag der Doppelbrechung über den Bündelquerschnitt des Projektionslichtbündels ergibt. Dies stellt eine einfacher zu realisierende Optimierungsvorschrift als eine Kompensation der Doppelbrechung auf Null dar.
摘要翻译：特别是用于微光刻执行的投射曝光设备具有包括至少一个折射光学元件的投影光学系统。与投影光学系统，从物体平面上的投影光束在成像面成像。的投影光学装置的光学元件被布置成彼此和/或适用于通过公共光学效应被分配用于每个场点的成像光束在非零光学元件结果与双折射的在投影光束的束横截面恒定量近似的（1）。这提供了一种简单，实现最优化的规则显示为双折射的零补偿。

7. 发明申请

WO2004092801A2 KATADIOPTRISCHES REDUKTIONSOBJEKTIV MIT POLARISATIONSSTRAHLTEILER 审中-公开
标题翻译：偏振分束器的反射折射缩小透镜
公开(公告)号：WO2004092801A2
公开(公告)日：2004-10-28
申请号：PCT/EP2004/003576
申请日：2004-04-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , GRUNER, Toralf , SCHULTZ, Joerg
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , GRUNER, Toralf , SCHULTZ, Joerg
IPC分类号： G02B17/00
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B13/143 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0892 , G02B27/283
摘要： Ein katadioptrisches Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in der Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs hat eine optische Achse, eine katadioptrischen ersten Objektivteil (103) mit einem Konkavspiegel (105) und einem physikalischem Strahlteiler (106) mit mindestens einer polarisationsselektiven Strahlteilerschicht (107) sowie einen zweiten, vorzugsweise dioptrischen Objektivteil (103). In dem Lichtweg, der den Konkavspiegel (105) einschließt, ist ein Rückreflexionsspiegel (110) zur Rückreflexion von aus dem Strahlteiler kommenden Strahlung in Richtung des Strahlteilers angeordnet. Die hierdurch mögliche Mehrfachnutzung des Strahlteilers erlaubt neuartige Konstruktionen, insbesondere auch katadioptrische Projektionsobjektive mit koaxial zueinander angeordneten Objekt- und Bildfeld.
摘要翻译：用于成像放置在投影透镜图案的物平面中的投射物镜的像平面中的对象的反射折射投影物镜具有至少一个偏振选择分束器层的光学轴，反射折射第一物镜部分（103）与凹面镜（105）和物理分束器（106）（107 ）和第二，优选折射物镜部分（103）。在光路中，其包括凹面反射镜（105），后反射镜（110），用于从分束器来的辐射的背反射被布置在分束器的方向。在由此，能够多次使用分束器的使用允许新的设计，与同轴布置的物体和像场特别反射折射投影目标。

8. 发明申请

WO2003096124A1 LINSE AUS KRISTALLMATERIAL 审中-公开
标题翻译： LENS晶体材料
公开(公告)号：WO2003096124A1
公开(公告)日：2003-11-20
申请号：PCT/EP2002/012690
申请日：2002-11-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ENKISCH, Birgit , ENKISCH, Hartmut , GRUNER, Toralf
发明人： ENKISCH, Birgit , ENKISCH, Hartmut , GRUNER, Toralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70966 , B24B13/00 , G02B1/02 , G02B3/00
摘要： Verfahren zur Herstellung eines optischen Rohlings (1) aus einem Kristallmaterial als Vorstufe zur Herstellung einer Linse oder eines Linsenteils für ein Objektiv, insbesondere ein Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage. Bei dem Verfahren wird zunächst die Orientierung einer definiert innerhalb der Kristallstruktur orientierten ersten Kristallrichtung (3) bestimmt. Dann wird der optische Rohling (1) derart bearbeitet, dass die erste Kristallrichtung (3) im wesentlichen senkrecht auf einer optischen Roh-Fläche (7) des optischen Rohlings (1) steht. Dann wird eine Markierung auf dem optischen Rohling (1) oder auf einer Haltefassung des optischen Rohlings (1) aufgebracht, welche in einem definierten Zusammenhang zu einer zweiten Kristallrichtung (11) steht, welche einen von Null verschiedenen Winkel zur ersten Kristallrichtung (3) einnimmt.
摘要翻译：一种用于制造由液晶材料的作为前体的光学预型件（1），用于制造透镜或透镜用于微光刻投影曝光装置的透镜部，特别是投射物镜方法。在该过程中所述第一晶体方向（3）内取向的明确的晶体结构的取向，首先确定。然后，光学坯料（1）以这样的方式被加工，所述第一晶体方向（3）基本上垂直于光轴的原始表面（7）的光学预型件（1）。然后，将光学预型件上的标记（1）或光学坯料（1）的保持架被施加，这是在到第二结晶方向（11），它占据一个非零角度与第一晶体方向的定义的关系（3）上，

9. 发明申请

WO2008119794A1 OPTICAL SYSTEM, IN PARTICULAR ILLUMINATION DEVICE OR PROJECTION OBJECTIVE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：光学系统，特别是照明设备或投影微波投影曝光装置的目标
公开(公告)号：WO2008119794A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/EP2008/053847
申请日：2008-03-31
申请人： CARL ZEISS SMT AG , TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
发明人： TOTZECK, Michael , GRUNER, Toralf , FIOLKA, Damian
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70566
摘要： The invention relates to an optical system, in particular an illumination device or a projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus, comprising a polarization compensator (100, 200, 300, 400, 800, 900), which has at least one polarization-modifying partial element (110-140, 210-240, 310-340, 410-440, 810-840, 910-940), and a manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b), by means of which the position of the at least one partial element can be altered, wherein, in the optical system, at least one operating mode (501-504) can be set in which the intensity, over a region which belongs to a plane perpendicular to the optical axis (OA) and which can be illuminated with light from said light source, does not exceed 20% of the maximum intensity in said plane, and wherein the manipulator (150, 250, 722, 851-854, 951a-954a, 951b-954b) is arranged in said region.
摘要翻译：本发明涉及光学系统，特别是微光刻投影曝光装置的照明装置或投影物镜，该光学装置或投影物镜包括极化补偿器（100,200,300,400,800,900），其具有至少一个偏振修正部分元件（110-140,210-240,310-340,410-440,810-840,910-940）和操纵器（150,250,722,851-854,951a-954a，951b-954b），借助于此可以改变至少一个部分元件的位置，其中在光学系统中，可以设置至少一个操作模式（501-504），其中强度在属于垂直于光轴（OA）的并且可以用来自所述光源的光照射的平面不超过所述平面中最大强度的20％，并且其中所述操纵器（150,250,722,851-854,951a -954a，951b-954b）布置在所述区域中。

10. 发明申请

WO2008037496A3 PROJECTION OBJECTIVE FOR A MICROLITHOGRAPHY APPARATUS WITH IMPROVED IMAGING PROPERTIES AND METHOD FOR IMPROVING THE IMAGING PROPERTIES OF THE PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
公开(公告)号：WO2008037496A3
公开(公告)日：2008-04-03
申请号：PCT/EP2007/008476
申请日：2007-09-28
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
发明人： BECKENBACH, Mariella , RIEF, Klaus , BERTELE, Andreas , SIGEL, Benjamin , BLEIDISTEL, Sascha , HUMMEL, Wolfgang , FROMMEYER, Andreas , GRUNER, Toralf , SCHWAER, Jochen , SCHWAER, Baerbel , SCHLETTERER, Thomas , HOEGELE, Artur , SCHOEPPACH, Armin
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/02
摘要： A projection objective for microlithography comprises a plurality of lenses (32, 34, 36, 38, 42) which in each case have a local optical axis (40), a first manipulator (60) with a first actuator (46, 72) and at least one second actuator (48, 74) being assigned to at least one first lens (42) from the plurality of lenses (32, 34, 36, 38). A first force input and/or moment input can be realized by means of the first actuator (46, 72) and a second force input and/or moment input can be realized by means of the second actuator (48, 74), wherein the first force input and/or moment input and the second force input and/or moment input differ with regard to at least one of the parameters: intensity of the force and/or moment input, direction of the force input relative to the local optical axis (40), direction of the moment input relative to a periphery of the first lens (42).

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