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    • 2. 发明申请
    • スパッタリングターゲットおよびその製造方法
    • 溅射目标及其制造方法
    • WO2014128976A1
    • 2014-08-28
    • PCT/JP2013/054826
    • 2013-02-25
    • 三井金属鉱業株式会社
    • 眞▲崎▼ 貴則河野 俊昭
    • C23C14/34C04B37/00
    • C23C14/3407C04B35/01C04B35/111C04B37/005C04B37/026C04B2235/3284C04B2235/3286C04B2235/3293C04B2237/06C04B2237/12C04B2237/125C04B2237/34C04B2237/40C04B2237/80
    •  本発明は、複数のセラミックス製分割スパッタリングターゲット材と該複数のセラミックス製分割スパッタリングターゲット材を一体に接合するセラミックス製接合部とからなるセラミックス製スパッタリングターゲット材が基材に接合されてなることを特徴とするスパッタリングターゲットである。本発明に係るスパッタリングターゲットによれば、複数のセラミックス製分割ターゲット材を備えていても、隣り合うセラミックス製分割ターゲット材の間に間隙が存在しないので、分割ターゲット材の縁部間で異常放電等の問題が生じるおそれがなく、また、セラミックス製分割ターゲット材の組成とセラミックス製接合部の組成とを実質的に同じにすることにより、スパッタすることにより得られる薄膜には、セラミックス製分割ターゲット材に由来する組成と大きく異なる組成を有する部位を生じることがない。
    • 本发明是一种溅射靶,其特征在于通过将陶瓷溅射靶材料结合到基板上获得,所述陶瓷溅射靶材料由多个陶瓷溅射靶材料段和用于将多个陶瓷溅射靶材料段接合的陶瓷接合部分 一个单位 利用该溅射靶,即使在设置多个陶瓷靶材料片段的情况下,由于相邻的陶瓷靶材料片段之间也不存在间隙,因此不存在发生靶材材料边缘的异常放电等问题的危险。 此外,通过使陶瓷靶材料部分的组成和陶瓷粘合部件的组成基本相同,从得自陶瓷靶材料部分的组成不同于具有与陶瓷靶材料部分的组成不同的组成的区域不会发生在从 溅射。