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    • 7. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER THERMOELEKTRISCHEN VORRICHTUNG
    • 制造方法热电装置
    • WO2009156382A2
    • 2009-12-30
    • PCT/EP2009/057780
    • 2009-06-23
    • MICROPELT GMBHNURNUS, JoachimVOLKERT, FritzSCHUBERT, Axel
    • NURNUS, JoachimVOLKERT, FritzSCHUBERT, Axel
    • H01L27/16H01L35/34
    • H01L35/34H01L27/16
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen mindestens einer thermoelektrischen Vorrichtung, mit den Schritten: Bereitstellen eines ersten Wafers (1), der aus einem thermoelektrischen Material eines ersten Leitungstyps gebildet ist; Bereitstellen eines zweiten Wafers, der aus einem thermoelektrischen Material seines zweiten Leitungstyps gebildet ist; Strukturieren des ersten Wafers (1), so dass eine Gruppe erster thermoelektrischer Strukturen (7) entsteht; Strukturieren des zweiten Wafers, so dass eine Gruppe zweiter thermoelektrischer Strukturen entsteht; Verbinden des ersten mit dem zweiten Wafer derart, dass die ersten und die zweiten thermoelektrischen Strukturen elektrisch miteinander verbunden sind und so die thermoelektrische Vorrichtung ausbilden. Erfindungsgemäß wird vor dem Strukturieren des ersten Wafers (1) ein erstes Kontaktmaterial (3) auf dem ersten Wafer (1) und/oder vor dem Strukturieren des zweiten Wafers ein zweites Kontaktmaterial auf dem zweiten Wafer abgeschieden.
    • 本发明涉及一种方法,用于产生至少一个热电装置,其包括以下步骤:提供第一晶片(1),其具有第一导电类型的热电材料形成; 提供了其它的第二导电类型的热电材料形成的第二晶片; 图案化所述第一晶片(1),从而形成一组第一热电结构体(7); 所述第二晶片的图案化,以使得一组第二热电结构; 连接所述第一到所述第二晶片,使得所述第一和第二热电结构体被电连接到彼此,从而形成所述热电装置。 根据本发明,第一接触材料(3)在所述第一晶片(1)和/或所述第二晶片的图案化之前,第二接触材料的第二晶片上的第一晶片的图案化之前沉积(1)。
    • 8. 发明申请
    • 半導体装置
    • 半导体器件
    • WO2009119175A1
    • 2009-10-01
    • PCT/JP2009/052377
    • 2009-02-13
    • 日本電気株式会社川中 雅史
    • 川中 雅史
    • H01L35/32H01L21/331H01L21/8222H01L23/34H01L23/38H01L27/06H01L29/73H01L29/737H01L35/16H01L35/28H01L35/30
    • H01L23/38H01L27/16H01L29/732H01L35/32H01L2924/0002H01L2924/00
    •  動作に対応して放熱を積極的に行うことができる半導体装置を提供する。熱電変換素子としてゼーベック素子310が埋設されている。ゼーベック素子310は、一端が半導体素子の発熱部に近接した位置に配置されるとともに他端が発熱部の遠位側に配置された状態で半導体素子の内部に設けられている。さらに、放熱素子としてのペルチエ素子320が埋設されている。ペルチエ素子320は、一端が発熱部に近接した位置に配置されるとともに他端が発熱部の遠位側に配置された状態で半導体素子の内部に設けられている。ゼーベック素子310にて生じた熱起電力に応じた電流がペルチエ素子320に印加される。
    • 本发明提供一种能够根据操作能够进行散热的半导体装置。 塞贝克元件(310)被埋入作为热电转换元件。 塞贝克元件(310)以这样的状态设置在半导体元件中,即,塞贝克元件的一端布置在靠近半导体元件的加热部分的位置,另一端设置在加热的远侧 部分。 此外,珀耳帖元件(320)被埋入作为散热元件。 帕尔贴元件320设置在半导体元件中,使得珀耳帖元件的一端配置在靠近加热部的位置,另一端配置在加热部的远侧。 根据塞贝克元件(310)中产生的热电动势的电流被施加到珀耳帖元件(320)。
    • 9. 发明申请
    • HIGH FILL-FACTOR VERTICAL THERMOELECTRIC DEVICE
    • 高填充因数垂直热电器件
    • WO2007103972A3
    • 2007-10-25
    • PCT/US2007063481
    • 2007-03-07
    • NANOCOOLERS INCGHOSHAL UTTAM
    • GHOSHAL UTTAM
    • H01L35/32
    • H01L35/32H01L27/16
    • A high fill-factor complementary vertical thermoelectric device is described. In some embodiments, a plurality of lower electrodes is disposed upon a supporting structure. Pairs of thermoelectric elements of complementary conductivity type are disposed on the lower electrodes, such that each lower electrode couples together a respective complementary pair of adjacent thermoelectric elements disposed thereon. A conformal dielectric layer is formed over the thermoelectric elements of one conductivity type, the thickness of the conformal layer on the sidewalls of these elements determining the spacing between adjacent pairs of complementary thermoelectric elements. A plurality of upper electrodes, each straddling a pair of adjacent lower electrodes and coupling together a complementary pair of adjacent thermoelectric elements may complete the high fill-factor complementary thermoelectric device.
    • 描述了高填充因子互补垂直热电装置。 在一些实施例中,多个下电极设置在支撑结构上。 互补导电类型的热电元件对设置在下电极上,使得每个下电极将设置在其上的相应热电元件的相应互补对耦合在一起。 在一种导电类型的热电元件上方形成共形介电层,这些元件的侧壁上的共形层的厚度决定了相邻对互补热电元件之间的间隔。 多个上部电极跨越一对相邻的下部电极并且将互补的一对相邻热电元件耦合在一起可以完成高填充因子互补热电装置。
    • 10. 发明申请
    • HIGH FILL-FACTOR VERTICAL THERMOELECTRIC DEVICE
    • 高填充因子垂直热电装置
    • WO2007103972A2
    • 2007-09-13
    • PCT/US2007/063481
    • 2007-03-07
    • NANOCOOLERS, INC.GHOSHAL, Uttam
    • GHOSHAL, Uttam
    • H01L35/32H01L27/16
    • A high fill-factor complementary vertical thermoelectric device is described. In some embodiments, a plurality of lower electrodes is disposed upon a supporting structure. Pairs of thermoelectric elements of complementary conductivity type are disposed on the lower electrodes, such that each lower electrode couples together a respective complementary pair of adjacent thermoelectric elements disposed thereon. A conformal dielectric layer is formed over the thermoelectric elements of one conductivity type, the thickness of the conformal layer on the sidewalls of these elements determining the spacing between adjacent pairs of complementary thermoelectric elements. A plurality of upper electrodes, each straddling a pair of adjacent lower electrodes and coupling together a complementary pair of adjacent thermoelectric elements may complete the high fill-factor complementary thermoelectric device.
    • 描述了高填充因子互补垂直热电装置。 在一些实施例中,多个下电极设置在支撑结构上。 互补导电类型的热电元件对设置在下电极上,使得每个下电极将布置在其上的相互互补的一对相邻热电元件连接在一起。 在一种导电类型的热电元件之上形成保形介电层,这些元件的侧壁上的共形层的厚度确定相邻的互补热电元件对之间的间隔。 多个上电极,每个跨越一对相邻的下电极并将互补的一对相邻的热电元件耦合在一起可以完成高填充因子互补热电装置。