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    • 5. 发明申请
    • HYBRIDOPTIK
    • HYBRID OPTICS
    • WO2010066521A2
    • 2010-06-17
    • PCT/EP2009/064876
    • 2009-11-10
    • OSRAM GESELLSCHAFT MIT BESCHRÄNKTER HAFTUNGVOLLMER, Ralf
    • VOLLMER, Ralf
    • G02B7/02B29C45/14B29D11/00F21V17/00B29K709/08
    • B29C45/14434B29C2045/14868B29K2709/08B29L2011/00C03C23/006C03C23/008F21S41/25G02B7/022
    • Offenbart ist eine Hybridoptik mit einem optischen Glaselement und einem Halter aus Kunststoff, wobei zumindest ein Anlageabschnitt des Glaselements an dem Halter anliegt. Bei einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung besteht der Halter aus einem der folgenden resistenten Kunststoffe: ETFE, ECTFE, PCTFE, PA, PPO, PE, PMMA, PP, PS, PES, PTFE, PFA, PVC oder PMP. Bei einem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung besteht das Glaselement aus Quarzglas oder Phosphatglas oder aus alkalifreiem Glas oder es weist eine Barriereschicht als Diffusionssperre für Alkali- und Erdalkalimetalle auf. Aus derartigen Glaselementen diffundieren weniger Alkali- bzw. Erdalkalimetalle. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Erhöhung der Haltbarkeit einer Hybridoptik, die ein Glaselement und einen Halter aus Kunststoff aufweist, wobei zumindest ein Anlageabschnitt des Glaselements an dem Halter anliegt, wird das Glaselement unter sauerstoffhaltiger Atmosphäre heiß verformt, oder Alkali- und Erdalkalimetalle werden vor einem Umspritzen des Glaselements durch den Kunststoff des Halters zumindest aus den Anlageabschnitten des Glaselements entfernt. Auch aus derartigen Glaselementen diffundieren weniger Alkali- bzw. Erdalkalimetalle, so dass der Kunststoff des Halters weniger angegriffen wird. In beiden Varianten der erfindungsgemäßen Hybridoptik und in dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren für Hybridoptiken wird eine Schwächung des Kunststoffs des Halters vermieden, wodurch die erfindungsgemäße Hybridoptik eine verbesserte Haltbarkeit und Beständigkeit aufweist.
    • 本发明公开了包括光学玻璃元件和由塑料制成的保持器的混合的光学系统,其特征在于,至少在保持器中的玻璃构件的抵接部的存在。 ETFE,ECTFE,PCTFE,PA,PPO,PE,PMMA,PP,PS,PES,PTFE,PFA,PVC或PMP:在本发明的第一实施例,有下列耐塑料之一的持有者是。 在本发明的第二实施例中,玻璃元件由石英玻璃或磷酸盐玻璃或无碱玻璃的,或者它具有的阻挡层作为用于碱金属和碱土金属的扩散阻挡层。 从这样的玻璃元素扩散更少的碱金属或碱土金属。 在用于增加包含玻璃部件和由塑料制成的保持器的混合光学器件的耐久性的本发明的方法,其中,至少所述玻璃构件的抵接部被施加到保持器,在氧气氛下的玻璃部件变形热,或碱金属和碱土金属是在一个模制的前 玻璃元件的被保持器的塑料材料至少从玻璃元件的邻接部分去除。 另外,从这样的玻璃元素扩散更少的碱金属或碱土金属,使得保持器的塑料材料较少攻击。 在根据本发明的和在用于混合动力光学保持器的塑料材料的弱化本发明的制造方法中的混合式光学系统的两种变型被阻止,由此根据本发明的混合光学器件具有改进的耐用性和性能。
    • 7. 发明申请
    • SEQUENTIALLY ALTERNATING PLASMA PROCESS PARAMETERS TO OPTIMIZE A SUBSTRATE
    • 连续交替等离子体工艺参数优化基板
    • WO2006068971B1
    • 2007-12-21
    • PCT/US2005045725
    • 2005-12-16
    • LAM RES CORPKIERMASZ ADRIANPANDHUMSOPORN TAMARAKCOFER ALFERD
    • KIERMASZ ADRIANPANDHUMSOPORN TAMARAKCOFER ALFERD
    • C23F1/00
    • C03C23/006C23C4/02H01J37/32935H01L21/67253
    • In plasma processing system, a method for optimizing etching of a substrate is disclosed. The method includes selecting a first plasma process recipe including a first process variable, wherein changing the first process variable by a first amount optimizes a first substrate etch characteristic and aggravates a second substrate etch characteristic. The method also includes selecting second plasma process recipe including a second process variable, wherein changing the second process variable by a second amount aggravates the fist substrate etch characteristic and optimizes the second substrate etch characteristic. The method further includes positioning a substrate on a chuck in a plasma processing chamber; and striking a plasma within the plasma processing chamber. The method also includes alternating between the first plasma recipe and the second plasma recipe, wherein upon completion of the alternating, the first substrate etch characteristic and the second substrate etch characteristic are substantially optimized.
    • 在等离子体处理系统中,公开了一种用于优化基板的蚀刻的方法。 该方法包括选择包括第一过程变量的第一等离子体过程配方,其中将第一过程变量改变第一量优化第一衬底蚀刻特性并且加重第二衬底蚀刻特性。 该方法还包括选择包括第二过程变量的第二等离子体过程配方,其中以第二量改变第二过程变量会加重第一基板蚀刻特性并优化第二基板蚀刻特性。 该方法还包括将衬底放置在等离子体处理室中的卡盘上; 并在等离子体处理室内撞击等离子体。 该方法还包括在第一等离子体配方和第二等离子体配方之间交替,其中在交替完成时,第一衬底蚀刻特性和第二衬底蚀刻特性基本上被优化。