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1. 发明申请

WO2019018165A1 METHODS AND APPARATUSES FOR ALIGNING AND DIAGNOSING A LASER BEAM 审中-公开
公开(公告)号：WO2019018165A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：PCT/US2018/041500
申请日：2018-07-10
申请人： CYMER, LLC
发明人： BARNHART, Donald Harrison
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/213 , G03F7/22
摘要： Methods and apparatuses for aligning and diagnosing the laser beam traversing an optical train in a highly space-efficient, lower cost and/or retrofit-friendly manner are disclosed. The optical components of the optical train are mounted such that one or more optical components can direct their exit laser beam to partially or wholly scan across one or more downstream sensors. Correlation data between physical disposition of optical components and the points of impact data and/or beam quality data are employed to, among others, align and/or diagnose the laser beam and/or localize failure sites and/or optimize maintenance schedule.

2. 发明申请

WO2018045557A1 一种光刻设备和光刻系统审中-公开
公开(公告)号：WO2018045557A1
公开(公告)日：2018-03-15
申请号：PCT/CN2016/098563
申请日：2016-09-09
申请人：华为技术有限公司
发明人：朗诺斯弗洛里安
IPC分类号： G03F7/213
CPC分类号： G03F7/213
摘要：一种光刻设备（100）和光刻系统，该光刻设备（100）包括：光开关（110）和N个光子器件（120），光开关（110）包括N个子光开关（111,112），N个子光开关（111,112）与N个光子器件（120，130）一一对应，N为正整数且N≥2；每个子光开关（111,112）的状态包括开启状态和关闭状态，处于开启状态的子光开关（111,112）用于将光束传输至对应的光子器件（120，130），处于关闭状态的子光开关（111,112）不能将光束传输至对应的光子器件（120，130）；每个光子器件（120，130）包括分束装置（121,131）和聚焦透镜（122,132）。该光刻设备（100）无需改变光刻设备（100）与基材的相对位置即可制备出需要的图案，避免了平移步骤和对准步骤，从而提高了处理效率以及在基材上形成的干涉图案的精确度。

3. 发明申请

WO2020125927A1 KOEHLER INTEGRATOR DEVICE AND APPLICATION THEREOF IN A MULTI-FOCAL CONFOCAL MICROSCOPE 审中-公开
公开(公告)号：WO2020125927A1
公开(公告)日：2020-06-25
申请号：PCT/EP2018/085228
申请日：2018-12-17
申请人： ECOLE POLYTECHNIQUE FEDERALE DE LAUSANNE (EPFL)
发明人： MAHECIC, Dora , DOUGLASS, Kyle , MANLEY, Suliana
IPC分类号： G02B21/00 , G02B27/09 , G03F7/213 , B23K26/067
摘要： A Koehler integrator device (10) comprises a collimating lens (11) being arranged for collimating a light field created by an incoherent or partially coherent light source, a pair of planar first and second micro-lens arrays (12, 13) being arranged for relaying portions of the collimated light field along separate imaging channels, wherein all micro-lenses of the first and second micro-lens arrays (12, 13) have an equal micro-lens focal length and pitch and the micro-lens arrays (12, 13) are arranged with a mutual distance equal to the micro-lens focal length, and a collecting Fourier lens (4) having a Fourier lens diameter and a Fourier lens focal length defining a Fourier lens front focal plane and a Fourier lens back focal plane, wherein the Fourier lens (14) is arranged for superimposing light from all imaging channels in the Fourier lens front focal plane and wherein the second micro-lens array (13) is arranged in the Fourier lens back focal plane, wherein a third micro-lens array (15) is arranged in the Fourier lens front focal plane for creating a wavelength independent array of illumination spots. Furthermore, a confocal microscope apparatus, which comprises the Koehler integrator device, and a method of using the confocal microscope apparatus are described..

4. 发明申请

WO2019157438A1 IMMERSION LENS ARRAY FOR THE PATTERNING OF PHOTORESIST BY MASKLESS LITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2019157438A1
公开(公告)日：2019-08-15
申请号：PCT/US2019/017486
申请日：2019-02-11
申请人： THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIOR UNIVERSITY
发明人： ROLSTON, Nicholas , PRINTZ, Adam, D. , HAMANN, Stephen, S. , SOLGAARD, Olav , DAUSKARDT, Reinhold, H.
IPC分类号： H01L31/04 , G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/213 , G03F7/26 , H01L31/054
摘要： Self-aligned maskless photolithography using a contiguous immersion lens array is provided. This process is especially suitable for use in fabrication of perovskite solar cells. In these devices, the lens array can 1) lithographically define a mechanical support structure for the perovskite active material and 2) provide light concentration to the perovskite active material in operation.

5. 发明申请

WO2019010495A1 FAST FABRICATION OF POLYMER OUT-OF-PLANE OPTICAL COUPLER BY GRAY-SCALE LITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2019010495A1
公开(公告)日：2019-01-10
申请号：PCT/US2018/041314
申请日：2018-07-09
申请人： ARIZONA BOARD OF REGENTS ON BEHALF OF THE UNIVERSITY OF ARIZONA
发明人： TAKASHIMA, Yuzuru , SUMMITT, Christopher R. , WANG, Sunglin
IPC分类号： G02B6/10 , G03F7/20 , G03F7/213 , G03F7/22
摘要： A lithographic method for making an out-of-plane optical coupler includes forming a photoresist layer of positive photoresist material over a substrate. The positive photoresist layer undergoes a flood exposure to light through a binary mask to pattern a latent image of a mirror blank in the photoresist layer. A laser beam is scanned over the latent image of the mirror blank to apply controlled dosages of light at specified locations to form a latent image of a planar mirror surface that is oriented at a prescribed non-zero angle to a plane in which the substrate extends. The positive photoresist material is developed so that a remaining portion of the developed positive photoresist material forms an out-of-plane optical coupler having a planar mirror surface that is oriented at the prescribed angle.

6. 发明申请

WO2013065451A1 基板処理装置および基板処理方法审中-公开
标题翻译：基板加工单元及加工基板的方法
公开(公告)号：WO2013065451A1
公开(公告)日：2013-05-10
申请号：PCT/JP2012/076047
申请日：2012-10-05
申请人：株式会社ニコン
发明人：奈良　圭 , 堀　正和 , 鈴木　智也
IPC分类号： G03F7/22 , B65H20/10 , B65H23/025 , G03F7/20 , G03F7/213 , G03F7/24 , H01L21/027
CPC分类号： B65H23/0216 , B65H23/0258 , B65H2511/516 , B65H2553/42 , B65H2801/61 , G03F7/24 , G03F7/70791 , H01L21/67721 , H01L21/6776
摘要：　帯状に形成された基板を第一方向（Ｘ）に搬送し、基板の被処理面を処理する基板処理装置において、基板を第一方向に案内する第一案内部材（１１）と、第一方向に交差する第二方向における基板の寸法が、第一案内部材から第一方向の下流側へ向けて徐々に拡大又は縮小するように基板を案内する第二案内部材（１２）と、第一案内部材と第二案内部材との間で、基板の被処理面を処理する処理装置とを備える。
摘要翻译：一种用于在第一方向（X）上传送条形基板并处理基板的待处理表面的基板处理单元设置有用于沿第一方向引导基板的第一引导构件（11），第二引导件用于引导基板的构件（12），使得在与第一方向相交的第二方向上的基板的尺寸从第一引导构件沿第一方向下游逐渐增大或减小;以及处理装置，用于处理待处理的表面的第一引导构件和第二引导构件之间的基板。

7. 发明申请

WO2011096428A1 露光方法、露光装置、パターン形成方法、およびデバイス製造方法审中-公开
标题翻译：曝光方法，曝光装置，图案形成方法和装置制造方法
公开(公告)号：WO2011096428A1
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：PCT/JP2011/052134
申请日：2011-02-02
申请人：株式会社ニコン , 木内徹 , 水谷英夫
发明人：木内　徹 , 水谷　英夫
IPC分类号： G03F7/213 , G03F7/20 , G03F7/22 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70466 , G03F7/70275 , G03F7/70475 , G03F7/70791
摘要：　長尺基板（ＳＨ）にパターンを転写する露光装置は、パターンを移動させるステージ機構（ＭＳ）と、第１部分領域（ＩＲ１）に配置される第１部分パターンの拡大像を第１投影領域（ＥＲ１）に所定倍率で投影し、且つ第１部分領域から所定の中心間隔を置いた第２部分領域（ＩＲ２）に配置される第２部分パターンの拡大像を第２投影領域（ＥＲ２）に所定倍率で投影する投影光学系（ＰＬ）と、第１投影領域及び第２投影領域を経由するように長尺基板を移動させる移動機構（ＳＣ）と、所定倍率及び中心間隔に基づいて、第１投影領域から第２投影領域までの長尺基板の基板長を調整する調整機構（５０）と、を備えている。
摘要翻译：公开了将图案转印到长基板（SH）的曝光装置。曝光装置设置有：移动图案的舞台机构（MS）; 投影光学系统（PL），以预定的放大倍率投影到第一投影区域（ER1），设置在第一部分区域（IR1）中的第一部分图案的放大图像，并且投影到第二部分投影区域（ER2），以与预定放大率的预定中心间隔布置在第二部分区域（IR2）中的第二部分图案的放大图像; 移动机构（SC），其经由所述第一突出区域和所述第二突出区域移动所述长基板; 以及调整机构（50），其基于所述预定的倍率和所述中心间隔来调整所述长基板从所述第一投影区域到所述第二投影区域的长度。

8. 发明申请

WO02019035A1 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATES 审中-公开
标题翻译：柔性印刷板的感光树脂组合物
公开(公告)号：WO02019035A1
公开(公告)日：2002-03-07
申请号：PCT/US2001/024547
申请日：2001-08-02
IPC分类号： G03F7/004 , C08F2/44 , C08F290/06 , G03F7/00 , G03F7/027 , G03F7/035 , G03F7/40 , G03F7/028 , G03C1/73 , G03F7/213 , G03F7/30
CPC分类号： G03F7/035
摘要： A photosensitive resin, process for its use, and tack-free printing plates formed thereby are disclosed wherein the photosensitive resin comprises (I) polyurethane prepolymer, (ii) ethylenically unsaturated monomer, (iii) photoinitiator and (iv) a tack-reducing additive selected from the group consisting of aromatic carboxylic acids, aromatic carboxylic acid esters, polyunsaturated carboxylic acids, polyunsaturated carboxylic acid esters, and mixture thereof.
摘要翻译：公开了一种光敏树脂，其使用方法和由此形成的无粘性印刷板，其中感光树脂包含（I）聚氨酯预聚物，（ii）烯属不饱和单体，（iii）光引发剂和（iv）减粘添加剂选自芳族羧酸，芳族羧酸酯，多不饱和羧酸，多不饱和羧酸酯及其混合物。

9. 发明申请

WO2021140502A1 COMBINING PHYSICAL MODELING AND MACHINE LEARNING 审中-公开
公开(公告)号：WO2021140502A1
公开(公告)日：2021-07-15
申请号：PCT/IL2020/051365
申请日：2020-12-31
申请人： NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD.
发明人： BRINGOLTZ, Barak , YACOBY, Ran , SHLAGMAN, Ofer , STURLESI, Boaz
IPC分类号： G01B11/06 , G01B11/22 , G01B11/24 , G06N20/00 , G03F7/213 , G03F7/20 , G06N3/02
摘要： A system and methods for OCD metrology are provided including receiving reference parameters, receiving multiple sets of measured scatterometric data, and receiving an optical model designed to generate one or more sets of model scatterometric data according to a set of pattern parameters, and training a machine learning model by applying, during the training, target features including the reference parameters, and by applying input features including the sets of measured scatterometric data and the sets of model scatterometric data, such that the trained machine learning model estimates new wafer pattern parameters from subsequently sets of measured scatterometric data.

10. 发明申请

WO2018144824A1 ELECTRICAL CONTACT AUTO-ALIGNMENT STRATEGY FOR HIGHLY PARALLEL ARRAYS IN CANTILEVER FREE SCANNING PROBE LITHOGRAPHY 审中-公开
公开(公告)号：WO2018144824A1
公开(公告)日：2018-08-09
申请号：PCT/US2018/016599
申请日：2018-02-02
申请人： TERA-PRINT, LLC
发明人： IVANKIN, Andrey , MAGOLINE, Jared A.
IPC分类号： B05D1/18 , B05D1/26 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/207 , G03F7/213 , G03F7/22
摘要： Disclosed embodiments provide an electrical contact alignment strategy for leveling an array of probes, pens, tips, etc., in relationship to a substrate, for example, wherein a plurality of independent electrical circuits are formed by configuring regions of the array and substrate regions to be partially conductive and connected to opposite electrodes or vice versa.

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