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1. 发明申请

WO2010142926A1 PROCEDE DE DEPOT DE COUCHE MINCE ET PRODUIT OBTENU 审中-公开
标题翻译：薄膜沉积方法和结果产品
公开(公告)号：WO2010142926A1
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：PCT/FR2010/051172
申请日：2010-06-11
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , REYMOND, Vincent , KHARCHENKO, Andriy , NADAUD, Nicolas
发明人： REYMOND, Vincent , KHARCHENKO, Andriy , NADAUD, Nicolas
IPC分类号： C03C17/36 , C03C23/00
CPC分类号： C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3644 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C23/0025 , C03C23/007
摘要： L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un substrat revêtu sur au moins une face d'un empilement de couches minces bas-émissif comprenant les étapes suivantes: -on dépose sur ladite au moins une face dudit substrat un empilement de couches minces comprenant au moins une couche mince d'argent entre au moins deux couches minces diélectriques, -on traite thermiquement la au moins une face revêtue à l'aide d'au moins un rayonnement laser émettant dans au moins une longueur d'onde comprise entre 500 et 2000 nm de sorte que l'émissivité et/ou la résistance carrée de l'empilement est diminuée d'au moins 5%, ledit procédé étant tel que ledit empilement avant traitement comprend au moins une couche mince absorbant au moins partiellement le rayonnement laser de sorte que l'absorption dudit empilementà au moins une longueur d'onde du rayonnement laser est telle que l'absorption d'un substrat de verre clair de 4mm d'épaisseurrevêtu dudit empilement à ladite au moins une longueur d'onde du rayonnement laser est supérieure ou égale à 10%.
摘要翻译：本发明涉及一种用于获得在其至少一个表面上涂覆有低发射率的薄膜堆叠的衬底的方法，所述方法包括以下步骤：在衬底的至少一个表面上沉积一叠薄膜包括在两个薄介电膜之间的至少一个薄银膜; 以及利用在至少一个波长在500和2000nm之间的至少一个激光辐射对所述至少一个涂覆面进行热处理，使得所述叠层的发射率和/或平方电阻降低至少5％。根据本发明，在处理之前，堆叠包括至少一个至少部分地吸收激光辐射的薄膜，因此，在至少一个激光辐射波长下的堆叠的吸收使得吸收4mm- 以至少一个激光辐射波长涂覆有该叠层的厚的透明玻璃基板大于或等于10％。

2. 发明申请

WO2010139908A1 PROCEDE DE DEPOT DE COUCHE MINCE ET PRODUIT OBTENU 审中-公开
标题翻译：沉积薄膜的方法和结晶材料
公开(公告)号：WO2010139908A1
公开(公告)日：2010-12-09
申请号：PCT/FR2010/051097
申请日：2010-06-04
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , PETER, Emmanuelle , KHARCHENKO, Andriy , NADAUD, Nicolas
发明人： PETER, Emmanuelle , KHARCHENKO, Andriy , NADAUD, Nicolas
IPC分类号： C03C17/23 , C03C17/245 , B23K26/00 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , C23C14/58 , C03C17/34
CPC分类号： C03C17/23 , C03C17/245 , C03C17/3441 , C03C17/3678 , C03C2217/94 , C03C2218/32 , C03C2218/355 , C23C14/086 , C23C14/5813 , H01L21/26 , H01L31/022466 , Y10T428/24364
摘要： L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un substrat revêtu sur une première face d'au moins une couche mince transparente et électro-conductrice à base d'au moins un oxyde, comprenant les étapes suivantes : on dépose ladite au moins une couche mince sur ledit substrat; on soumet ladite au moins une couche mince à une étape de traitement thermique dans laquelle on irradie ladite au moins une couche à l'aide d'un rayonnement possédant une longueur d'onde comprise entre 500 et 2000 nm et focalisé sur une zone de ladite au moins une couche dont une dimension au moins n'excède pas 10 cm, ledit rayonnement étant issu d'au moins un dispositif de rayonnement placé en regard de ladite au moins une couche, un déplacement relatif étant créé entre ledit dispositif de rayonnement et ledit substrat de manière à traiter la surface souhaitée, ledit traitement thermique étant tel que la résistivité de ladite au moins une couche est diminuée lors du traitement.
摘要翻译：本发明涉及用至少一种含有至少一种氧化物的透明和导电薄膜在第一表面上涂覆基材的方法，包括以下步骤：将所述至少一种薄膜沉积在所述基材上; 对所述至少一个薄膜进行热处理步骤，其中用波长在500和2000nm之间的辐射照射所述至少一个薄膜并聚焦在所述至少一个薄膜的面积上，至少一个维度其不超过10cm，所述辐射由位于所述至少一个膜相对的至少一个辐射装置发射，并且在所述辐射装置和所述基板之间产生相对运动，以便处理所需表面，所述热处理为使得在处理期间所述至少一个膜的电阻率降低。

3. 发明申请

WO2007015023A2 PROCEDE DE DEPOT D'UNE COUCHE ANTI-RAYURE 审中-公开
标题翻译：用于沉积防滑涂层的方法
公开(公告)号：WO2007015023A2
公开(公告)日：2007-02-08
申请号：PCT/FR2006/050750
申请日：2006-07-26
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , NADAUD, Nicolas , KHARCHENKO, Andriy
发明人： NADAUD, Nicolas , KHARCHENKO, Andriy
CPC分类号： C03C17/36 , C03C17/225 , C03C17/3626 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C2217/281 , C03C2217/283 , C03C2217/78 , C03C2218/154 , C03C2218/156 , C23C14/0647 , C23C14/067 , C23C14/46
摘要： Procédé de dépôt sous vide d'au moins une couche mince à base de bore sur un substrat, caractérisé en ce que : -on choisit au moins une espèce de pulvérisation chimiquement inactive ou active à l'égard du bore, - on génère, à l'aide d'au moins une source ionique linéaire positionnée au sein d'une installation ayant une taille industrielle, un faisceau collimaté d'ions comprenant majoritairement ladite espèce de pulvérisation, - on dirige ledit faisceau vers au moins une cible à base de bore, - on positionne au moins une portion de surface dudit substrat en regard de ladite cible de telle sorte que ledit matériau pulvérisé par le bombardement ionique de la cible ou un matériau résultant de la réaction dudit matériau pulvérisé avec au moins une des espèces de pulvérisation se dépose sur ladite portion de surface.
摘要翻译：本发明涉及一种用于真空沉积由硼制成的至少一层薄层的方法，其特征在于，选择对硼有化学惰性或活性的至少一种雾化，准直离子束为通过位于工业规模单元中的至少一个线性离子源产生的主要包括雾化物质的束，所述光束被引导至由硼制成的至少一个靶，所述基底的至少一个表面部分面向靶使得通过靶的离子轰击雾化的材料或由所述雾化材料与至少一种雾化物质的反应产生的材料沉积在所述表面部分上。

4. 发明申请

WO2009136110A2 PROCEDE DE DÉPÔT DE COUCHE MINCE 审中-公开
标题翻译：薄层沉积方法
公开(公告)号：WO2009136110A2
公开(公告)日：2009-11-12
申请号：PCT/FR2009/050658
申请日：2009-04-10
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , DURANDEAU, Anne , KHARCHENKO, Andriy , NADAUD, Nicolas
发明人： DURANDEAU, Anne , KHARCHENKO, Andriy , NADAUD, Nicolas
IPC分类号： C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/245 , C03C17/40
CPC分类号： C03C17/2456 , C03C17/3441 , C03C17/3482 , C03C17/36 , C03C17/3607 , C03C17/3649 , C03C17/3689 , C03C2217/71 , C03C2218/32 , C03C2218/322 , C03C2218/328
摘要： L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un matériau comprenant un substrat et au moins une couche mince à base d'oxyde de titane au moins partiellement cristallisé et déposée sur une première face dudit substrat, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : on dépose ladite au moins une couche mince à base d'oxyde de titane; on soumet ladite au moins une couche mince à base d'oxyde de titane à un traitement de cristallisation en apportant une énergie susceptible de porter chaque point de ladite au moins une couche mince à base d'oxyde de titane à une température d'au moins 300°C tout en maintenant une température inférieure ou égale à 150°C en tout point de la face dudit substrat opposée à ladite première face; ledit traitement de cristallisation étant précédé d'une étape de dépôt, au-dessus et/ou en dessous de ladite couche mince à base d'oxyde de titane, d'une couche pourvoyeuse d'énergie, susceptible d'absorber l'énergie apportée lors dudit traitement de cristallisation plus efficacement que ladite au moins une couche d'oxyde de titane et/ou de créer une énergie supplémentaire lors dudit traitement de cristallisation, et de transmettre au moins une partie de ladite énergie à ladite au moins une couche mince à base d'oxyde de titane lors dudit traitement de cristallisation.
摘要翻译：本发明涉及一种用于获得材料的方法，所述材料包括基材和至少一个含有至少部分结晶的氧化钛并沉积在所述基材的第一表面上的薄层，其中所述方法包括以下步骤：至少一层含有氧化钛的薄层; 通过提供能够将含有氧化钛的所述至少一个薄层的每个点加热到至少300℃的温度同时保持低于或等于的温度来对含有氧化钛的所述至少一个薄层进行结晶处理在所述衬底的与所述第一表面相对的表面的任何点处的至少150℃，其中所述结晶过程之前是在所述含有氧化钛的所述薄层上沉积在所述薄层上和/或下面的步骤，所述薄层能够吸收在所述结晶过程期间提供的能量比所述至少一个含有氧化钛的薄层更有效，和/或能够在所述结晶过程期间产生附加功率，并将所述能量的至少一部分传输到所述至少一个薄层在所述结晶过程中含有氧化钛。

5. 发明申请

WO2008096089A3 PROCEDE DE DEPOT DE COUCHE MINCE ET PRODUIT OBTENU 审中-公开
公开(公告)号：WO2008096089A3
公开(公告)日：2008-08-14
申请号：PCT/FR2008/050009
申请日：2008-01-04
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , NADAUD, Nicolas , KHARCHENKO, Andriy , BILLERT, Ulrich , GY, René
发明人： NADAUD, Nicolas , KHARCHENKO, Andriy , BILLERT, Ulrich , GY, René
IPC分类号： C03C17/09 , C03C17/245 , C03C17/36 , C03C23/00
摘要： L'invention a pour objet un procédé de traitement d'au moins une couche mince continue déposée sur une première face d'un substrat,caractérisé en ce que l'on porte ladite au moins une couche mince à une température d'au moins 300 °C en maintenant une température inférieure ou égale à 150 °C au niveau de la face dudit substrat opposée à ladite première face, de manière à augmenter le taux de cristallisation de ladite couche mince en la conservant continue et sans étape de fusion de ladite couche mince. L'invention a également pour objet le matériau susceptible d'être obtenu par ce procédé.

6. 发明申请

WO2011039488A1 PROCEDE DE DEPOT DE COUCHE MINCE 审中-公开
标题翻译：薄膜沉积法
公开(公告)号：WO2011039488A1
公开(公告)日：2011-04-07
申请号：PCT/FR2010/052073
申请日：2010-09-30
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , KHARCHENKO, Andriy , DURANDEAU, Anne , NADAUD, Nicolas
发明人： KHARCHENKO, Andriy , DURANDEAU, Anne , NADAUD, Nicolas
IPC分类号： C03C17/00 , C03C17/245 , C23C14/58
CPC分类号： C03C17/002 , C03C17/245 , C03C2217/71 , C03C2218/154 , C03C2218/322 , C23C14/0635 , C23C14/0641 , C23C14/14 , C23C14/185 , C23C14/541 , C23C14/5813 , C23C14/5853 , Y10S977/755 , Y10S977/891 , Y10T428/24917
摘要： L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un substrat revêtu sur au moins une partie de sa surface d' au moins une couche d'oxyde d'un métal M dont l'épaisseur physique est inférieure ou égale à 30 nm, ladite couche d'oxyde n'étant pas comprise dans un empilement de couches comprenant au moins une couche d'argent, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : on dépose par pulvérisation cathodique au moins une couche intermédiaire d'un matériau choisi parmi le métal M, un nitrure du métal M, un carbure du métal M ou un oxyde sous-stœchiométrique en oxygène du métal M, ladite couche intermédiaire n'étant pas déposée au-dessus ou en-dessous d'une couche à base d'oxyde de titane, l'épaisseur physique de ladite couche intermédiaire étant inférieure ou égale à 30 nm, on oxyde au moins une partie de la surface de ladite couche intermédiaire à l'aide d'un traitement thermique, pendant lequel ladite couche intermédiaire est en contact direct avec une atmosphère oxydante, notamment avec de l'air, la température dudit substrat pendant ledit traitement thermique ne dépassant pas 1500C.
摘要翻译：本发明涉及一种用于通过至少一层物理厚度小于或等于30nm的金属M的氧化物获得涂覆在其表面的至少一部分上的基材的方法，所述氧化物层不包括在内在包括至少一层银层的一叠层中。所述方法包括以下步骤：从金属M，金属M的氮化物，金属M的碳化物或金属M的氧中亚化学计量的氧化物中选择的材料的至少一个中间层通过阴极溅射，所述中间层不被沉积在基于氧化钛的层之上或之下，所述中间层的物理厚度小于或等于30nm; 并且所述中间层的表面的至少一部分通过热处理而被氧化，在此期间所述中间层与氧化气氛，特别是空气直接接触，所述衬底的温度在热量期间不超过150℃ 治疗。

7. 发明申请

WO2005009914A2 PROCEDE DE PREPARATION D’UN REVETEMENT PHOTOCATALYTIQUE INTEGRE DANS LE TRAITEMENT THERMIQUE D’UN VITRAGE 审中-公开
标题翻译：制备融合在玻璃热处理中的光催化涂层的方法
公开(公告)号：WO2005009914A2
公开(公告)日：2005-02-03
申请号：PCT/FR2004/001927
申请日：2004-07-21
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , LABROUSSE, Laurent , NADAUD, Nicolas
发明人： LABROUSSE, Laurent , NADAUD, Nicolas
IPC分类号： C03C
CPC分类号： C03C17/3441 , C03C17/2456 , C03C17/3417 , C03C17/3435 , C03C2217/71 , C03C2218/365
摘要： L’invention a trait à un procédé de préparation d’un matériau à propriétés photocatalytiques comprenant de l’oxyde de titane au moins partiellement cristallisé, notamment sous forme anatase, mettant en œuvre des températures excédant 600° C. L’invention concerne également une feuille de verre dont une face au moins porte un revêtement d’un matériau comprenant de l’oxyde de titane, qui est apte à être ou a été soumise à un traitement thermique à plus de 600° C tel que de trempe et/ou bombage, tout en préservant l’activité photocatalytique et la qualité optique requises pour un vitrage anti-salissure. L’invention a également pour objet un vitrage monolithique, feuilleté, simple ou multiple comprenant une telle feuille de verre, et l’application de ce vitrage pour le bâtiment, un véhicule de transport, comme vitrage utilitaire, d’ameublement intérieur, de mobilier urbain, miroir, écran de système d’affichage, vitrage photovoltaïque.
摘要翻译：本发明涉及一种制备具有光催化性质的材料的方法，并且包括至少部分结晶的二氧化钛，特别是在高于600℃的温度下，以锐钛矿的形式。本发明还涉及一种玻璃板，其至少一面涂覆有含有氧化钛的材料，并且可以通过淬火和/或弯曲的方法在高于600℃的温度下进行热处理，但是保持光催化活性和所需的光学性能用于清洁表面玻璃。本发明还涉及一种简单或多层的单片式玻璃窗，其包括所述玻璃板，以及所述窗用于建筑物，运输车辆，作为普通玻璃窗，用于室内用途，街道家具，镜子，显示系统屏幕和光伏玻璃。

8. 发明申请

WO2005000758A3 SUBSTRAT REVETU D’UNE COUCHE DIELECTRIQUE ET PROCEDE ET INSTALLATION POUR SA FABRICATION 审中-公开
公开(公告)号：WO2005000758A3
公开(公告)日：2005-01-06
申请号：PCT/FR2004/001651
申请日：2004-06-28
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , BAUBET, Carole , FISCHER, Klaus , LOERGEN, Marcus , GIRON, Jean-Christophe , NADAUD, Nicolas , MATTMAN, Eric , ROUSSEAU, Jean-Paul , HOFRICHTER, Alfred , JANSEN, Manfred
发明人： BAUBET, Carole , FISCHER, Klaus , LOERGEN, Marcus , GIRON, Jean-Christophe , NADAUD, Nicolas , MATTMAN, Eric , ROUSSEAU, Jean-Paul , HOFRICHTER, Alfred , JANSEN, Manfred
IPC分类号： C03C17/22
摘要： L'invention concerne un substrat (1) notamment verrier, revêtu d'au moins une couche mince diélectrique déposée par pulvérisation cathodique, notamment assistée par champ magnétique et de préférence réactive en présence d'oxygène et/ou d'azote, avec exposition à au moins un faisceau d'ions (3) issu d'une source ionique (4), caractérisé en ce que ladite couche diélectrique exposée au faisceau d'ions est cristallisée.

9. 发明申请

WO2007101963A2 SUBSTRAT MUNI D'UN EMPILEMENT A PROPRIETES THERMIQUES 审中-公开
标题翻译：包括具有热性能的堆叠的基板
公开(公告)号：WO2007101963A2
公开(公告)日：2007-09-13
申请号：PCT/FR2007/050881
申请日：2007-03-06
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , REUTLER, Pascal , NADAUD, Nicolas , MARTIN, Estelle , LABROUSSE, Laurent
发明人： REUTLER, Pascal , NADAUD, Nicolas , MARTIN, Estelle , LABROUSSE, Laurent
CPC分类号： B32B17/10036 , B32B17/10018 , B32B17/10174 , B32B17/10761 , B32B17/10788 , C03C17/36 , C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C17/3668 , C03C17/3681 , Y10T428/2495 , Y10T428/24975
摘要： L'invention se rapporte à un substrat (10), muni d'un empilement de couches minces comportant une alternance de ≤ n ≥ couches fonctionnelles (40, 80) à propriétés de réflexion dans l'infrarouge et/ou dans le rayonnement solaire, et de ≤ (n + 1) ≥ revêtements (20, 60, 100), avec n nombre entier > 2, lesdits revêtements étant composés d'une pluralité de couches diélectriques (24, 26; 64, 66; 104), de manière à ce que chaque couche fonctionnelle (40, 80) soit disposée entre deux revêtements (20, 60, 100), au moins deux couches fonctionnelles (40, 80) étant déposées chacune sur une couche de mouillage (30, 70) déposée elle-même respectivement directement sur un revêtement sous-jacent (20, 60), caractérisé en ce que deux revêtements sous-jacent (20, 60) comprennent chacun au moins une couche diélectrique (24, 64) et au moins une couche de lissage (26, 66) non cristallisée en un matériau différent du matériau de ladite couche diélectrique à l'intérieur de chaque revêtement, ladite couche de lissage (26, 66) étant en contact avec ladite couche de mouillage (30, 70) sus-jacente et en ce que ces deux revêtements sous-jacent (20, 60) étant d'épaisseur différentes, l'épaisseur de la couche de lissage (26, 66) du revêtement sous-jacent (20, 60) présentant une épaisseur totale inférieure à celle de l'autre revêtement sous- jacent (60, 20) est inférieure ou égale à l'épaisseur de la couche de lissage (66, 26) de cet autre revêtement sous-jacent (60, 20).
摘要翻译：本发明涉及一种具有薄层堆叠的衬底（10），其包括具有红外反射率和/或太阳辐射反射特性的交替“n”个功能层（40,80）和“（n + 1）”涂层，60,200），其中n是整数= 2，所述涂层由多个电介质层（24,26; 64,66; 104）组成，使得每个功能层（40）布置在两个涂层（20 ，60,100），至少两个功能层（40,80）分别布置在润湿层（30,70）上，所述润湿层又分别直接布置在下层涂层（20,60）上。本发明的基底的特征在于，两个相邻的涂层（20,60）各自包括至少一个电介质层（24,64）和至少一个非结晶平滑层（26），该非结晶平滑层由与电介质材料不同的材料组成所述平滑层（26）与下面的润湿层（30）接触。本发明的特征还在于，由于两个相邻涂层（20,60）具有不同的厚度，所以平滑层的厚度具有总厚度低于其它下层涂层的总厚度的下层涂层（20,60）的下部涂层（26,66）的厚度小于或等于所述另一个下层涂层的平滑层（66,26）的厚度（60,20）。

10. 发明申请

WO2007048963A2 PROCEDE DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT 审中-公开
标题翻译：基板处理方法
公开(公告)号：WO2007048963A2
公开(公告)日：2007-05-03
申请号：PCT/FR2006/051082
申请日：2006-10-23
申请人： SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE , NADAUD, Nicolas , ROCHE, Stéphanie , SCHMIDT, Uwe , LOERGEN, Marcus
发明人： NADAUD, Nicolas , ROCHE, Stéphanie , SCHMIDT, Uwe , LOERGEN, Marcus
IPC分类号： C03C23/00 , C03C17/34 , C03C17/36 , C03C17/38
CPC分类号： C03C17/3417 , C03C17/3435 , C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3639 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C17/3681 , C03C23/006 , C03C2217/71 , C03C2218/153 , C03C2218/32 , Y10T428/24628
摘要： Procédé de traitement d'au moins une portion de surface d'au moins une couche A située entre un substrat et une couche B d'un empilement de couches minces déposées sous vide sur le substrat à fonction verrière, selon l'invention, se caractérise en ce que : - on procède au dépôt d'au moins une couche mince A au niveau d'une portion de surface dudit substrat, cette phase de dépôt étant réalisée par un procédé de dépôt sous vide - on génère, à l'aide d'au moins une source ionique linéaire, un plasma d'espèces ionisées à partir d'un gaz ou d'un mélange gazeux, - on soumet au moins une portion de surface de la couche A audit plasma afin que ladite espèce ionisée modifie au moins partiellement l'état de surface de la couche A, - on procède au dépôt d'au moins une couche B au niveau d'une portion de surface de la couche A, cette phase de dépôt étant réalisée par un procédé de dépôt sous vide.
摘要翻译：一种用于处理位于基底和层（B）之间的至少一层（A）的至少一个表面部分的方法，其由在真空下施加到玻璃状基底的薄层堆叠而形成，其至少包括通过真空沉积工艺在所述衬底的表面部分上的一个薄层（A）通过至少一个线性离子源从气体或气体混合物产生离子化物质的等离子体，以暴露至少一个表面层（A）的部分到所述等离子体，使得层（A）的表面状态至少部分地被电离物质修饰并且在层的表面部分上沉积至少一层（B）（A）通过真空沉积工艺。

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