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1. 发明申请

WO2007071353A1 IMAGING DEVICE IN A PROJECTION EXPOSURE MACHINE 审中-公开
标题翻译：投影曝光机成像装置
公开(公告)号：WO2007071353A1
公开(公告)日：2007-06-28
申请号：PCT/EP2006/012174
申请日：2006-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BACK, Stephan , HUMMEL, Wolfgang , FISCHER, Juergen , AUBELE, Karl-Eugen , MERZ, Erich , REINER, Raoul , RIEF, Klaus , SCHOENGART, Stefan , NEUMAIER, Markus , SCHWAER, Baerbel , WEBER, Ulrich , MUEHLBEYER, Michael , HOLDERER, Hubert , KOHL, Alexander , WEBER, Jochen , LIPPERT, Johannes , RASSEL, Thorsten
发明人： BACK, Stephan , HUMMEL, Wolfgang , FISCHER, Juergen , AUBELE, Karl-Eugen , MERZ, Erich , REINER, Raoul , RIEF, Klaus , SCHOENGART, Stefan , NEUMAIER, Markus , SCHWAER, Baerbel , WEBER, Ulrich , MUEHLBEYER, Michael , HOLDERER, Hubert , KOHL, Alexander , WEBER, Jochen , LIPPERT, Johannes , RASSEL, Thorsten
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F7/70258
摘要： An imaging in a projection exposure machine for microlithography comprises at least one optical element (10) and at least one manipulator, a linear drive (9, 11) for manipulating the position of the optical element. Said linear drive (9, 11) has at least one moving element (43), said moving element having a shearing part (42) and a lifting part (40). Said shearing part (42) is arranged to move the optical element (10) and said lifting part (40) is arranged to move said shearing part (42). Said linear drive (9, 11) has a supporting element which is in contact with and prevents movement of the optical element while the shearing part is moved by the lifting part.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光机中的成像包括至少一个光学元件（10）和至少一个操纵器，用于操纵光学元件位置的线性驱动器（9,11）。所述直线驱动器（9,11）具有至少一个移动元件（43），所述移动元件具有剪切部分（42）和提升部分（40）。所述剪切部分（42）布置成移动光学元件（10），并且所述提升部件（40）被布置成移动所述剪切部分（42）。所述线性驱动器（9,11）具有支撑元件，该支撑元件在剪切部分被升降部分移动的同时与光学元件接触并防止其移动。

2. 发明申请

WO2006029824A2 MONITORING ELEMENT FOR LITHOGRAPHIC PROJECTION SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：光刻投影系统的监测元件
公开(公告)号：WO2006029824A2
公开(公告)日：2006-03-23
申请号：PCT/EP2005/009841
申请日：2005-09-14
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BACK, Stephan , SOYEZ, Guido , BÜCHELE, Joachim
发明人： BACK, Stephan , SOYEZ, Guido , BÜCHELE, Joachim
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70341 , G03F7/70916
摘要： A monitoring element for use in a lithographic projection system is provided, comprising a sensor element for detecting at least one chemical compound present in a fluid present in said projection system and a data collection element collecting data from said sensor element.
摘要翻译：提供了用于光刻投影系统的监视元件，其包括用于检测存在于所述投影系统中存在的流体中的至少一种化学化合物的传感器元件以及用于从所述投影系统中收集数据的数据收集元件传感器元件。

3. 发明申请

WO2007031182A1 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUR EINSTELLUNG EINER OPTISCHEN ABBILDUNGSEIGENSCHAFT DERSELBEN 审中-公开
标题翻译：用于设置相同的光学图像FEATURE微光刻投射曝光设备和方法
公开(公告)号：WO2007031182A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/EP2006/008328
申请日：2006-08-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BACK, Stephan , SOYEZ, Guido , BUECHELE, Joachim , MUEHLPFORDT, Annette
发明人： BACK, Stephan , SOYEZ, Guido , BUECHELE, Joachim , MUEHLPFORDT, Annette
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70516 , G03F7/70258 , G03F7/70341
摘要： Ein Verfahren zur Einstellung einer optischen Abbildungseigenschaft in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit der sich eine Maske (22) auf ein eine lichtempfindliche Oberfläche (38) aufweisendes Substrat (36) abbilden lässt, wobei das Substrat in einer Richtung quer zu einer optischen Achse (32) relativ zu einem Projektionsobjektiv (34) schrittweise bewegt werden kann, weist die Schritte auf : Einbringen eines Immersionsmediums unter einem vorbestimmten Druck und/oder einer vorbestimmten Flussrate in mindestens einen ersten Zwischenraum (50) , wobei der mindestens eine erste Zwischenraum - entlang der optischen Achse gesehen - innerhalb einem Beleuchtungssystem (12) und/oder dem Projektionsobjektiv und/oder zwischen dem Beleuσhtungssystem und der Maske und/oder der Maske und dem Projektionsobjektiv und/oder dem Projektionsobjektiv und dem Substrat angeordnet wird; und Überwachen eines Ist-Drucks und/oder einer Ist-Flussrate des Immersionsmediums auf Abweichung von dem vorbestimmten Druck und/oder der vorbestimmten Flussrate.
摘要翻译：一种用于在微光刻投射曝光设备调整的光学成像特性的方法与表现出的感光表面（38）衬底（36）的掩模（22）可以被成像，其中所述衬底在一个方向上横向于光轴（32）相对于投影透镜（34）能够被移动一步一步包括以下步骤：以预定的压力和/或在至少一个第一间隙（50）以预定的流量，其中，所述至少一个第一空间下引入浸没介质 - 沿着光轴可见 - 被定位的照明系统（12）和/或投射物镜和/或之间的Beleushtungssystem和掩模和/或掩模和投影物镜和/或投射物镜和所述基板内; 和监测实际的压力和/或从规定的压力和/或所述预定流率的液浸介质的实际流率的偏差。

4. 发明申请

WO2006029824A3 MONITORING ELEMENT FOR LITHOGRAPHIC PROJECTION SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：用于岩石投影系统的监测元件
公开(公告)号：WO2006029824A3
公开(公告)日：2006-09-08
申请号：PCT/EP2005009841
申请日：2005-09-14
申请人： ZEISS CARL SMT AG , BACK STEPHAN , SOYEZ GUIDO , BUECHELE JOACHIM
发明人： BACK STEPHAN , SOYEZ GUIDO , BUECHELE JOACHIM
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70341 , G03F7/70916
摘要： A monitoring element for use in a lithographic projection system is provided, comprising a sensor element for detecting at least one chemical compound present in a fluid present in said projection system and a data collection element collecting data from said sensor element.
摘要翻译：提供了一种用于光刻投影系统的监测元件，包括用于检测存在于所述投影系统中的流体中的至少一种化合物的传感器元件和从所述传感器元件收集数据的数据收集元件。

5. 发明申请

WO2006069755A2 OBJEKTIVMODUL MIT WENIGSTENS EINEM AUSTAUSCHBAREN OPTISCHEN ELEMENT 审中-公开
标题翻译：与至少一个可互换的镜片ELEMENT镜头模块
公开(公告)号：WO2006069755A2
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：PCT/EP2005/013990
申请日：2005-12-23
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SOYEZ, Guido , BACK, Stephan , BUECHELE, Joachim , KALLER, Julian , LIMBACH, Guido , WOELFLE, Harald
发明人： SOYEZ, Guido , BACK, Stephan , BUECHELE, Joachim , KALLER, Julian , LIMBACH, Guido , WOELFLE, Harald
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0006 , G02B7/14 , G03F7/7015 , G03F7/70825 , G03F7/70933
摘要： In einem Objektivmodul (7), insbesondere einem Projektionsobjektiv für die Halbleiter-Lithographie, ist wenigstens ein in einem Objektivgehäuse (12) angeordnetes austauschbares optisches Element (9) vorgesehen. Wenigstens eine Gasaustauscheinrichtung (15) ist in einem Bereich des austauschbaren optischen Elements (9) derart angeordnet, dass während des Austauschs des optischen Elements (9) ein Aufnahmebereich (10') für das austauschbare optische Element (9) spülbar ist.
摘要翻译：在透镜模块（7），特别是用于半导体光刻的投射物镜，布置（9）提供的至少一个中的物镜壳体（12）可更换光学元件。至少一个气体交换装置（15）布置在可更换光学元件（9），使得所述光学元件的交换期间（9）具有用于可更换光学元件的接收区域（10“）（9）是可冲洗的的区域。

6. 发明申请

WO2006069755A3 LENS MODULE COMPRISING AT LEAST ONE REPLACEABLE OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：具有至少一个可交换光学元件的目标模块
公开(公告)号：WO2006069755A3
公开(公告)日：2006-10-05
申请号：PCT/EP2005013990
申请日：2005-12-23
申请人： ZEISS CARL SMT AG , SOYEZ GUIDO , BACK STEPHAN , BUECHELE JOACHIM , KALLER JULIAN , LIMBACH GUIDO , WOELFLE HARALD
发明人： SOYEZ GUIDO , BACK STEPHAN , BUECHELE JOACHIM , KALLER JULIAN , LIMBACH GUIDO , WOELFLE HARALD
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0006 , G02B7/14 , G03F7/7015 , G03F7/70825 , G03F7/70933
摘要： Disclosed is a lens module (7), especially a projection lens for semiconductor lithography, comprising at least one replaceable optical element (9) that is disposed in a lens housing (12). At least one gas exchange device (15) is positioned in an area of the replaceable optical element (9) in such a way that a receiving zone (10') for the replaceable optical element (9) can be flushed when the optical element (9) is replaced.
摘要翻译：在目标模块（7）中，特别是用于半导体光刻的投影物镜，提供了布置在透镜壳体（12）中的至少一个可互换光学元件（9）。至少一个气体交换装置（15）布置在可更换光学元件（9），使得所述光学元件的交换期间（9）具有用于可更换光学元件的接收区域（10“）（9）是可冲洗的的区域。

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