专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2016058826A1 RADIATION SOURCE MODULE 审中-公开
标题翻译：辐射源模块
公开(公告)号：WO2016058826A1
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：PCT/EP2015/072440
申请日：2015-09-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PATRA, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , H01S3/09
CPC分类号： G03F7/7005 , G03F7/70041 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/70208 , G03F7/70233 , G03F7/70558
摘要： In a projection exposure system, at least one auxiliary radiation source (32 i ) is provided for compensating for fluctuations of a main radiation source.
摘要翻译：在投影曝光系统中，提供至少一个辅助辐射源（32i）以补偿主辐射源的波动。

2. 发明申请

WO2012136199A1 BELICHTUNGSEINRICHTUNG ZUR STRUKTURIERTEN BELICHTUNG EINER FLÄCHE 审中-公开
标题翻译：曝光装置对于结构暴露面
公开(公告)号：WO2012136199A1
公开(公告)日：2012-10-11
申请号：PCT/DE2012/100056
申请日：2012-03-08
申请人： JENOPTIK OPTICAL SYSTEMS GMBH , WERSCHNIK,. Jan , AUGUSTIN,Markus , REICHMANN, Lutz
发明人： WERSCHNIK,. Jan , AUGUSTIN,Markus , REICHMANN, Lutz
IPC分类号： G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70208 , G02B3/0056 , G02B26/0841 , G03F7/7005 , G03F7/70291 , H01L21/67069
摘要： Belichtungseinrichtung (14) zur strukturierten Belichtung eines Wafers, mit wenigstens einer Belichtungsanordnung (13) mit der ein Strahlenbündel (2), aufgeteilt in zwei Teilstrahlenbündel (2.1, 2.2) über zwei Mikrospiegelarrays (5.1; 5.2) moduliert wird, um die Durchsatzgeschwindigkeit bei der Belichtung von Wafern zu erhöhen.
摘要翻译：被调制成的通过速度，曝光装置（14）的用于晶片的图案化曝光，具有至少一个曝光组件（13）与由两个微反射镜阵列（5.2 5.1）分为两个部分光束（2.1，2.2）的梁（2）增加晶圆的曝光。

3. 发明申请

WO2007119839A1 ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译：照明光学装置，投影曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007119839A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/058223
申请日：2007-04-10
申请人： NIKON CORPORATION , NOBORU, Michio , SHIRAISHI, Naomasa
发明人： NOBORU, Michio , SHIRAISHI, Naomasa
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70358 , G03F7/70208 , G03F7/70466
摘要： An illumination optical system (IU) of a projection exposure apparatus for projecting and exposing a pattern of a reticle (R) onto a wafer (W) comprises a secondary relay optical system (22) for forming a plane (62) optically conjugate with a reticle surface between an exposure light source (10) and the reticle (R), and an optical path combining mirror (21) for combining exposure light beams (IL1, IL2) from the exposure light source (10) so that they illuminate the reticle surface closely to each other there, wherein the optical path combining mirror (21) includes reflecting surfaces (21a, 21b) for respectively reflecting the exposure light beams (IL1, IL2), and wherein a ridge line (21c) at the boundary between the reflecting surfaces (21a, 21b) is arranged on or near the plane (62).
摘要翻译：投影曝光装置的投影曝光装置的照明光学系统（IU），用于将掩模版（R）的图案投影并暴露在晶片（W）上，包括二次中继光学系统（22），用于形成与曝光光源（10）和光罩（R）之间的标线片表面，和用于组合来自曝光光源（10）的曝光光束（IL1，IL2）的光路组合反射镜（21），使得它们照亮光罩其中所述光路组合镜（21）包括用于分别反射所述曝光光束（IL1，IL2）的反射表面（21a，21b），并且其中在所述光路组合反射镜反射面（21a，21b）设置在平面（62）上或附近。

4. 发明申请

WO2007119466A1 露光装置、デバイス製造方法、および露光方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，装置制造方法和曝光方法
公开(公告)号：WO2007119466A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/055794
申请日：2007-03-22
申请人：株式会社ニコン , 重松幸二
发明人：重松幸二
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70283 , G03F7/70208 , G03F7/70275
摘要：　比較的コンパクトな構成に基づいて、例えば２種類のパターンを感光性基板上の同一ショット領域に重ね焼きして１つの合成パターンを形成することのできる二重露光方式の露光装置。第１マスク（Ｍａ）に形成されたパターン領域のうち、Ｙ方向に沿って細長く延びる第１領域を照明する第１照明系（ＩＬａ）と、Ｘ方向に沿って第１マスクから間隔を隔てた第２マスク（Ｍｂ）に形成されたパターン領域のうち、Ｙに沿って細長く延びる第２領域を照明する第２照明系（ＩＬｂ）と、第１領域のパターン像と第２領域のパターン像とを第２方向に沿って並列的に感光性基板上に形成する投影光学系（ＰＬ）とを備えている。第１照明系の射出側の部分光学系の光軸（ＡＸａ）および第２照明系の射出側の部分光学系の光軸（ＡＸｂ）は、ＹＺ平面に沿ってそれぞれ設定されている。
摘要翻译：提供了基于相对紧凑的结构的曝光装置，以将两种图案放置在例如感光基板的相同区域上的另一图案上，并将其曝光以形成一个合成图案。曝光装置包括：第一照明系统（ILa），用于照射形成在第一掩模（Ma）中的图案沿Y方向狭窄地延伸的第一区域;第二照明系统（ILb），用于将第二区域狭窄地照射沿着沿着X方向设置在距离第一掩模一定距离的第二掩模（Mb）中形成的图案沿Y方向延伸，以及用于形成第一区域的图案图像的投影光学系统（PL）和第二区域的图案图像沿着第二方向彼此平行。沿着YZ平面设置第一照明系统的投影侧的部分光学系统的光轴（AXa）和第二照明系统的投影侧上的部分光学系统的光轴（AXb）。

5. 发明申请

WO2007100081A1 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法和装置，以及装置制造方法
公开(公告)号：WO2007100081A1
公开(公告)日：2007-09-07
申请号：PCT/JP2007/054012
申请日：2007-03-02
申请人：株式会社ニコン , 柴崎祐一 , 小松田秀基
发明人：柴崎祐一 , 小松田秀基
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70425 , G03F7/70066 , G03F7/701 , G03F7/70208
摘要：　二重露光を行う各パターン毎にそれぞれ全面で最適な照明条件で照明し、かつ高スループットで露光を行う露光方法を提供する。走査露光方式でレチクル（Ｒ）のパターンをウエハ（Ｗ）上に転写する際に、レチクル（Ｒ）上に走査方向に隣接して第１、第２のパターン領域を形成しておき、その第１、第２のパターン領域が同時に投影光学系（ＰＬ）の視野内を通過しているときに、次第にその走査方向の幅が狭くなる第１照明スリット（１０ＡＰ）を用いて第１の照明条件でその第１のパターン領域を照明し、次第にその走査方向の幅が広くなる第２照明スリット（１０ＢＰ）を用いて第２の照明条件でその第２のパターン領域を照明してウエハ（Ｗ）を露光する。
摘要翻译：提供了一种曝光方法，其中在最佳照明条件下，在整个表面上分别照亮双曝光图案，并以高生产量进行曝光。为了通过扫描曝光系统将掩模版（R）的图案转印到晶片（W）上，在掩模版（R）上与扫描方向相邻地形成第一和第二图案区域。当第一图案区域和第二图案区域同时在投影光学系统（PL）的视野内通过时，通过使用第一照明狭缝（10AP）照射第一图案区域来暴露晶片（W）在第一照明条件下，在第一照明条件下，通过使用在扫描方向上的宽度逐渐变宽的第二照明狭缝（10BP）照射第二图案区域，在扫描方向上的宽度逐渐变窄。

6. 发明申请

WO2007094407A1 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2007094407A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/JP2007/052726
申请日：2007-02-15
申请人：株式会社ニコン , 長坂博之
发明人：長坂博之
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70275 , G03F7/70208 , G03F7/70283 , G03F9/7026 , G03F9/7088
摘要：　露光装置ＥＸは、第１パターンの像を第１露光領域ＡＲ１に形成し、第２パターンの像を第２露光領域ＡＲ２に形成する投影光学系ＰＬと、投影光学系ＰＬを介して第１パターンの像と第２パターンの像とで基板Ｐ上のショット領域を多重露光するときに、第１パターンの像が形成される第１像面ＩＳ１と基板Ｐ表面との面位置関係、並びに第２パターンの像が形成される第２像面ＩＳ２と基板Ｐ表面との面位置関係を調整する調整装置とを備えている。基板を良好に効率良く多重露光できる。
摘要翻译：曝光装置（EX）由用于在第一曝光区域（AR1）上形成第一图案的图像的投影光学系统（PL）和第二曝光区域（AR2）上的第二图案的图像，调整用于在第一图像表面（IS1）和基板（P）的表面之间调整平面位置的装置，以及在基板上的拍摄区域之间的第二图像表面（IS2）和基板（P）的表面之间的平面位置的装置（P）通过投影光学系统（PL）通过第一和第二图案的图像多次曝光。底物可以有效地良好地多曝光。

7. 发明申请

WO2003083580A1 SYSTEME DE TRAITEMENT OPTIQUE DE SURFACES 审中-公开
标题翻译：光学处理表面系统
公开(公告)号：WO2003083580A1
公开(公告)日：2003-10-09
申请号：PCT/FR2003/000931
申请日：2003-03-25
申请人： JOFFRE, Pascal
发明人： JOFFRE, Pascal
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/70208 , G03F7/70275 , G03F7/70283 , G03F7/70291 , G03F7/70383
摘要： L'invention concerne un système de traitement optique de surfaces comprenant a) une source (1,2) émettant, par une face émissive, un faisceau lumineux modulé spatialement ; b) un arrangement périodique d'éléments de concentration (3) de la lumière disposé entre la face émissive de la source et un plan selon lequel doit être disposée une surface d'un objet à traiter (4) ; c) la plus grande dimension de la face émissive et/ou de la matrice d'éléments de concentration est dans un rapport supérieur à 10 avec la distance (d2) séparant ledit plan d'une part de l'arrangement périodique d'éléments de concentration et /ou ladite face émissive d'autre part ; d) une platine support (5) destinée à recevoir ledit objet (4 dont on veut traiter une face de manière que ladite face à traiter soit parallèle à la face émissive de la source, la platine support permettant de déplacer ledit objet selon deux premières directions perpendiculaires entre elles et contenues dans le plan de la surface à traiter; le pas de déplacement selon ces deux premières directions étant sensiblement égal au pas de répartition de l'arrangement périodique d'éléments de concentration multiplié par le rapport de réduction des éléments de concentration. L'invention est applicable de préférence en micro-électronique, en reprographie, en visualisation et de façon générale dans les microtechnologies.
摘要翻译：本发明涉及一种用于光学处理表面的系统，所述系统包括：a）从其发射侧发射空间调制的光束的源（1,2）; b）光集中元件（3）的周期性布置，源极的发射侧和要被处理的物体（4）的表面必须布置的平面，c）发光侧的最大尺寸和/或聚光元件的矩阵的大小超过将所述平面与光聚集元件和/或发射侧的周期性布置分离的距离（d2），以及d）用于接收要以这种方式处理一侧的物体（4）的支撑板（5）待处理的一侧平行于源的出射侧，支撑板使物体能够相对于彼此垂直的两个第一方向位移，并且位于待处理表面的平面中。根据所述两个第一方向的位移步骤基本上等于聚光元件的周期性布置乘以光聚集元件的减小比率的分布步骤。优选地，本发明可以应用于微电子，复印，可视化以及更一般的微技术领域。

8. 发明申请

WO01079935A1 PATTERN GENERATION SYSTEM USING A SPATIAL LIGHT MODULATOR 审中-公开
标题翻译：使用空调光调制器的图案生成系统
公开(公告)号：WO01079935A1
公开(公告)日：2001-10-25
申请号：PCT/SE2001/000793
申请日：2001-04-10
IPC分类号： G02B26/08 , G02F1/01 , G03F7/20 , H01S3/00
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70208 , G03F7/70291
摘要： A system for creating a pattern on a workpiece sensitive to light radiation, such as a photomask, a display panel or a microoptical device, comprising a source for emitting light pulses in the wavelength range from EUV to IR, a spatial light modulator (SLM) having at least one modulating element (pixel), adapted to being illuminated by at least one emitted light pulse and a projection system creating an image of the modulator on the workpiece. Further, the system comprises a fast pulse detector to detect an output pulse energy of each individual pulse and produce for each said individual pulse, a signal corresponding to the output pulse energy of said individual pulse, a switch having response times in the nanosecond or sub-nanosecond range for blocking portions of each pulse, said switch being configured to be controlled by said signals from said fast pulse detector, so as to control the energy output of each individual pulse to approximately a desired energy output based on the output pulse energy measurement of said individual pulse.
摘要翻译：一种用于在对光辐射敏感的工件（例如光掩模，显示面板或微光学装置）上产生图案的系统，包括用于发射从EUV到IR的波长范围的光脉冲的光源，空间光调制器（SLM）具有适于被至少一个发射光脉冲照射的至少一个调制元件（像素）和在工件上产生调制器的图像的投影系统。此外，该系统包括一个快速脉冲检测器，用于检测每个独立脉冲的输出脉冲能量，并产生每个所述独立脉冲，对应于所述各个脉冲的输出脉冲能量的信号，具有纳秒或次级的响应时间的开关 - 用于阻断每个脉冲的部分的纳秒范围，所述开关被配置为由来自所述快速脉冲检测器的所述信号控制，以便基于输出脉冲能量测量将每个单个脉冲的能量输出控制到大致期望的能量输出的所述个体脉冲。

9. 发明申请

WO2016058851A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR A PROJECTION EXPOSURE SYSTEM 审中-公开
标题翻译：投影曝光系统照明光学单元
公开(公告)号：WO2016058851A1
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：PCT/EP2015/072863
申请日：2015-10-02
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PATRA, Michael , BIELING, Stig , DEGÜNTHER, Markus , MÜLLER, Ralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70208 , G03F7/70991
摘要： An illumination optical unit (17 i ) for a projection exposure system (1) comprises a plurality of radiation-reflecting components, wherein all of the radiation-reflecting components are arranged in such a way that a beam (10 i ) with illumination radiation (5) is deflected at these in the same sense.
摘要翻译：用于投影曝光系统（1）的照明光学单元（17i）包括多个辐射反射部件，其中所有的辐射反射部件被布置成使得具有照射辐射（5）的光束（10i）在这些意义上在这些偏转。

10. 发明申请

WO2013147019A1 光源装置审中-公开
标题翻译：光源设备
公开(公告)号：WO2013147019A1
公开(公告)日：2013-10-03
申请号：PCT/JP2013/059250
申请日：2013-03-28
申请人：株式会社オーク製作所
发明人：李　徳
IPC分类号： H01L21/027 , F21S2/00 , G03F7/20 , F21Y101/02
CPC分类号： G03F7/70208 , G03F7/70016 , G03F7/7005 , G03F7/70175
摘要：本発明の光源装置は、それぞれ焦点が規定される複数の凹面鏡と、それぞれ対応する焦点位置に配置される複数の光源と、前記複数の凹面鏡で反射した前記複数の光源からの光を反射して照度均一化光学系へ導く複数の反射面を有し、前記照度均一化光学系の光軸に沿って配置される反射光学素子とを備え、単一の仮想凹面鏡とその焦点位置にある単一の仮想光源とを、前記照度均一化光学系の光軸に沿って反射光学素子後方側に規定したとき、前記複数の凹面鏡それぞれが、前記複数の反射面に対して前記仮想凹面鏡の一部と共役な位置に配置されており、また、前記複数の光源が、前記複数の反射面に対して前記仮想光源と共役な位置に配置されている。
摘要翻译：该光源装置设有：多个凹面镜，每个具有规定的焦点; 多个光源设置在与每个相对应的焦点位置; 以及反射型光学元件，具有多个反射面，其反射来自所述多个光源的光，所述多个光源被所述多个凹面镜反射，并且将所述光引导到照度均匀化光学系统，所述反射光学元件沿着照度均匀化光学系统的光轴。当沿着照度均匀化光学系统的光轴在反射型光学元件的背面上规定位于其焦点的单个虚拟凹面镜和单个虚拟光源时，多个的凹面镜相对于多个反射面设置在与虚拟凹面镜的一部分共轭的位置。此外，多个光源中的每一个相对于多个反射表面设置在与虚拟光源共轭的位置。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式