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1. 发明申请

WO2015000576A1 TIB2 SCHICHTEN UND IHRE HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：的TiB 2层及其制备
公开(公告)号：WO2015000576A1
公开(公告)日：2015-01-08
申请号：PCT/EP2014/001781
申请日：2014-06-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KURAPOV, Denis , KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/35
CPC分类号： C23C14/067 , C23C14/04 , C23C14/34 , C23C14/3464
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Werkstück mit Beschichtung welche zumindest eine ΤiΒ2 Schicht umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die TiB 2 -Schichten eine Textur aufweisen, welche im XRD-Spektrum zu deutlichen Peaks führen die eine ausgeprägte (002)-Ausrichtung anzeigen. Die Erfindung betrifft ausserdem ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Werkstücks mit Beschichtung.
摘要翻译：本发明涉及具有包括至少一个＆TGR涂层的工件; I 2包括层，其特征在于所述的TiB 2层具有纹理，其导致的X射线衍射光谱显著峰，其具有显着的（002）显示取向α。本发明还涉及一种用涂料生产所述工件的方法。

2. 发明申请

WO2013091802A1 LOW TEMPERATURE ARC ION PLATING COATING 审中-公开
标题翻译：低温电弧镀层
公开(公告)号：WO2013091802A1
公开(公告)日：2013-06-27
申请号：PCT/EP2012/005161
申请日：2012-12-14
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , KURAPOV, Denis , LECHTHALER, Markus
IPC分类号： C23C14/32 , H01J37/32
CPC分类号： C23C14/345 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/32568
摘要： Coating method for arc coating or arc ion plating coating of substrates in a vacuum chamber in which using an arc evaporator solid material that functions as cathode is evaporated, during arc evaporation the motion of the cathode spot on the solid material surface is accelerated using a magnetic field for avoiding ejection of a large amount of macro-particles or droplets from the solid material surface, negative charged particles resulted from the arc evaporation flow from the cathode to an anode, characterized by the motion of the negative charged particles from the cathode to the anode fundamentally doesn't cause an additional increase of the absolute value of the potential difference between cathode and anode allowing a lower increment of the substrate temperature during coating.
摘要翻译：在电弧蒸发期间，使用用作阴极的电弧蒸发器固体材料的真空室中的基板的电弧涂覆或电弧离子镀覆涂覆方法被蒸发，阴极点在固体材料表面上的运动使用磁场，用于避免从固体材料表面喷射大量的大颗粒或液滴，由从阴极到阳极的电弧蒸发流产生的负带电粒子，其特征在于负电荷粒子从阴极到阳极基本上不会导致阴极和阳极之间的电位差的绝对值的额外增加，从而允许涂层期间衬底温度的较低增量。

3. 发明申请

WO2013045039A2 ALUMINUM TITANIUM NITRIDE COATING WITH ADAPTED MORPHOLOGY FOR ENHANCED WEAR RESISTANCE IN MACHINING OPERATIONS AND METHOD THEREOF 审中-公开
标题翻译：具有适应形态的氮化钛纳米涂层，用于加工操作中的增强耐磨性及其方法
公开(公告)号：WO2013045039A2
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：PCT/EP2012/003896
申请日：2012-09-19
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KURAPOV, Denis , KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C30/00
CPC分类号： C23C14/0617 , C23C14/0641 , C23C14/228 , C23C14/325 , C23C28/04 , C23C28/044 , C23C30/00 , C23C30/005 , Y10T428/2495 , Y10T428/24983 , Y10T428/24992 , Y10T428/31678
摘要： The present invention relates to an (AI,Ti)N coating exhibiting at least two different coating portions, A and B, having grain size in nanometer magnitude order characterized in that the coating portion A exhibit larger grain size and higher elastic modulus than the coating portion B. The present invention relates as well to a method for coating a substrate with a coating as described above whereby at least the coating portion A and/or the coating portion B of the (AI,Ti)N coating are/is deposited by means of PVD techniques.
摘要翻译：本发明涉及具有至少两种不同涂层部分（A和B）的（Al，Ti）N涂层，其具有纳米级的晶粒尺寸，其特征在于涂层部分A显示出比涂层更大的晶粒度和更高的弹性模量本发明还涉及如上所述的用涂层涂覆基材的方法，至少至少涂覆部分A和/或（Al，Ti）N涂层的涂布部分B被沉积在 PVD技术手段。

4. 发明申请

WO2010040494A1 NON GAMMA - PHASE CUBIC ALCRO 审中-公开
标题翻译： NON GAMMA - PHASE CUBIC ALCRO
公开(公告)号：WO2010040494A1
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：PCT/EP2009/007118
申请日：2009-10-05
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KURAPOV, Denis
发明人： KURAPOV, Denis
IPC分类号： C23C30/00 , B23B27/00 , B23B27/02 , B23B27/08 , B23B27/14
CPC分类号： C22C14/00 , C22F1/18 , C23C14/0676 , C23C14/08 , C23C28/042 , C23C28/044 , C23C30/00 , C23C30/005
摘要： The present invention relates to a coating for workpieces with at least one layer, the at least one layer comprising metal components represented by AIxCr1-x wherein x is an atomic ratio meeting 0≤x≤0.84 and comprising non metallic components represented by 01-yZy where Z is at least one Element selected from the group N, B, C and 0≤y≤0.65, preferably y≤0.5 characterized in that the coating comprises at least partially a cubic non gamma Cr and oxide comprising phase in such a way that the x-ray diffraction pattern shows formation of cubic phase which is not the cubic phase of CrN.
摘要翻译：本发明涉及一种具有至少一层的工件涂层，所述至少一层包含由Al x Cr 1-x表示的金属组分，其中x是原子比满足0 = x = 0.84并且包含由01-yZy表示的非金属组分其中Z是选自组N，B，C和0 = y = 0.65，优选y = 0.5中的至少一个元素，其优选为y = 0.5，其特征在于涂层至少部分地包含立方体非γCr和包含相的氧化物， X射线衍射图显示不是CrN的立方相的立方相的形成。

5. 发明申请

WO2014008984A1 HOCHLEISTUNGSIMPULSBESCHICHTUNGSMETHODE 审中-公开
标题翻译： - 高功率脉冲涂法
公开(公告)号：WO2014008984A1
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：PCT/EP2013/001853
申请日：2013-06-24
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , KURAPOV, Denis
IPC分类号： C23C14/34 , H01J37/34
CPC分类号： C23C14/3485 , C23C14/345 , C23C14/3464 , H01J37/3405 , H01J37/3467 , H01J2237/332
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung von Substraten mittels Zerstäubung von Targetmaterial wobei folgende Schritte umfasst sind: - In einer Beschichtungskammer Beaufschlagen eines ersten Sputtertargets aus einem ersten Material mit einem Leistungspuls mittels dem während eines ersten Zeitintervalls eine erste Energiemenge auf das Sputtertarget übertragen wird, wobei dabei die maximale Leistungsdichte 50W/cm 2 und bevorzugt 500W/cm 2 übersteigt - In der Beschichtungskammer Beaufschlagen eines zweiten Sputtertargets aus einem zweiten, vom ersten verschiedenen Material mit einem Leistungspuls mittels dem während eines zweiten Zeitintervalls eine zweite Energiemenge auf das Sputtertarget übertragen wird, wobei dabei die maximale Leistungsdichte 50W/cm 2 und bevorzugt 500W/cm 2 übersteigt dadurch gekennzeichnet, dass sich die erste Energiemenge von der zweiten Energiemenge unterscheidet.
摘要翻译：本发明通过其中以下步骤被包含靶材料的溅射涉及用于涂覆基材的方法： - 在一个涂覆室，其中在第一时间间隔期间由装置施加与功率脉冲的第一材料的第一溅射靶，能量的第一量被转移到溅射靶，其特征在于最大功率密度为50W / cm 2且，优选地，500W / cm 2的超过 - ，其中的一个第二时间间隔的能量的第二量被转移到溅射靶期间从第二，从具有由装置的功率的脉冲与第一材料不同施加第二溅射靶涂覆室，在这种情况下最大功率密度为50W / cm 2且，优选地，500W / cm 2的超出其特征在于，能量从第二能量的量的第一量不同。

6. 发明申请

WO2010020362A1 VERWENDUNG EINES TARGETS FÜR DAS FUNKENVERDAMPFEN UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES FÜR DIESE VERWENDUNG GEEIGNETEN TARGETS 审中-公开
标题翻译：电弧蒸发和具体目标的方法用于生产适用于此用途的目标使用
公开(公告)号：WO2010020362A1
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：PCT/EP2009/005803
申请日：2009-08-10
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KURAPOV, Denis , LECHTHALER, Markus
发明人： KURAPOV, Denis , LECHTHALER, Markus
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/06 , C23C14/34 , C23C14/08
CPC分类号： C23C14/081 , C23C14/0641 , C23C14/325 , C23C14/3414 , H01J2237/20
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verwendung eines Targets für ein Beschichtungsverfahren von Metalloxid- und/oder Metallnitridschichten durch Funkenverdampfung, wobei das Target bei einer Temperatur betreibbar ist, die höher als der Schmelzpunktes des im Target verwendeten Metalls ist, und wobei das Target aus einem Metall besteht, dessen Oxide und/oder Nitride nicht elektrisch leitend sind. Darüber hinaus betrifft die Erfindung die Verwendung eines Targets, zum Herstellen von Metalloxidschichten und/oder Metallnitridschichten durch Funkenverdampfung, wobei das Target eine aus einem Metall bestehende Matrix aufweist, in welche elektrisch nicht leitende Oxide und/oder Nitride des Metalls eingebettet sind.
摘要翻译：本发明涉及一种用于使用目标为金属氧化物和/或金属氮化物通过电弧蒸发的涂覆方法，其中所述靶是可操作的以比在所述目标所使用的金属的熔点高的温度，并且其中所述目标由金属构成是，其氧化物和/或氮化物是不导电的。此外，本发明涉及使用一个目标的，用于制造金属氧化物和/或金属氮化物通过电弧汽化的方法，其中所述靶包括由其中金属的非导电氧化物和/或氮化物被嵌入的基质的金属。

7. 发明申请

WO2015000581A1 TIXSI1-XN SCHICHTEN UND IHRE HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译： TIXSI1-x N层及其制备方法
公开(公告)号：WO2015000581A1
公开(公告)日：2015-01-08
申请号：PCT/EP2014/001792
申请日：2014-07-01
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KURAPOV, Denis , KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/02 , C23C14/35 , C23C14/34
CPC分类号： C23C14/3407 , C23C14/027 , C23C14/0641 , C23C14/0682 , C23C14/3485 , C23C14/35 , C23C14/352
摘要： Die Erfindung betrifft ein Werkstück mit Beschichtung welche Beschichtung zumindest eine Ti x Si 1-x N Schicht umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass x≤0.85 und die Ti x Si 1-x N Schicht Nanokristalle enthält und die enthaltenen Nanokristalle eine durchschnittliche Korngrösse von nicht mehr als 15nm besitzen und eine (200) Textur aufweist. Die Erfindung betrifft ausserdem ein Verfahren zur Herstellung der vorgenannten Schicht, dadurch gekennzeichnet dass für die Herstellung ein Sputterverfahren eingesetzt wird bei dem es auf der Targetoberfläche des Sputtertargets zu Stromdichten von grösser 0.2A/cm 2 kommt und das Target ein Ti x Si 1-x -Target ist, wobei x≤0.85. Vorzugsweise ist zwischen der Ti x Si 1-x N Schicht und dem Substratkörper des Werkstücks eine Zwischenschicht mit TiAIN oder CrAIN vorgesehen.
摘要翻译：本发明涉及一种工件与涂层，其涂层含有至少一种TixSi1-x N层，其特征在于x≤0.85和包含TixSi1-x N层的纳米晶体，以及包含在该纳米晶体具有不超过15纳米的平均颗粒尺寸，和一个（200）有质感。的特征在于，用于其中有溅射靶的靶表面到大于0.2A / cm 2，且目标的电流密度上的溅射法的制备是一个TixSi1-X靶标，本发明也涉及一种用于制备上述层，其中x≤0.85。优选地，在TixSi1-x N层和所述工件的所述基板主体之间设置的TiAlN或CrAlN的中间层。

8. 发明申请

WO2014008989A1 HOCHLEISTUNGSIMPULSBESCHICHTUNGSVERFAHREN 审中-公开
标题翻译： - 高功率脉冲涂装工艺
公开(公告)号：WO2014008989A1
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：PCT/EP2013/001914
申请日：2013-06-29
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , KURAPOV, Denis
IPC分类号： C23C14/34 , H01J37/34
CPC分类号： C23C14/3485 , C23C14/345 , C23C14/3464 , H01J37/3405 , H01J37/3467 , H01J2237/332
摘要： Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Ermittlung des Reaktivgasverbrauchs in einem Beschichtungsprozess mittels Plasma mit folgenden Schritten: a) Einlass von Reaktivgas in eine Beschichtungskammer wobei der entsprechende Reaktivgasfluss gemessen wird und gleichzeitig der in der Beschichtungskammer vorherrschende Partialdruck gemessen wird, ohne ein Plasma zu zünden b) Einlass von Reaktivgas in eine Beschichtungskammer wobei der entsprechende Reaktivgasfluss gemessen wird und gleichzeitig der in der Beschichtungskammer vorherrschende Partialdruck gemessen wird, wobei ein Plasma gezündet ist, dadurch gekennzeichnet, dass - Schritte a) und b) bei mehreren unterschiedlichen Reaktivgasflüssen durchgeführt werden und so die Reaktivgasfluss - Partialdruckabhängigkeit sowohl mit Plasma als auch ohne Plasma ermittelt werden kann - bei gegebenem Partialdruck Abzug des Reaktivgasflusswertes der ohne Plasma ermittelt wurde vom Reaktivgasflusswert der mit Plasma ermittelt wurde und Gleichsetzung der Differenz mit dem Reaktivgasverbrauch.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于通过包括以下步骤的等离子体的装置确定在涂覆过程中的反应性气体消耗量：对与所述相应的反应性气流的涂覆室测定的）的反应性气体的入口，同时在涂层室被测量分压盛行，没有等离子体被测量，其特征在于，等离子体点火，其特征在于与相应的反应性气体流动测量和同时在涂层室的分压盛行点燃b）中的反应气体的接纳到涂覆室： - 步骤a）和b）在几个不同的反应性气体流中进行，并 Partialdruckabhängigkeit可以在血浆和不具有等离子体中找到 - - 如在反应性气体抽取流量值的给定分压反应气体流动而不等离子体测定来自血浆ermitte的反应性气体的流量值是lt和等同于与反应性气体的消耗的差异。

9. 发明申请

WO2015000578A1 TARGETPRÄPARATION 审中-公开
标题翻译： TARGET研制
公开(公告)号：WO2015000578A1
公开(公告)日：2015-01-08
申请号：PCT/EP2014/001783
申请日：2014-06-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KURAPOV, Denis , KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C14/32 , C23C14/35 , C23C14/02 , H01J37/34 , H01L21/02
CPC分类号： C23C14/3407 , C23C14/02 , C23C14/021 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/325 , C23C14/35 , H01J37/3447
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung von Werkstücken mit folgenden Schritten: - Beladen einer Beschichtungskammer mit den zu beschichtenden Werkstücken - Schliessen und evakuieren der Beschichtungskammer auf einen vorbestimmten Prozessdruck - Starten einer Beschichtungsquelle welche als Materialquelle ein Traget umfasst und wodurch Teilchen aus der Oberfläche des Targets in Richtung Substrate beschleunigt werden dadurch gekennzeichnet, dass zwischen Targetoberfläche und Substrat so lange eine Abschirmung vorgesehen bis das Target konditioniert ist, wobei währenddessen zumindest teilweise die zu beschichtenden Substrate einer Vorbehandlung unterzogen werden.
摘要翻译：本发明涉及一种用于包括以下步骤涂覆工件的方法： - 加载与工件一个涂覆室待涂覆 - 关闭并涂覆室抽空到预定的处理压力 - 起始的涂层源，其作为材料源包括从所述表面上的追求的目标，并且其中颗粒目标朝向其特征在于，所述目标靶表面和衬底之间调节，只要提供了一种防护罩，在此期间，至少部分地受到待涂覆的预处理基底基板加速。

10. 发明申请

WO2015000577A1 AN EINE INDIREKTE KÜHLVORRICHTUNG ANGEPASSTES TARGET MIT KÜHLPLATTE 审中-公开
标题翻译：间接冷却器目标冷却板安装
公开(公告)号：WO2015000577A1
公开(公告)日：2015-01-08
申请号：PCT/EP2014/001782
申请日：2014-06-30
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
发明人： KURAPOV, Denis , KRASSNITZER, Siegfried
IPC分类号： C23C14/34 , H01J37/34
CPC分类号： H01J37/3417 , C23C14/3407 , H01J37/3423 , H01J37/3435 , H01J37/3497 , H01J2237/002 , H01J2237/081 , H01J2237/3322
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Kühlung eines Targets mit einer Komponente welche einen Kühlkanal umfasst und einer weiteren wärmeleitfähigen Platte welche lösbar mit der Kühlseite der Komponente verbunden ist, wobei die Kühlseite diejenige ist auf der der Kühlkanal seine Wirkung entfaltet, dadurch gekennzeichnet, dass zwischen der weiteren wärmeleitfähigen Platte und der Kühlseite der Komponente eine erste selbstklebende Karbonfolie vorgesehen ist, welche grossflächig selbstklebend auf die eine Seite der weiteren wärmeleitfähige Platte geklebt ist, die der Kühlseite zugewandt ist.
摘要翻译：本发明涉及一种设备，用于冷却具有它包括一个冷却通道的分量的目标，并且可释放地连接到所述部件的冷却侧的另一导热板，所述冷却侧即在冷却通道发挥其作用，其特征在于所述间另外的热传导板和所述部件的冷却侧，第一自粘碳箔被提供，其是粘附于面向冷却侧的另一导热板的一侧上的大的表面面积的自粘。

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