基本信息:
- 专利标题： 光源装置
- 专利标题（英）：Light source device
- 专利标题（中）：光源设备
- 申请号：PCT/JP2013/059250 申请日：2013-03-28
- 公开(公告)号：WO2013147019A1 公开(公告)日：2013-10-03
- 发明人： 李 徳
- 申请人： 株式会社オーク製作所
- 申请人地址： 〒1940215 東京都町田市小山ヶ丘3丁目9番地6 Tokyo JP
- 专利权人： 株式会社オーク製作所
- 当前专利权人： 株式会社オーク製作所
- 当前专利权人地址： 〒1940215 東京都町田市小山ヶ丘３丁目９番地６ Tokyo JP
- 代理机构： 松浦孝
- 优先权： JP2012-076168 20120329
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; F21S2/00 ; G03F7/20 ; F21Y101/02
摘要：
本発明の光源装置は、それぞれ焦点が規定される複数の凹面鏡と、それぞれ対応する焦点位置に配置される複数の光源と、前記複数の凹面鏡で反射した前記複数の光源からの光を反射して照度均一化光学系へ導く複数の反射面を有し、前記照度均一化光学系の光軸に沿って配置される反射光学素子とを備え、単一の仮想凹面鏡とその焦点位置にある単一の仮想光源とを、前記照度均一化光学系の光軸に沿って反射光学素子後方側に規定したとき、前記複数の凹面鏡それぞれが、前記複数の反射面に対して前記仮想凹面鏡の一部と共役な位置に配置されており、また、前記複数の光源が、前記複数の反射面に対して前記仮想光源と共役な位置に配置されている。
摘要（中）：
该光源装置设有：多个凹面镜，每个具有规定的焦点; 多个光源设置在与每个相对应的焦点位置; 以及反射型光学元件，具有多个反射面，其反射来自所述多个光源的光，所述多个光源被所述多个凹面镜反射，并且将所述光引导到照度均匀化光学系统，所述反射光学元件沿着 照度均匀化光学系统的光轴。 当沿着照度均匀化光学系统的光轴在反射型光学元件的背面上规定位于其焦点的单个虚拟凹面镜和单个虚拟光源时，多个 的凹面镜相对于多个反射面设置在与虚拟凹面镜的一部分共轭的位置。 此外，多个光源中的每一个相对于多个反射表面设置在与虚拟光源共轭的位置。
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |