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1. 发明申请

WO2019033560A1 一种基板预烘烤装置审中-公开
公开(公告)号：WO2019033560A1
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：PCT/CN2017/107996
申请日：2017-10-27
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人：何恒忠
IPC分类号： F26B25/06
CPC分类号： F26B25/06 , G03F7/38 , H01L51/56
摘要：一种基板预烘烤装置，其包括烘烤箱体（1），其内部为烘烤容腔（11），所述烘烤箱体（1）的一侧面设有侧门开口；侧门（2），安装于所述侧门开口处；加热机构（3），设于所述烘烤容腔（11）中；热风幕系统（4），设于所述烘烤箱体（1）的侧门（2）处；当所述侧门（2）开启时，所述热风幕系统（4）用于在所述侧门开口处形成隔绝所述烘烤容腔（11）与外界环境的热风幕。

2. 发明申请

WO2019015006A1 减压干燥设备及减压干燥方法审中-公开
公开(公告)号：WO2019015006A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：PCT/CN2017/098166
申请日：2017-08-18
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人：龚成波
IPC分类号： G02F1/133 , G03F7/38 , G03C1/74
CPC分类号： G03F7/38
摘要：一种减压干燥设备及减压干燥方法。减压干燥设备包括：工作腔（10）、工作台（21）、抽气孔（30）、进气孔（40）、以及进气孔阀门（50），工作台（21）设于工作腔（10）内，工作台（21）的四角分别设有一抽气孔（30），对应每一个抽气孔（30）均设有至少一个与抽气孔（30）相邻的进气孔（40），每一个进气孔（40）上均设有一进气孔阀门（50），通过在抽气孔（30）抽气的同时由进气孔（40）在抽气孔（30）的周边通入保护气，减少抽气孔（30）从基板的边缘抽离挥发后的光刻胶溶剂的速度，从而提升光刻胶溶剂挥发的均一性，避免因光刻胶溶剂挥发不均匀影响显影制程的线宽，保证显影制程的线宽的均匀性。

3. 发明申请

WO2018113090A1 基板烘烤机台及其烘烤作业方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018113090A1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：PCT/CN2017/074911
申请日：2017-02-26
申请人：惠科股份有限公司 , 重庆惠科金渝光电科技有限公司
发明人：黄俊钦
IPC分类号： H01L21/67 , F26B3/06
CPC分类号： G03F7/40 , G03F7/38 , H01L21/67109
摘要：一种基板（221）烘烤机台（200）及其烘烤作业的方法，基板（221）烘烤机台（200）包括环状承载本体（250）、盖板（251）、空气输入单元（230）、抽气输出单元（240）以及排气调节抽气系统（260）。环状承载本体（250）覆盖基板（221），环状承载本体（250）与设置在其上的盖板（251）限定出密闭式腔室（255）。基板（221）的一表面位于密闭式腔室（255）内。空气输入单元（230）和抽气输出单元（240）分别设置于密闭式腔室（255）的输入端（230）和输出端（240）。排气调节抽气系统（260）设置在盖板（251）上方，并连通于密闭式腔室（255）用以将基板（221）挥发的大量蒸气气体给予调节排出。基板（221）烘烤作业方法包括提供基板（221）烘烤机台（200），依据加热单元（220）加热基板（221）以产生挥发气体，通过空气输入单元（230）、抽气输出单元（240）及排气调节抽气系统（260）将挥发气体排出。

4. 发明申请

WO2017194393A1 RADIATION CONDITIONING SYSTEM, ILLUMINATION SYSTEM AND METROLOGY APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD 审中-公开
标题翻译：辐射调节系统，照明系统和计量装置，装置制造方法
公开(公告)号：WO2017194393A1
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：PCT/EP2017/060736
申请日：2017-05-05
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： GOORDEN, Sebastianus, Adrianus , TUKKER, Teunis, Willem , DE WIT, Johannes, Matheus, Marie , MERTES, Jonas , VAN DER ZOUW, Gerbrand
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09
CPC分类号： G03F7/70191 , G01B11/0608 , G01B11/272 , G01N21/4738 , G01N21/8851 , G02B27/0994 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26 , G03F7/38 , G03F7/70075
摘要： Disclosed are an optical system for conditioning a beam of radiation, and an illumination system and metrology apparatus comprising such an optical system. The optical system comprises one or more optical mixing elements in an optical system. The optical system defines at least a first optical mixing stage, at least a second optical mixing stage, and at least one transformation stage, configured such that radiation entering the second optical mixing stage includes a transformed version of radiation exiting the first optical mixing stage. The first and second optical mixing stages can be provided using separate optical mixing elements, or by multiple passes through the same optical mixing element. The transformation stage can be a Fourier transformation stage. Both spatial distribution and angular distribution of illumination can be homogenized as desired.
摘要翻译：公开了一种用于调节辐射束的光学系统，以及包括这种光学系统的照明系统和度量设备。该光学系统包括光学系统中的一个或多个光学混合元件。光学系统至少限定第一光学混合级，至少第二光学混合级和至少一个变换级，其被配置为使得进入第二光学混合级的辐射包括离开第一光学混合级的变换形式的辐射。第一和第二光学混合台可以使用单独的光学混合元件或通过多次穿过同一光学混合元件来提供。变换阶段可以是傅里叶变换阶段。照明的空间分布和角度分布可以根据需要均匀化。

5. 发明申请

WO2017163816A1 感活性光線性又は感放射線性組成物、感活性光線性又は感放射線性組成物の製造方法、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法审中-公开
标题翻译：光化射线敏感或辐射敏感组合物，在制造一个敏感或辐射敏感组合物，图案形成方法的方法，以及电子设备的制造方法
公开(公告)号：WO2017163816A1
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：PCT/JP2017/008450
申请日：2017-03-03
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：二橋　亘 , 椿　英明
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0044 , G03F7/0042 , G03F7/0043 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/322 , G03F7/38
摘要：超微細のパターンの形成において、解像性に優れ、かつ感度のバラツキが少ない感活性光線性又は感放射線性組成物、上記感活性光線性又は感放射線性組成物の製造方法、上記感活性光線性又は感放射線性組成物を用いるパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性組成物、および、感活性光線性又は感放射線性組成物の製造方法により得られる感活性光線性又は感放射線性組成物は、金属原子を有するカチオン及び配位子を含有し、式（１）で表されるσの値が２．２以下である。パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法は、上記感活性光線性又は感放射線性組成物を用いる。
摘要翻译：在形成
超细，优异的分辨率的图案的，和变化很小的感光度的光化射线敏感或辐射敏感组合物中，光化射线敏感或辐射敏感组合物使用光化射线敏感或辐射敏感组合物的制造图案形成方法的方法，以及用于制造电子器件的方法。通过光化射线敏感或辐射敏感组合物，阳离子的制造方法和配体与金属原子得到的光化射线敏感或辐射敏感组合物，和，敏感或辐射敏感组合物它包含由式（1）表示的σ的值是2.2或更小。的图案形成方法及电子器件的制造方法，使用该光化射线敏感或辐射敏感组合物。

6. 发明申请

WO2017135300A1 膜、膜の製造方法、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ审中-公开
标题翻译：膜，制造方法，光学过滤器，层压板，固态图像拾取元件
公开(公告)号：WO2017135300A1
公开(公告)日：2017-08-10
申请号：PCT/JP2017/003587
申请日：2017-02-01
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：尾田　和也 , 荒山　恭平 , 佐々木　大輔 , 松村　季彦 , 北島　峻輔
IPC分类号： G02B5/22 , C09B11/00 , C09B11/28 , C09B23/00 , C09B57/00 , C09B57/10 , G02B1/11 , G02B5/20 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/38
CPC分类号： C09B11/00 , C09B11/28 , C09B23/00 , C09B57/00 , C09B57/10 , G02B1/11 , G02B5/20 , G02B5/22 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/38
摘要：耐熱性に優れた膜および膜の製造方法を提供する。また、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサを提供する。染料の凝集体と、樹脂とを含み、染料の凝集体の平均粒径が３０～４５０ｎｍである膜。
摘要翻译：提供了具有优异耐热性的膜和生产膜的方法。此外，提供了滤光器，层压体，固态成像装置，图像显示装置和红外传感器。含有染料和树脂的聚集体的膜，其中染料的聚集体具有30至450nm的平均粒径。

7. 发明申请

WO2017050808A1 MICRO-FABRICATION OF THREE DIMENSIONAL PYROLYSED CARBON MICROELECTRODES 审中-公开
标题翻译：三维微晶碳微电极的微观制造
公开(公告)号：WO2017050808A1
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：PCT/EP2016/072388
申请日：2016-09-21
申请人： DANMARKS TEKNISKE UNIVERSITET
发明人： HEMANTH, Suhith , KELLER, Stephan Sylvest , CAVIGLIA, Claudia , AMATO, Letizia
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/20 , G03F7/213 , G03F7/38
CPC分类号： G03F7/2022 , G03F7/0035 , G03F7/0037 , G03F7/213 , G03F7/38
摘要： The present invention relates in one aspect to a method of producing a three-dimensional microscale patterned resist template for a pyrolysed carbon microelectrode structure by means of UV-lithography. Coating a planar substrate with an epoxy-based negative photoresist, such as an SU-8 photoresist; soft baking the photoresist layer; performing a full depth exposure with UV light through a first mask; performing a partial depth exposure with UV light through a second mask; wherein the full depth exposure and the partial depth exposure are aligned to ensure that the first and second latent images are connected to each other; post-exposure baking the photoresist layer; and developing the microscale patterned resist template as a free-standing structure of cross-linked resist with lateral hanging structures that are supported by vertical support structures at a free height above the substrate. The method is characterized by a soft baking temperature below 70 °C. Repetitive coating and partial depth exposure allows for the fabrication of multiple level laterally interconnected structures. Carbonization of the resist template provides truly three-dimensional carbon microelectrode structures.
摘要翻译：本发明在一个方面涉及通过UV光刻法制造用于热解的碳微电极结构的三维微米图案化抗蚀剂模板的方法。用诸如SU-8光致抗蚀剂的环氧基负性光致抗蚀剂涂覆平面基板; 软烘烤光刻胶层; 通过第一掩模用紫外光进行全深度曝光; 通过第二掩模用UV光进行局部深度曝光; 其中所述全深度曝光和所述部分深度曝光被对准以确保所述第一和第二潜像彼此连接; 后曝光烘烤光刻胶层; 并且将微米图案化的抗蚀剂模板显影为具有横向悬挂结构的交联抗蚀剂的独立结构，其在衬底上方的自由高度由垂直支撑结构支撑。该方法的特点是软烘烤温度低于70℃。重复涂布和部分深度曝光允许制造多层横向互连结构。抗蚀剂模板的碳化提供真正的三维碳微电极结构。

8. 发明申请

WO2016200972A1 LIQUID, HYBRID UV/VIS RADIATION CURABLE RESIN COMPOSITIONS FOR ADDITIVE FABRICATION 审中-公开
标题翻译：液体，混合UV / VIS辐射可固化树脂组合物用于添加剂
公开(公告)号：WO2016200972A1
公开(公告)日：2016-12-15
申请号：PCT/US2016/036483
申请日：2016-06-08
申请人： DSM IP ASSETS B.V. , LEE, Tai Yeon , KWISNEK, Luke , JANSEN, Johan
发明人： LEE, Tai Yeon , KWISNEK, Luke , JANSEN, Johan
IPC分类号： C08F2/48 , C08F2/00 , C08F2/50 , C08G65/18 , C08L63/00 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/38 , C08G59/68 , C08G65/18 , C08L63/00 , G03F7/0037 , G03F7/0045 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/038 , C08L33/06 , C08L71/02
摘要： Liquid radiation curable compositions are disclosed which are suitable for hybrid (i.e. cationic and free-radical) polymerization when processed via additive fabrication equipment utilizing sources of actinic radiation with peak spectral intensities in the UV/vis region. Also dislcosed are methods of creating three-dimensional parts via additive fabrication processes utilizing sources of actinic radiation with peak spectral intensities in the UV/vis region employing liquid radiation curable compositions suitable for hybrid polymerization, and the parts cured therefrom.
摘要翻译：公开了适用于混合（即阳离子和自由基）聚合的液体可辐射固化组合物，当通过使用UV / vis区域中具有峰值光谱强度的光化辐射源的添加剂制造设备进行加工时。也是通过使用适用于混合聚合的液体可辐射固化组合物的UV / vis区域中具有峰光谱强度的光化辐射源和通过其固化的部分的添加剂制造方法来产生三维部分的方法。

9. 发明申请

WO2016118278A2 COMPOSITION OF MATTER AND MOLECULAR RESIST MADE THEREFROM 审中-公开
标题翻译：由此制备的物质和分子抗体的组成
公开(公告)号：WO2016118278A2
公开(公告)日：2016-07-28
申请号：PCT/US2015/067202
申请日：2015-12-21
申请人： ROBINSON, Alex, Phillip Graham , YANG, Dongxu , FROMMHOLD, Andreas , LADA, Thomas , ROTH, John , XUE, Xiang , JACKSON, Edward, A.
发明人： ROBINSON, Alex, Phillip Graham , YANG, Dongxu , FROMMHOLD, Andreas , LADA, Thomas , ROTH, John , XUE, Xiang , JACKSON, Edward, A.
CPC分类号： G03F7/027 , C07D245/02 , C07D487/14 , C07D498/14 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L51/0018 , H01L51/0047
摘要： The present application for patent discloses a composition of matter comprising: comprising a solvent; and an ester having a chemical structure chosen from (I), (II), or (III); wherein X and Y are the same or different, wherein at least one of X and Y comprises an acid labile group, wherein R 1 is a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms, R 2 is chosen from hydrogen or a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms, R 3 is a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms, and R 4 is a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms and A - is an anion.
摘要翻译：本专利申请公开了一种物质组合物，其包含：包含溶剂; 和具有选自（I），（II）或（III）的化学结构的酯; 其中X和Y相同或不同，其中X和Y中的至少一个包含酸不稳定基团，其中R 1是具有1-4个碳原子的饱和或不饱和基团，其中R 2选自氢或具有1-4个碳原子的饱和或不饱和基团，R 3是具有1-4个碳原子的饱和或不饱和基团，且R 4是具有1-4个碳原子的饱和或不饱和基团，并且A - 是阴离子。

10. 发明申请

WO2016080217A1 湿式除去が可能なシリコン含有レジスト下層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：通过湿法除去可形成含硅含量膜的组合物
公开(公告)号：WO2016080217A1
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：PCT/JP2015/081345
申请日：2015-11-06
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：若山　浩之 , 中島　誠 , 柴山　亘 , 遠藤　雅久
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0752 , C08G77/14 , C09D4/00 , C09D183/02 , C09D183/04 , C09D183/06 , G03F7/11 , G03F7/2004 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/02123 , H01L21/311
摘要：【課題】ハードマスクとして使用でき、硫酸／過酸化水素などの薬液を用いたウエットエッチングによる方法で除去可能なレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）成分と（Ｂ）成分とを含み、（Ａ）成分は加水分解性シラン、その加水分解物、又はその加水分解縮合物を含み、該加水分解性シランが式（１）：Ｒ 1 ａＲ 2 ｂＳｉ（Ｒ 3 ） 4－（ａ＋ｂ）式（１）〔式（１）中、Ｒ 1 は式（２）：で示される有機基を示し且つＳｉ－Ｃ結合によりケイ素原子と結合しているものである。Ｒ 3 はアルコキシ基、アシルオキシ基、又はハロゲン基を示す。ａは１の整数を示し、ｂは０～２の整数を示し、ａ＋ｂは１～３の整数を示す。〕で示される加水分解性シランを含み、　（Ｂ）成分は、アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基を有する環構造を含む架橋性化合物、又はエポキシ基又はブロックイソシアネート基を有する架橋性化合物であることを特徴とするリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。
摘要翻译： [问题]提供一种形成抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜形成用组合物，其可以用作硬掩模，并且可以通过使用液体化学品如硫酸/过氧化氢的湿式蚀刻方法除去。 [解决方案]用于光刻的抗蚀剂下层膜形成组合物，其特征在于包含成分（A）和成分（B），其中成分（A）包含一种或多种可水解硅烷，其水解产物或其水解/缩合产物，式（1）表示的水解性硅烷：[化学式1]式（1）[式（1）中，R 1表示由式（2）表示的有机基团[化学式2]式（2）并且通过Si-C键与硅原子键合，R3表示烷氧基，酰氧基或卤素基团，符号a为1的整数，b为0-2的整数，a + b为整数1-3]，成分（B）是包含具有烷氧基甲基或羟甲基的环结构或具有环氧基或封端异氰酸酯基的交联化合物的交联化合物。

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