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    • 5. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHES BAUTEIL
    • OPTO电子元件
    • WO2012001059A1
    • 2012-01-05
    • PCT/EP2011/060931
    • 2011-06-29
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHBIEBERSDORF, AndreasBERGENEK, KristerMOOSBURGER, Jürgen
    • BIEBERSDORF, AndreasBERGENEK, KristerMOOSBURGER, Jürgen
    • H01L33/44H01L33/50
    • H01L33/50F21V5/002H01L33/44H01L33/56H01L33/58H01L2933/0091
    • Es wird ein optoelektronisches Bauteil (100) angegeben, mit - zumindest einem strahlungsemittierenden Halbleiterbauelement (1); - zumindest einem Konverterelement (2), welches zur Konversion der von dem Halbleiterbauelement (1) emittierten elektromagnetischen Strahlung dient; - zumindest einem Filtermittel (3), welches Filterpartikel (31) umfasst oder mit diesen gebildet ist, wobei - das Filtermittel (3) zumindest einen vorgebbaren Wellenlängenbereich der von dem Halbleiterbauelement (1) emittierten elektromagnetischen Strahlung stärker streut und/oder absorbiert als einen von dem vorgegebenen Wellenlängenbereich verschiedenen Wellenlängenbereich, und - die Filterpartikel (31) einen d 50 -Wert, in Q 0 gemessen, von wenigstens 0,5 nm bis höchstens 500 nm und/oder - die Filterpartikel (31) zumindest stellenweise fadenartig ausgebildet sind und in einem fadenartigen Bereich (31A) einen Durchmesser (D) aufweisen, der wenigstens 0,5 nm und höchstens 500 nm beträgt.
    • 本发明提供一种光电器件(100),具有: - 至少一个发射辐射的半导体元件(1); - 至少一个转换元件(2),其用于从所述半导体部件(1)的电磁辐射发射的光转换; - 至少一个滤波器装置(3)包括所述过滤器的颗粒(31)或与其一起,其特征在于形成 - 散射滤波器装置(3)的半导体器件中的至少一个预先确定的波长范围内的(1)的电磁辐射发射的更强和/或吸收的作为一个 在预定的波长范围不同的波长范围,以及 - 具有d 50值,所述过滤器的颗粒(31)在Q0测量的至少0.5纳米,和至多500nm和/或 - 形成(31)的地方,线状至少过滤颗粒和细丝状的 具有区域(31A)的直径(D),这是在500nm以下为至少0.5nm和。
    • 9. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON OPTOELEKTRONISCHEN HALBLEITERCHIPS
    • 光电子半导体芯片及其制造方法的光电子半导体芯片
    • WO2012022657A1
    • 2012-02-23
    • PCT/EP2011/063715
    • 2011-08-09
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHMOOSBURGER, JürgenNEUREUTHER, ChristophVON MALM, Norwin
    • MOOSBURGER, JürgenNEUREUTHER, ChristophVON MALM, Norwin
    • H01L25/16H05B37/03H01L31/173H01L27/15H01L33/00H01L33/38
    • H01L33/62H01L27/15H01L31/153H01L33/0079H01L33/382H01L2924/0002H01L2924/00
    • Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip (1) angegeben, der einen Träger (5) und einen auf dem Träger (5) angeordneten Halbleiterkörper (2) mit einer Halbleiterschichtenfolge aufweist, wobei in dem Halbleiterkörper (2) mit der Halbleiterschichtenfolge ein Emissionsbereich (23) und ein Detektionsbereich (24) gebildet sind. Die Halbleiterschichtenfolge umfasst einen aktiven Bereich (20), der zwischen einer ersten Halbleiterschicht (21) und einer zweiten Halbleiterschicht (22) angeordnet ist und im Emissionsbereich (23) zur Erzeugung von Strahlung vorgesehen ist. Die erste Halbleiterschicht (21) ist auf der dem Träger (5) abgewandten Seite des aktiven Bereichs (20) angeordnet. Der Emissionsbereich (23) weist eine Ausnehmung (25) auf, die sich durch den aktiven Bereich (20) hindurch erstreckt; Die erste Halbleiterschicht (21) ist im Emissionsbereich (23) über eine erste Anschlussschicht (31) elektrisch leitend mit einem ersten Kontakt (41) verbunden, wobei sich die erste Anschlussschicht (31) in der Ausnehmung (25) von der ersten Halbleiterschicht (21) in Richtung des Trägers (5) erstreckt; Die zweite Halbleiterschicht (22) ist über eine zweite Anschlussschicht (32) mit einem zweiten Kontakt (42) elektrisch leitend verbunden. Der Detektionsbereich (24) ist mit einem zusätzlichen Kontakt (43) elektrisch leitend verbunden. Ferner wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterchips angegeben.
    • (5),其布置在半导体本体,提供一种光电子半导体芯片(1),包括在载体上的支撑件(5)和(2)之一具有半导体层序列,其中,在所述半导体主体(2)与所述半导体层序列,发射区域(23)和 检测区域(24)形成。 半导体层序列包括第一半导体层(21)和第二半导体层(22)设置在所述发射区域(23)之间的有源区(20)设置用于产生辐射。 在第一半导体层(21)是在(5)的面对从有源区域(20)离开侧上的支撑。 发射区域(23)具有通过所述有源区(20)穿过其延伸的凹部(25); 在第一半导体层(21)被导电地经由第一连接层(31),在发射区(23)的第一接触(41)连接,其中在所述第一半导体层的凹部(25)的第一连接层(31)(21 )朝向所述支撑件(5); 所述第二半导体层(22)导电地经由具有第二触点(42)的第二连接层(32)相连接。 检测区域(24)设置有一个附加的接触(43)电传导地连接。 此外,被指定用于制造光电子半导体芯片的方法。