基本信息:
- 专利标题： ノボラック型フェノール樹脂、その製造方法、感光性組成物、レジスト材料、及び塗膜
- 专利标题（英）：Novolac type phenol resin, manufacturing method therefor, photosensitive composition, resist material and coating film
- 专利标题（中）：NOVOLAC型酚醛树脂，其制造方法，感光性组合物，耐腐蚀材料和涂膜
- 申请号：PCT/JP2015/078595 申请日：2015-10-08
- 公开(公告)号：WO2016084495A1 公开(公告)日：2016-06-02
- 发明人： 今田 知之 , 佐藤 勇介
- 申请人： DIC株式会社
- 申请人地址： 〒1748520 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 Tokyo JP
- 专利权人： DIC株式会社
- 当前专利权人： ＤＩＣ株式会社
- 当前专利权人地址： 〒1748520 東京都板橋区坂下三丁目３５番５８号 Tokyo JP
- 代理机构： 河野 通洋
- 优先权： JP2014-237712 20141125
- 主分类号： C08G8/20
- IPC分类号： C08G8/20 ; G03F7/023
摘要：
耐熱性に優れており、かつｇ線、ｈ線、及びｉ線の露光波長に対する吸光度が低く、高感度な感光性組成物、レジスト材料、その塗膜、及びこれらの用途に好適なノボラック型フェノール樹脂とその製造方法を提供する。具体的には、ジアルキル置換フェノールと水酸基含有芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるフェノール系３核体化合物（Ａ１）と、２，３位、２，５位、３，４位、又は３，５位の位置にアルキル基を有するジアルキル置換フェノールと水酸基を有さない芳香族アルデヒドとの縮合反応により得られるフェノール系３核体化合物（Ａ２）とからなり、かつ前記フェノール系３核体化合物（Ａ１）と前記フェノール系３核体化合物（Ａ２）のモル比が２０：８０～９０：１０であるフェノール系３核体化合物（Ａ）と、ホルムアルデヒドとを、酸触媒下で反応させて得られたことを特徴とする、ノボラック型フェノール樹脂を提供するものである。
摘要（中）：
提供：耐热性优异，g射线吸收率低，h射线和i射线曝光波长以及高灵敏度的感光性组合物。 抗蚀材料; 其涂膜; 和适用于此类应用的酚醛清漆型酚醛树脂; 及其制造方法。 具体地，提供一种酚醛清漆型酚醛树脂，其特征在于，在酸催化剂存在下，通过使酚类三核化合物（A）和甲醛反应获得酚醛清漆型酚醛树脂。 酚类三核化合物（A）包括：通过二烷基取代的苯酚和含羟基的芳族醛的缩合反应得到的酚类三核化合物（A1） 和通过在2位和3位，3位，3位，4位或3位和5位具有烷基的二烷基取代的苯酚的缩合反应获得的酚类三核化合物（A2）和不具有 羟基。 酚类三核化合物（A1）和酚类三核化合物（A2）的摩尔比为20:80〜90:10。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08G | 用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物 |
| ------C08G8/00 | 醛或酮只与酚的缩聚物 |
| --------C08G8/04 | .醛的 |
| ----------C08G8/08 | ..甲醛的，例如在反应中就地生成的甲醛 |
| ------------C08G8/20 | ...与多元酚 |