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1. 发明申请

WO2016185865A1 ノボラック型フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト膜审中-公开
标题翻译： NOVOLAC型含酚羟基含羟基树脂和耐腐蚀膜
公开(公告)号：WO2016185865A1
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：PCT/JP2016/062614
申请日：2016-04-21
申请人： DIC株式会社
发明人：今田　知之 , 佐藤　勇介
IPC分类号： C08G8/20 , C07C39/15
CPC分类号： C08G8/20 , C07C39/16 , G03F7/039
摘要：現像性、耐熱性及び基板追従性に優れるノボラック型フェノール性水酸基含有樹脂及びレジスト膜を提供すること。下記構造式（１）［式中、Ａｒは下記構造式（Ａｒ－１）又は（Ａｒ－２）で表されるフェノール性水酸基含有化合物（Ａ）、下記構造式（２）［式中Ｒ３は炭素原子数４～２０の脂肪族炭化水素基であり、ｊは１～３の整数である。］で表されるフェノール性水酸基含有化合物（Ｂ）及びアルデヒド化合物（Ｃ）を必須の反応成分とする重縮合物であることを特徴とするノボラック型フェノール性水酸基含有樹脂。
摘要翻译：本发明的目的是提供：具有优异的显影性，耐热性和对基材的随动性的酚醛清漆型含酚羟基的树脂; 和抗蚀膜。一种酚醛清漆型含酚羟基的树脂，其特征在于其主要反应成分为由结构式（1）表示的含酚羟基的化合物（A）的缩聚产物[其中Ar表示基团由结构式（Ar-1）或（Ar-2）表示），由结构式（2）表示的含酚羟基的化合物（B）[其中，R 3表示碳原子数4〜20的脂肪族烃基 ; 和j表示1〜3的整数]和醛化合物（C）。

2. 发明申请

WO2016084495A1 ノボラック型フェノール樹脂、その製造方法、感光性組成物、レジスト材料、及び塗膜审中-公开
标题翻译： NOVOLAC型酚醛树脂，其制造方法，感光性组合物，耐腐蚀材料和涂膜
公开(公告)号：WO2016084495A1
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：PCT/JP2015/078595
申请日：2015-10-08
申请人： DIC株式会社
发明人：今田　知之 , 佐藤　勇介
IPC分类号： C08G8/20 , G03F7/023
CPC分类号： C08G8/20 , C07C39/15 , C08L61/12 , C08L2205/025 , G03F7/0236 , G03F7/039
摘要：　耐熱性に優れており、かつｇ線、ｈ線、及びｉ線の露光波長に対する吸光度が低く、高感度な感光性組成物、レジスト材料、その塗膜、及びこれらの用途に好適なノボラック型フェノール樹脂とその製造方法を提供する。具体的には、ジアルキル置換フェノールと水酸基含有芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるフェノール系３核体化合物（Ａ１）と、２，３位、２，５位、３，４位、又は３，５位の位置にアルキル基を有するジアルキル置換フェノールと水酸基を有さない芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるフェノール系３核体化合物（Ａ２）とからなり、かつ前記フェノール系３核体化合物（Ａ１）と前記フェノール系３核体化合物（Ａ２）のモル比が２０：８０～９０：１０であるフェノール系３核体化合物（Ａ）と、ホルムアルデヒドとを、酸触媒下で反応させて得られたことを特徴とする、ノボラック型フェノール樹脂を提供するものである。
摘要翻译：提供：耐热性优异，g射线吸收率低，h射线和i射线曝光波长以及高灵敏度的感光性组合物。抗蚀材料; 其涂膜; 和适用于此类应用的酚醛清漆型酚醛树脂; 及其制造方法。具体地，提供一种酚醛清漆型酚醛树脂，其特征在于，在酸催化剂存在下，通过使酚类三核化合物（A）和甲醛反应获得酚醛清漆型酚醛树脂。酚类三核化合物（A）包括：通过二烷基取代的苯酚和含羟基的芳族醛的缩合反应得到的酚类三核化合物（A1）和通过在2位和3位，3位，3位，4位或3位和5位具有烷基的二烷基取代的苯酚的缩合反应获得的酚类三核化合物（A2）和不具有羟基。酚类三核化合物（A1）和酚类三核化合物（A2）的摩尔比为20:80〜90:10。

3. 发明申请

WO2015128593A1 PROCEDE DE PREPARATION A HAUTS RENDEMENTS DE P-(R)CALIX[9-20]ARENES 审中-公开
标题翻译： P-（R）CALIX [9-20]的高效制备方法
公开(公告)号：WO2015128593A1
公开(公告)日：2015-09-03
申请号：PCT/FR2015/050479
申请日：2015-02-27
申请人： UNIVERSITE PARIS-SUD XI , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE
发明人： HUC, Vincent, Germain , MARTINI, Cyril
IPC分类号： C07C41/30
CPC分类号： C07C41/30 , C07C41/34 , C07C41/40 , C07C67/14 , C07C2603/92 , C08G8/20 , C08G8/28 , C08G83/005 , C08G2105/00 , C07C43/23 , C07C69/63
摘要： La présente invention concerne un procédé de préparation à hauts rendements de p- (R)calix[9-20]arènes.
摘要翻译：本发明涉及一种高产率制备对 - （R）杯[9-20]芳烃的方法。

4. 发明申请

WO2015008560A1 フェノール性水酸基含有化合物、感光性組成物、レジスト用組成物、レジスト塗膜、硬化性組成物、レジスト下層膜用組成物、及びレジスト下層膜审中-公开
标题翻译：含有苯酚羟基的化合物，感光性组合物，电阻用组合物，耐光涂层，可固化组合物，耐下层膜的组合物和耐下漆膜
公开(公告)号：WO2015008560A1
公开(公告)日：2015-01-22
申请号：PCT/JP2014/065573
申请日：2014-06-12
申请人： DIC株式会社
发明人：今田　知之 , 佐藤　勇介 , 木本　誠二
IPC分类号： C07C39/14 , G03F7/023 , G03F7/11
CPC分类号： C08G8/20 , C07C39/17 , C07C2603/92 , C08G8/04 , C09D161/12 , G03F7/004 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , G03F7/094 , G03F7/11
摘要：耐熱性に優れるフェノール性水酸基含有化合物、耐熱分解性、光感度及び解像度に優れるレジスト用組成物、耐熱分解性及びドライエッチング耐性に優れるレジスト下層膜用組成物を提供する。下記構造式（１）（式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基又はアリール基であり、ｎは２～１０の整数である。Ｒ２はアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子の何れかであり、ｍは０～４の整数である。ｍが２以上の場合、複数のＲ２はそれぞれ同一でも良いし異なっていても良く、ナフチレン骨格の２つの芳香環のうちどちらに結合していても良い。）で表される分子構造を有することを特徴とするフェノール性水酸基含有化合物。
摘要翻译：提供：具有优异的耐热性的含有酚羟基的化合物; 抗蚀剂组合物，具有优异的耐热分解性，光学灵敏度和分辨率; 以及抗蚀剂下层膜的组合物，其具有优异的耐热分解性和耐干蚀刻性。一种含有酚羟基的化合物，所述化合物的特征在于具有由结构式（1）表示的分子结构（其中R 1表示氢原子，烷基或芳基; n表示2至10的整数; R 2 表示烷基，烷氧基，芳基，芳烷基和卤素原子中的任一个，m表示0〜4的整数，m为2以上时，多个R 2可以相同或相同，彼此不同，并且多个R 2中的每一个可以与萘乙烯主链中的两个芳香环中的任一个结合）。

5. 发明申请

WO2014160105A1 IMPROVED EMULSION AND SUSPENSION POLYMERIZATION PROCESSES, AND IMPROVED ELECTROCHEMICAL PERFORMANCE FOR CARBON DERIVED FROM SAME 审中-公开
标题翻译：改进的乳液和悬浮聚合方法，以及改进的从其衍生的碳的电化学性能
公开(公告)号：WO2014160105A1
公开(公告)日：2014-10-02
申请号：PCT/US2014/025826
申请日：2014-03-13
申请人： LUDVIK, Joseph Frank , DONG, Xing , QURESHI, Shahid P. , KNAZEK, Gerald , ENERG2 TECHNOLOGIES, INC.
发明人： LUDVIK, Joseph Frank , DONG, Xing , QURESHI, Shahid P. , KNAZEK, Gerald , KRON, Benjamin E. , GERAMITA, Katharine , COSTANTINO, Henry R. , LUDVIK, Joseph Frank , DONG, Xing , QURESHI, Shahid P. , KNAZEK, Gerald
IPC分类号： C08G8/10 , C08G8/20 , C08J3/12 , C08J3/24
CPC分类号： C01B31/10 , C01B32/05 , C01B32/30 , C01B32/336 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/16 , C01P2006/40 , C01P2006/80 , C08G8/10 , C08G8/20 , C08G8/22 , C08G61/10 , C08G2220/00
摘要： The present application is directed to methods for preparation of polymer particles in gel form and carbon materials made therefrom. The carbon materials comprise enhanced electrochemical properties and find utility in any number of electrical devices, for example, as electrode material in ultracapacitors or batteries. The methods herein can also be employed generally to improve emulsion and/or suspension polymerization processes by improved control of diffusion of acidic and basic species between the polymer and secondary phases.
摘要翻译：本申请涉及制备凝胶形式的聚合物颗粒和由其制备的碳材料的方法。碳材料包括增强的电化学性质，并且可用于任何数量的电气装置，例如作为超级电容器或电池中的电极材料。本文的方法也可以通常用于通过改进控制聚合物和第二相之间的酸性和碱性物质的扩散来改进乳液和/或悬浮聚合方法。

6. 发明申请

WO2014046062A1 感光性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：WO2014046062A1
公开(公告)日：2014-03-27
申请号：PCT/JP2013/074930
申请日：2013-09-13
申请人：旭化成イーマテリアルズ株式会社
发明人：本多　正樹 , 金田　隆行 , 吉田　雅彦 , 湯ノ口　智恵 , 小倉　知士
IPC分类号： G03F7/023 , C08G8/20 , C08G69/26
CPC分类号： C08G8/20 , C08G8/12 , C08G8/22 , C08G8/24 , C08G69/26 , C08G73/22 , C09D179/04 , C09D179/08 , G03F7/0233 , G03F7/40 , C08L61/34 , C08L61/12 , C08L61/06
摘要：　現像残膜率が高く高感度であり、現像後の表面が均一な感光性樹脂組成物を提供する。　（ａ）下記一般式（１）：（式中、Ｒ 1 及びＲ 2 は、それぞれ独立に、炭素数２～６０の２価から８価の有機基を示し、Ｒ 3 、Ｒ 4 、Ｒ 5 及びＲ 6 は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～２０の１価の有機基を示し、ｄ及びｅは、それぞれ独立に、０～２の整数であって同時に０になることはなく、ｆ及びｇは、それぞれ独立に、０～４の整数であり、そしてｎは正の整数である。）で表される構造単位を主成分とするポリマーと、　（ｂ）キノンジアジド化合物と、　（ｃ）特定構造のフェノール樹脂と、を含有する、ポジ型感光性樹脂組成物。
摘要翻译：提供一种感光性树脂组合物，其在显影后具有高保持率和高灵敏度，而在显影后具有均匀的表面。一种正型感光性树脂组合物，其含有：（a）含有以通式（1）表示的结构单元作为主要成分的聚合物; （b）醌二叠氮化合物; 和（c）具有特定结构的酚醛树脂。（式（1）中，R 1和R 2各自独立地表示碳原子数为2〜60的二价至八价的有机基团，R 3，R 4，R 5和R 6各自独立地表示氢原子或具有1-20个碳原子; d和e各自独立地表示0-2的整数，条件是d和e同时不为0; f和g各自独立地表示0-4的整数; n表示正整数。）

7. 发明申请

WO2014038680A1 レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于形成电阻膜和图案形成方法的组合物
公开(公告)号：WO2014038680A1
公开(公告)日：2014-03-13
申请号：PCT/JP2013/074164
申请日：2013-09-06
申请人： JSR株式会社
发明人：豊川　郁宏 , 中藤　慎也 , 若松　剛史
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/09 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/11 , C07C217/18 , C07C279/08 , C07C2603/92 , C08G8/04 , C08G8/20 , C08L61/06 , G03F7/094 , G03F7/26 , G03F7/40 , H01L21/02057 , H01L21/0273 , H01L21/0274 , H01L21/30604 , H01L21/3065 , H01L21/3081 , H01L21/3086 , H01L21/31058 , C08L61/12
摘要：　本発明は、カリックスアレーンが有するフェノール性水酸基の水素原子の少なくとも一部が炭素数１～３０の１価の有機基で置換されてなるカリックスアレーン系化合物、及び有機溶媒を含有するレジスト下層膜形成用組成物である。上記１価の有機基は架橋性基を含むことが好ましい。上記カリックスアレーン系化合物としては、フェノール性水酸基の水素原子の一部が置換されてなることが好ましい。上記カリックスアレーン系化合物における無置換フェノール性水酸基の数に対する置換フェノール性水酸基の数の比としては、３０／７０以上９９／１以下が好ましい。
摘要翻译：本发明是一种形成抗蚀剂下层膜的组合物，其含有杯芳烃化合物的有机溶剂和杯芳烃化合物，其中杯芳烃的酚羟基中的至少一些氢原子被具有1-30个碳原子的一价有机基团取代。一价有机基团优选含有可交联基团。杯芳烃化合物优选酚羟基中的一些氢原子被取代。取代酚羟基数与杯芳烃化合物中未取代的酚羟基数之比优选为30/70至99/1（含）。

8. 发明申请

WO2014001064A1 CLAY-COMPATIBLE ADDITIVE FOR CONSTRUCTION CHEMICALS 审中-公开
标题翻译：用于建筑化学品的粘土添加剂
公开(公告)号：WO2014001064A1
公开(公告)日：2014-01-03
申请号：PCT/EP2013/061816
申请日：2013-06-07
申请人： CONSTRUCTION RESEARCH & TECHNOLOGY GMBH
发明人： DENGLER, Joachim , WIMMER, Barbara
IPC分类号： C08G8/20 , C08G8/28 , C08L61/04 , C08L61/14 , C08L61/34 , C04B28/02 , C08K7/00 , C09K8/487 , C07F7/04 , C08G77/60 , C08G77/50 , C08L61/00
CPC分类号： C04B16/00 , C04B24/22 , C04B24/243 , C04B28/02 , C04B28/14 , C04B28/16 , C04B40/0039 , C07F9/02 , C07F9/091 , C08G8/20 , C08G8/28 , C08G63/06 , C08K3/28 , C08K3/34 , C08K5/06 , C08K5/09 , C08K5/17 , C08K5/42 , C08K5/52 , C08K5/521 , C08K2003/287 , C08L61/00 , C08L61/04 , C08L61/14 , C08L61/34 , C08L67/04 , Y02W30/92 , Y02W30/94 , C04B22/149 , C04B14/10 , C04B14/108 , C04B18/08 , C04B18/141 , C04B22/0086 , C04B22/085 , C04B22/16 , C04B24/023 , C04B24/06 , C04B24/10 , C04B24/122 , C04B24/18 , C04B24/223 , C04B24/226 , C04B24/2647 , C04B24/38 , C04B2103/0088 , C04B2103/50
摘要： The invention relates to a monomer-based condensation product, wherein the monomers comprising at least one monomer having an aldehyde moiety and at least one monomer having a ketone moiety, which is carrying at least one non-aromatic moiety and the condensation product comprises at least one moiety from the series of phosphono, sulphino, sulpho, sulphamido, sulphoxy, sulphoalkyloxy, sulphinoalkyloxy and phosphonooxy groups and/or salts thereof,wherein the monomers further comprising gallic acid. Additionally disclosed are the preparation and the use of these condensation products in chemical products for the construction industry.
摘要翻译：本发明涉及基于单体的缩合产物，其中包含至少一种具有醛部分的单体和至少一种具有酮部分的单体的单体，其携带至少一个非芳族部分，并且所述缩合产物至少包含一系列膦酰基，亚磺酰基，磺基，磺酰氨基，磺氧基，磺基烷氧基，亚磺酰基氧基和膦酰氧基和/或其盐的一个部分，其中所述单体还包含没食子酸。另外公开了这些缩合产物在建筑行业的化学产品中的制备和使用。

9. 发明申请

WO2012176767A1 ポリヒドロキシベンゼンノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：含有聚羟基苯乙烯NOVOLAC树脂的耐下层膜成膜组合物
公开(公告)号：WO2012176767A1
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：PCT/JP2012/065625
申请日：2012-06-19
申请人：日産化学工業株式会社 , 柄澤涼 , 新城徹也 , 橋本圭祐 , 染谷安信
发明人：柄澤　涼 , 新城　徹也 , 橋本　圭祐 , 染谷　安信
IPC分类号： G03F7/11 , C08G8/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/091 , C08G8/20 , C08G8/22 , G03F7/094
摘要：【課題】半導体装置製造のリソグラフィープロセスに用いるための耐熱性及びパターンの曲がり耐性を備えたレジスト下層膜形成組成物を提供する。【解決手段】式（１）：（式（１）中、Ａはポリヒドロキシベンゼンに由来するヒドロキシ基置換フェニレン基であり、Ｂは２乃至６個のベンゼン環が縮合した１価の縮合芳香族炭化水素環基である。）の単位構造を含むポリマーを含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。Ａがカテコール、レソルシノール、ヒドロキノン、ピロガロール、ヒドロキシキノール、又はフロログルシノールに由来するヒドロキシ基置換フェニレン基である。Ｂの縮合芳香族炭化水素環基がナフタレン環基、アントラセン環基、又はピレン環基である。Ｂの縮合芳香族炭化水素環基がハロゲン基、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、カルボキシル基、カルボン酸エステル基、ニトリル基、又はこれらの組み合わせを置換基として有する。
摘要翻译： [问题]提供一种抗蚀剂下层膜成膜组合物，其具有在制造半导体器件的光刻工艺中使用所需的耐热性和图案抗弯曲性。 [解决方案]用于光刻的抗蚀剂下层膜成膜组合物，其含有具有由式（1）表示的单元结构的聚合物。（式（1）中，A表示衍生自多羟基苯的羟基取代亚苯基，B表示2〜6个苯环稠合的一价稠合芳香族烃环基。）就此而言，A为衍生自邻苯二酚，间苯二酚，氢醌，连苯三酚，羟基喹啉或间苯三酚的羟基取代亚苯基; 由B表示的稠合芳香族烃环基是萘环基，蒽环基或芘环基; 由B表示的稠合芳香族烃环基包括卤素基，羟基，硝基，氨基，羧基，羧酸酯基，腈基或作为取代基的组合这些组中的两个或多个。

10. 发明申请

WO2008078570A1 ポリアセタール樹脂組成物审中-公开
标题翻译：聚酯树脂组合物
公开(公告)号：WO2008078570A1
公开(公告)日：2008-07-03
申请号：PCT/JP2007/074068
申请日：2007-12-07
申请人：ポリプラスチックス株式会社 , 霜田暁英 , 池谷啓
发明人：霜田暁英 , 池谷啓
IPC分类号： C08L59/00 , C08G2/10 , C08K5/13 , C08K5/20 , C08K5/24
CPC分类号： C08G8/20 , C08K5/1345 , C08K5/25 , C08L59/00 , C08L2205/02 , C08L2666/16
摘要：本発明は、ポリアセタール樹脂が本来有する機械的特性、加工性、表面特性等の優れた特性を維持し更にはその向上を図りながら、ホルムアルデヒド等のガスの発生を極限まで低減したポリアセタール樹脂材料を提供する。詳しくは、実質的に直鎖の分子構造を有するポリアセタール樹脂（A1）100重量部に対し、分岐又は架橋構造を有するポリアセタール樹脂（A2）0.01～20.0重量部、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（B）0.01～5.0重量部およびヒドラジド化合物（C）0.01～5.0重量部を配合してなるポリアセタール樹脂組成物である。
摘要翻译：公开了一种聚缩醛树脂材料，其可以保持包括机械性能，可加工性和表面性能在内的聚缩醛树脂固有的优异性能，这可以改善这些性能，并且最大程度地减少由材料产生的气体如醛的量。具体公开了一种聚缩醛树脂组合物，其包含100重量份具有基本上线性分子结构的聚缩醛树脂（A1），0.01至20.0重量份具有支链或交联结构的聚缩醛树脂（A2），0.01至5.0重量份的受阻酚型抗氧化剂（B）和0.01〜5.0重量份的酰肼化合物（C）。

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