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1. 发明申请

WO2017067765A1 METHOD AND APPARATUS TO CORRECT FOR PATTERNING PROCESS ERROR 审中-公开
标题翻译：纠正图案化处理错误的方法和装置
公开(公告)号：WO2017067765A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：PCT/EP2016/073084
申请日：2016-09-28
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： TEN BERGE, Peter , MOS, Everhardus, Cornelis , VAN HAREN, Richard, Johannes, Franciscus , WARDENIER, Peter, Hanzen , JENSEN, Erik , KASTRUP, Bernardo , KUBIS, Michael , MULKENS, Johannes, Catharinus, Hubertus , DECKERS, David, Frans, Simon , HENKE, Wolfgang, Helmut , LEE, Joungchel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F1/72 , G03F7/70425 , G03F7/70625
摘要： A method including obtaining a measurement and/or simulation result of a pattern after being processed by an etch tool of a patterning system, determining a patterning error due to an etch loading effect based on the measurement and/or simulation result, and creating, by a computer system, modification information for modifying a patterning device and/or for adjusting a modification apparatus upstream in the patterning system from the etch tool based on the patterning error, wherein the patterning error is converted to a correctable error and/or reduced to a certain range, when the patterning device is modified according to the modification information and/or the modification apparatus is adjusted according to the modification information.
摘要翻译：一种方法，包括：在由图案化系统的蚀刻工具处理之后获得图案的测量和/或模拟结果，基于所述测量结果确定由于蚀刻加载效应引起的图案化误差和/ 或模拟结果，并且由计算机系统基于图案化误差来创建用于修改图案形成装置和/或用于从蚀刻工具向上游调整图案化系统中的修改装置的修改信息，其中图案化错误被转换为当根据修改信息修改图案形成装置和/或根据修改信息调整修改装置时，可校正的误差和/或减小到一定范围。

2. 发明申请

WO2012081292A1 空間光変調器及びその駆動方法、並びに露光方法及び装置审中-公开
标题翻译：空调光调制器及其驱动方法及曝光方法及装置
公开(公告)号：WO2012081292A1
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：PCT/JP2011/071575
申请日：2011-09-22
申请人：株式会社ニコン , 渡邉陽司 , 大和壮一 , 藤原朋春
发明人：渡邉　陽司 , 大和　壮一 , 藤原　朋春
IPC分类号： H01L21/027 , G02B26/08 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70425 , G02B26/06 , G02B26/0841 , G03F7/70291 , G03F7/70508
摘要：　空間光変調器の駆動方法は、ミラー要素のアレイで、入射光を位相が同じか又は第１の位相だけ異なる反射光とする第１の状態のミラー要素と、入射光を位相がその第１の位相とほぼ１８０°異なる反射光とする第２の状態のミラー要素とを、第１の位相分布を持つ配列に設定することと、ミラー要素のアレイで、第１のミラー要素と第２のミラー要素とを、第１の位相分布を反転した第２の位相分布を持つ配列に設定することと、を含む。複数の光学要素のアレイを有する空間光変調器を用いるときに、最終的に基板の表面に形成される空間像の強度分布の目標分布からの誤差を軽減できる。
摘要翻译：一种空间光调制器驱动方法包括：将镜状元件阵列中的第一状态镜像元件设置成被配置成将入射光以相同相位或相位相差第一相位的反射光产生，第二状态具有第一相位分布的布置中的被配置为将入射光以与第一相位不同的相位大致180°的反射光呈现在反射镜阵列中的反射镜元件; 以及将第一状态镜像元件和第二状态镜像元件设置在具有与第一相位分布相反的第二相位分布的布置中的镜像元件阵列中。当使用具有多个光学元件的阵列的空间光调制器时，该方法可以减少从目标分布最终形成在基板表面上的空间图像的强度分布的误差。

3. 发明申请

WO2012041720A2 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR EUV MICROLITHOGRAPHY AND METHOD FOR MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE 审中-公开
标题翻译： EUV微型摄影用投影曝光装置及微型曝光方法
公开(公告)号：WO2012041720A2
公开(公告)日：2012-04-05
申请号：PCT/EP2011/066104
申请日：2011-09-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , BIENERT, Marc , FELDMANN, Heiko , GÖHNERMEIER, Aksel , NATT, Oliver , RUOFF, Johannes
发明人： BIENERT, Marc , FELDMANN, Heiko , GÖHNERMEIER, Aksel , NATT, Oliver , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70091 , G03F7/701 , G03F7/70425
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus for EUV microlithography comprising an illumination system (1) for illuminating a pattern and a projection objective (2) for imaging the pattern onto a light-sensitive substrate (5). The projection objective (2) has a pupil plane (30) with an obscuration. The illumination system (1) generates light with an angular distribution. The angular distribution has an illumination pole (35, 36) which extends over a range of polar angles and a range of azimuth angles and within which the light intensity is greater than an illumination pole minimum value. From the illumination pole (35, 36) toward large polar angles a dark zone (41, 42) is excluded within which the light intensity is less than the illumination pole minimum value, and which has in regions a form corresponding to the form of the obscuration of the pupil plane (30).
摘要翻译：本发明涉及一种用于EUV微光刻的投影曝光设备，其包括用于照射图案的照射系统（1）和用于将图案成像到光敏基底（5）上的投影物镜（2）。投影物镜（2）具有遮光的光瞳平面（30）。照明系统（1）产生具有角度分布的光。角度分布具有在极角范围和方位角范围上延伸的照明极（35,36），并且在该范围内光强度大于照明极点最小值。从照明极（35,36）朝向大极角，排除了暗区（41,42），在暗区内光强度小于照明极点最小值，并且在区域中具有对应于照明极的最小值的形式模糊瞳孔飞机（30）。

4. 发明申请

WO2011107604A1 ILLUMINATION METHODS AND DEVICES FOR PARTIALLY COHERENT ILLUMINATION 审中-公开
标题翻译：用于部分相干照明的照明方法和装置
公开(公告)号：WO2011107604A1
公开(公告)日：2011-09-09
申请号：PCT/EP2011/053339
申请日：2011-03-04
申请人： MICRONIC MYDATA AB , LUBEREK, Jarek
发明人： LUBEREK, Jarek
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70425 , G03F7/70116 , G03F7/70583
摘要： The technology disclosed relates to a partially coherent illuminators.In particular, it relates to a partially coherent illuminator that directs laser radiation across multiple areas of an illumination pupil. In some circumstances, this reduces spatial and/or temporal coherence of the laser radiation. It must be used with a continuous laser to provide partially coherent illumination from a coherent laser. It can be combined with a workpiece tracker that effectively freezes the workpiece and extends the time that laser radiation can be applied to expose a pattern stamp on the work piece or, it can be used with a stepper platform, without a tracker.A dynamically controllable aperture architecture is a by product of the technology disclosed.
摘要翻译：所公开的技术涉及部分相干的照明器。特别地，其涉及将激光辐射引导到照明瞳孔的多个区域上的部分相干照明器。在某些情况下，这降低了激光辐射的空间和/或时间相干性。必须使用连续激光来提供来自相干激光的部分相干照明。它可以与工件跟踪器组合，有效地冻结工件，并延长激光辐射可以施加的时间，以露出工件上的图案印章，或者可以与步进平台一起使用，而不需要跟踪器。可动态控制光圈架构是公开的技术的产物。

5. 发明申请

WO2009103964A1 LASER PROCESSING A MULTI-DEVICE PANEL 审中-公开
标题翻译：激光加工多设备面板
公开(公告)号：WO2009103964A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：PCT/GB2009/000436
申请日：2009-02-18
申请人： M-SOLV LIMITED , RUMSBY, Philip, Thomas
发明人： RUMSBY, Philip, Thomas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70425 , G03F7/70383 , G03F9/7026 , H05K3/0008 , H05K3/0026 , H05K3/0097 , H05K2203/1572
摘要： A system for processing a multi-device panel, comprising a substrate having front and rear surfaces, a first array of device regions located on the front surface and a second array of device regions on the rear surface, by vector direct-write laser ablation, comprising a first processing station comprising a pair of opposedly-mounted processing heads, each processing head comprising a laser beam delivery apparatus comprising a laser beam scanner and a lens unit, and a distance measurement means, mounting means for mounting the panel between the processing heads of the first processing station such that the relative position of the panel and the first processing station can be adjusted so that the processing heads are brought into alignment with selected front-surface and rear-surface device regions to be processed, wherein each processing head is operable to make an estimate of the distance between the lens unit and the surface of the device region to be processed using the distance measurement means, control the focus the lens unit dependent on said estimate and vector direct-write the device region.
摘要翻译：一种用于处理多器件面板的系统，包括具有前表面和后表面的衬底，位于前表面上的器件区域的第一阵列和后表面上的器件区域的第二阵列，通过矢量直写激光烧蚀，包括第一处理站，包括一对相对安装的处理头，每个处理头包括激光束传送装置，其包括激光束扫描器和透镜单元，以及距离测量装置，用于将面板安装在处理头之间的安装装置使得可以调整面板和第一处理站的相对位置，使得处理头与要处理的所选择的前表面和后表面设备区域对准，其中每个处理头是可操作地使用距离me来估计透镜单元和要处理的设备区域的表面之间的距离采样装置控制透镜单元取决于所述估计和矢量直接写入设备区域的焦点。

6. 发明申请

WO2007120602A2 DOUBLE EXPOSURE PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS 审中-公开
标题翻译：双曝光光刻工艺
公开(公告)号：WO2007120602A2
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/US2007/008746
申请日：2007-04-04
申请人： ALTERA CORPORATION , McELHENY, Peter, J. , LIU, Yowjuang, Bill
发明人： McELHENY, Peter, J. , LIU, Yowjuang, Bill
IPC分类号： G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0035 , G03F7/70425 , G03F7/70466
摘要： A first high resolution pattern is defined in a first layer of photoresist on a work surface and portions of the first layer are removed to expose the pattern on the work surface. The exposed portions of the work surface and the remaining portions of the first layer are then covered by a second layer of photoresist. A second lower resolution pattern is then defined in the second layer and portions of the second layer are removed to expose on the work surface a third pattern that is a subset of the first pattern. Standard (non-custom) masks may be used to define the first pattern while custom but lower resolution masks are used to define the second pattern.
摘要翻译：在工作表面上的第一层光致抗蚀剂中限定第一高分辨率图案，并且去除第一层的部分以露出工作表面上的图案。工作表面的暴露部分和第一层的剩余部分然后被第二层光致抗蚀剂覆盖。然后在第二层中限定第二较低分辨率图案，并且去除第二层的部分以在工作表面上露出作为第一图案的子集的第三图案。可以使用标准（非定制）掩模来定义第一图案，而定制但较低分辨率的掩模用于定义第二图案。

7. 发明申请

WO2007067488A2 METHOD AND SYSTEM FOR DOUBLE-SIDED PATTERNING OF SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：基板双面图案的方法与系统
公开(公告)号：WO2007067488A2
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/US2006046256
申请日：2006-11-30
申请人： MOLECULAR IMPRINTS INC
发明人： CHOI BYUNG-JIN , SREENIVASAN SIDLGATA V
IPC分类号： B29C35/02
CPC分类号： G03F7/70425 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F9/00 , Y10S977/887
摘要： The present invention is directed towards a method and a system of patterning first and second opposed sides of a substrate. The method and system may employ a mold assembly and obtaining a desired spatial relationship between the first and second opposed sides of the substrate and the mold assembly. In a further embodiment, the method and system may employ a first and a second mold assembly.
摘要翻译：本发明涉及一种图案化基板的第一和第二相对侧面的方法和系统。该方法和系统可以采用模具组件并且获得基板和模具组件的第一和第二相对侧之间的期望的空间关系。在另一个实施例中，该方法和系统可以采用第一和第二模具组件。

8. 发明申请

WO2007050023A1 WRITING APPARATUSES AND METHODS 审中-公开
标题翻译：写作设备和方法
公开(公告)号：WO2007050023A1
公开(公告)日：2007-05-03
申请号：PCT/SE2006/001214
申请日：2006-10-26
申请人： MICRONIC LASER SYSTEMS AB , SANDSTROM, Torbjorn
发明人： SANDSTROM, Torbjorn
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/24 , B41J2/442 , G02F1/1303 , G02F2203/12 , G03F7/70275 , G03F7/70291 , G03F7/70358 , G03F7/70366 , G03F7/70383 , G03F7/70391 , G03F7/704 , G03F7/70425 , G03F7/70783 , G03F7/70791 , H04N1/06 , H04N1/0607 , H04N1/0628 , H04N1/0664 , H04N1/0671 , H05K1/0393 , H05K3/0082
摘要： Patterns are written on workpieces, such as, glass sheets and/or plastic sheets used in, for example, electronic display devices such as LCDs. The workpiece may be larger than about 1500 mm may be used. An optical writing head with a plurality of writing units may be used. The workpiece and the writing head may be moved relative to one another to provide oblique writing.
摘要翻译：将图案写在诸如用于例如LCD之类的电子显示装置的玻璃片和/或塑料片等工件上。可以使用大于约1500mm的工件。可以使用具有多个写入单元的光学写入头。工件和书写头可以彼此相对移动以提供倾斜书写。

9. 发明申请

WO2007043411A1 デジタル露光装置审中-公开
标题翻译：数位曝光装置
公开(公告)号：WO2007043411A1
公开(公告)日：2007-04-19
申请号：PCT/JP2006/319869
申请日：2006-10-04
申请人：富士フイルム株式会社 , 橋口昭浩 , 寺田和広
发明人：橋口昭浩 , 寺田和広
IPC分类号： G03F7/20 , H05K3/00
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70425
摘要：　画像情報に基づいて変調された光ビームにより記録媒体を露光し、画像を記録するデジタル露光装置が開示されている。このデジタル露光装置は、前記記録媒体を搬送しながら前記記録媒体上に走査露光を行う露光ユニットと、前記記録媒体の搬送方向と直交する方向に設けられ、前記記録媒体を搬送経路に沿って搬送する搬送ユニットと、前記搬送経路の一方に設けられ露光前の前記記録媒体を待機させる第１の待機ステージと、前記搬送経路の他方に設けられ露光済みの記録媒体を待機させる第２の待機ステージと、前記待機ステージから前記記録媒体を受け取り、前記記録媒体の表裏を反転させる反転ユニットとを備えている。
摘要翻译：一种数字曝光装置，其通过基于图像信息调制的光束曝光记录介质并记录图像。数字曝光装置设置有曝光单元，其在传送记录介质的同时对记录介质进行扫描曝光; 传送单元，其布置在与记录介质的传送方向正交的方向上，并沿着传送路径传送记录介质; 布置在传送路径之一上并允许记录介质在曝光之前等待的第一等待阶段; 布置在其他传送路径上并允许曝光的记录介质等待的第二等待阶段; 以及反转单元，其从等待台接收记录介质并使记录介质的前后反向。

10. 发明申请

WO2007002695A3 LAYOUT MODIFICATION TO ELIMINATE LINE BENDING CAUSED BY LINE MATERIAL SHRINKAGE 审中-公开
标题翻译：布局修改消除由线材收缩引起的弯曲
公开(公告)号：WO2007002695A3
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：PCT/US2006025031
申请日：2006-06-26
申请人： TEXAS INSTRUMENTS INC , UKRAINTSEV VLADIMIR ALEXEEVICH , MASON MARK E , BLATCHFORD JAMES WALTER , SMITH BRIAN ASHLEY , HORNUNG BRIAN EDWARD , ANDERSON DIRK NOEL
发明人： UKRAINTSEV VLADIMIR ALEXEEVICH , MASON MARK E , BLATCHFORD JAMES WALTER , SMITH BRIAN ASHLEY , HORNUNG BRIAN EDWARD , ANDERSON DIRK NOEL
IPC分类号： H01L21/461 , H01L21/302
CPC分类号： G03F7/70425 , H01L21/0273
摘要： A semiconductor device and a method for fabricating a semiconductor device with reduced line bending is provided. The method can include forming a first layer and depositing a photoresist layer on the first layer. The photoresist layer can be patterned, such that the patterning comprises at least one support feature (271) disposed adjacent to an outside of a corner feature (250).
摘要翻译：提供了一种半导体器件和用于制造具有减少的线弯曲的半导体器件的方法。该方法可以包括形成第一层并且在第一层上沉积光致抗蚀剂层。光致抗蚀剂层可以被图案化，使得图案化包括设置在角部件（250）的外侧附近的至少一个支撑部件（271）。

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