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1. 发明申请

WO2011012148A1 OPTICAL BEAM DEFLECTING ELEMENT AND METHOD OF ADJUSTMENT 审中-公开
标题翻译：光束偏移元件和调整方法
公开(公告)号：WO2011012148A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/EP2009/005555
申请日：2009-07-31
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , RUNDE, Daniel , DOLL, Florian , VÖLKEL, Reinhard , WEIBLE, Kenneth, J. , WEISS, Gundula , GERHARD, Michael
发明人： RUNDE, Daniel , DOLL, Florian , VÖLKEL, Reinhard , WEIBLE, Kenneth, J. , WEISS, Gundula , GERHARD, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70108 , G03F7/70158
摘要： An optical beam deflecting element (BDE) for generating a radiation beam having rays according to a predefined angular distribution by changing an angular distribution of rays in a radiation beam incident on the beam deflecting arrangement comprises first deflecting structures arranged in a first deflecting region (DR1) generating a first bundle of first rays, each of the first rays having a propagation direction corresponding to a ray angle within a predefined distribution of ray angles, the first rays having first intensities according to a first intensity distribution; and second deflecting structures arranged in a second deflecting region (DR2), laterally offset relative to the first deflecting region, generating a second bundle of second rays, each second ray having a propagation direction corresponding to a ray angle within the predefined distribution of ray angles, the second rays having second intensities according to a second intensity distribution, which differs from the first intensity distribution. The beam deflecting element may be used effectively as an energy distribution manipulator in an illumination system to vary the energy distribution within a given spatial intensity distribution in a pupil plane (PILL) of the illumination system substantially without changing the shape and size and position of illuminated areas in the pupil plane.
摘要翻译：一种光束偏转元件（BDE），用于通过改变入射在光束偏转装置上的辐射束中的光线的角度分布来产生具有根据预定角度分布的射线的辐射束，包括布置在第一偏转区域（DR1）中的第一偏转结构）产生第一束第一射线，所述第一射线中的每一个具有对应于预定射线角度分布内的射线角度的传播方向，所述第一射线具有根据第一强度分布的第一强度; 和布置在第二偏转区域（DR2）中的第二偏转结构，相对于第一偏转区域横向偏移，产生第二束第二射线，每个第二射线具有对应于预定分布的射线角度内的射线角度的传播方向所述第二光线具有与第一强度分布不同的第二强度分布的第二强度。光束偏转元件可以有效地用作照明系统中的能量分配操纵器，以在照明系统的光瞳平面（PILL）内的给定空间强度分布内改变能量分布，基本上不改变照明的形状，尺寸和位置瞳孔中的区域。

2. 发明申请

WO2017153165A1 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES BELEUCHTUNGSSYSTEMS FÜR EINE EUV-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND BELEUCHTUNGSSYSTEM 审中-公开
标题翻译：生产EUV投影曝光系统和照明系统的照明系统的方法
公开(公告)号：WO2017153165A1
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：PCT/EP2017/053993
申请日：2017-02-22
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BAIER, Jürgen , RUNDE, Daniel , MANGER, Matthias , MÜLLER, Ulrich , LICHTENTHÄLER, Jörg , ORTHEN, André , WELKER, Joachim , HOLZ, Markus , HOLDERER, Hubert
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Ein Verfahren zum Herstellen eines Beleuchtungssystems für eine EUV-Anlage umfasst folgende Schritte: Einbauen von Spiegelmodulen des Beleuchtungssystems an für die Spiegelmodule vorgesehenen Einbaupositionen zum Aufbau eines Beleuchtungsstrahlengangs, der von einer Quellenposition bis zu einem Beleuchtungsfeld führt, wobei die Spiegelmodule ein erstes Spiegelmodul mit einem ersten Facettenspiegel an einer ersten Einbauposition und ein zweites Spiegelmodul mit einem zweiten Facetten-spiegel an einer zweiten Einbauposition des Beleuchtungssystems umfassen; Einkoppeln von Messlicht in den Beleuchtungsstrahlengang an einer Einkoppelposition vor einem ersten Spiegelmodul des Beleuchtungsstrahlengangs; Detektieren vom Messlicht nach Reflexion des Messlichts an jedem der Spiegelmodule des Beleuchtungsstrahlengangs; Ermitteln von Ist-Messwerten für mindestens eine Systemmessgröße aus detektiertem Messlicht, wobei die Ist-Messwerte einen Ist-Zustand der Systemmessgröße des Beleuchtungssystems repräsentieren; Ermitteln von Korrekturwerten aus den Ist-Messwerten unter Verwendung von Sensitivitäten, die einen Zusammenhang zwischen der Systemmessgröße und einer Veränderung der Lage mindestens eines Spiegelmoduls in seiner Einbauposition repräsentieren; Justieren mindestens eines Spiegelmoduls unter Veränderung der Lage des Spiegelmoduls in der Einbauposition in Starrkörperfreiheitsgraden unter Verwendung der Korrekturwerte zur Veränderung des Ist-Zustandes in der Weise, dass bei Einstrahlung von EUV-Strahlung der EUV-Strahlungsquelle die Beleuchtungsstrahlung im Beleuchtungsfeld der Beleuchtungsspezifikation genügt.
摘要翻译：
制造用于导航中使用的照明系统的方法R A EUV系统，包括以下步骤：的在f导航用途的照明系统的反射镜模块安装ř指定的安装位置为照明光束路径的构造从源位置到反射镜模块照明场f导航的使用导致，其中所述反射镜模块包括与在第一安装位置的第一面反射镜和与在照明系统的第二安装位置的第二面反射镜的第二反射镜组件的第一反射镜模块; 将测量光耦合到照明光束路径的第一镜模块前方的耦合进入位置中的照明光束路径中; 在照明光束路径的每个反射镜模块处反射测量光之后检测测量光; 确定来自检测到的测量光的至少一个系统测量量的实际测量值，其中实际测量值表示照明系统的系统测量量的实际状态; 使用表示系统测量与至少一个反射镜模块在其安装位置中的位置变化之间的关系的灵敏度，从实际测量值确定校正值; 下版BEAR调整至少一个反射镜模块改变在Starrk＆OUML安装位置的反射镜组件的位置; rperfreiheitsgraden使用校正值的实际情况以这样的方式的版本BEAR变化使得在来自EUV辐射源的EUV辐射，在照明领域的照明光束的照射照明规范。

3. 发明申请

WO2019002082A1 VERFAHREN ZUM JUSTIEREN EINES BELUCHTUNGSSYSTEMS FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019002082A1
公开(公告)日：2019-01-03
申请号：PCT/EP2018/066557
申请日：2018-06-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MANGER, Matthias , ORTHEN, André , RUNDE, Daniel , PETRI, Christoph
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B26/0816 , G02B27/62 , G03F7/70116 , G03F7/70141
摘要： Ein Verfahren zum Justieren eines Beleuchtungssystems (20), welches einen Beleuchtungstrahlengang (34) für eine Vielzahl von Einzelstrahlen (39) zum Anstrahlen einer Maskenebene (44) einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie sowie ein mehrere Manipulatorfreiheitsgrade aufweisendes Manipulatorsystem (28) zur Veränderung der Konfiguration des Beleuchtungsstrahlengangs (34) umfasst, wird bereitgestellt. Der Beleuchtungsstrahlengang erstreckt sich von einer Strahlungsquelle (18) der Einzelstrahlen (39) bis einschließlich zur Maskenebene (44). Das Verfahren umfasst die Schritte: Auswählen eines oder mehrerer der Einzelstrahlen (39), einer oder mehrerer sich quer zum Beleuchtungsstrahlengang erstreckender Referenzflächen (23; 31; 41; 44; 45) sowie eines oder mehrerer Anstrahlpunkte (31 -1, 31 -5, 31-8; 31-2; 41-1, 41 -3; 44-1, 44-3; 45-1, 45-3; 84) des oder der ausgewählten Einzelstrahlen auf der oder den ausgewählten Referenzflächen, Bestimmen eines jeweiligen Sollwertes (75) mindestens eines geometrischen Zustandsparameters des entsprechenden Einzelstrahls (39) an dem oder den ausgewählten Anstrahlpunkten mittels Strahlrückverfolgungsrechnung anhand optischer Designdaten (79) des Beleuchtungssystems, Bestimmen eines jeweiligen Messwertes (74) des mindestens einen geometrischen Zustandsparameters an dem oder den ausgewählten Anstrahlpunkten mittels optischer Messung, sowie Ermitteln von Steilwegseinstellungen (76) für die Manipulatorfreiheitsgrade des Manipulatorsystems (28) zur Annäherung des mindestens einen geometrischen Zustandsparameters an dem oder den ausgewählten Anstrahlpunkten an den jeweiligen Sollwert (75).

4. 发明申请

WO2015173397A1 ERMITTLUNG EINER KORRIGIERTEN GRÖSSE 审中-公开
标题翻译：确定修正的SIZE
公开(公告)号：WO2015173397A1
公开(公告)日：2015-11-19
申请号：PCT/EP2015/060770
申请日：2015-05-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PETRI, Christoph , WALD, Christian , RUNDE, Daniel
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/84
CPC分类号： G03F7/706 , G01N21/8851 , G01N21/956 , G01N2021/95676 , G03F1/84 , G03F7/70591 , G03F7/7085
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter abhängigen Größe in einem Parameterbereich des mindestens einen Parameters. Das Verfahren umfasst ein Durchführen einer Messung, wobei Messwerte der Größe in mehreren separaten und nicht überlappenden Teilbereichen des Parameterbereichs bereitgestellt werden. Das Verfahren umfasst des Weiteren ein Durchführen einer Korrektur von Messwerten der Größe unter Verwendung einer Approximation, in welcher Messwerte der Größe mit einer glatten Funktion und mit den Teilbereichen des Parameterbereichs zugeordneten Teilbereichsfunktionen approximiert werden. Mit Hilfe der glatten Funktion ist ein Verlauf der Größe über den Parameterbereich wiedergebbar. Mit Hilfe der Teilbereichsfunktionen ist eine individuelle Veränderung der Größe in den Teilbereichen des Parameterbereichs hervorrufbar. Die Erfindung betrifft des Weiteren ein Verfahren zur Justage einer Abbildungsoptik eines optischen Systems, und eine Vorrichtung zur Ermittlung einer korrigierten und von mindestens einem Parameter abhängigen Größe in einem Parameterbereich des mindestens einen Parameters. Die Erfindung betrifft darüber hinaus ein Verfahren zur Ermittlung von mehreren korrigierten Wellenfrontfehlern in einem Bildfeld.
摘要翻译：本发明涉及一种用于确定经校正的和从属的至少一个尺寸参数的在所述至少一个参数的参数范围。该方法包括执行测量，其中，在多个的参数区的分离的和非重叠部分设置的数量的测量值。该方法还包括使用近似，其中被测量由平滑函数来近似的大小的值进行大小的测量值的校正，并用的参数区分配子区域的功能的部分。经由参数范围的平滑函数的帮助下在尺寸可以被再现。使用部分区设有参数区的某些区域的大小个体的变化来实现。本发明还涉及一种方法，用于调整光学系统的成像光学系统，以及用于确定的装置的校正和从属的至少一个尺寸参数的在所述至少一个参数的参数范围。本发明还涉及一种用于确定在图像场中的多个校正的波前误差。

5. 发明申请

WO2015052323A1 FACETTENELEMENT MIT JUSTAGEMARKIERUNGEN 审中-公开
标题翻译： FACETS元件，具有JUSTAGEMARKIERUNGEN
公开(公告)号：WO2015052323A1
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：PCT/EP2014/071794
申请日：2014-10-10
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WALD, Christian , RUNDE, Daniel , SCHNEIDER, Sonja , SCHNEIDER, Ricarda , WAGNER, Hendrik , BITTNER, Boris , PAULS, Walter , SCHMIDT, Holger , WABRA, Norbert
IPC分类号： G03F7/20 , G01M11/00 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70116 , G01M11/0264 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/7085
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Facettenelement (109) zur Nutzung als optische Komponente, die in einem Normalbetrieb an der Erzeugung einer optischen Abbildung unter Verwendung von Nutzlicht mit einer Nutzwellenlänge beteiligt ist, mit einem Elementkörper, der durch mehrere Seitenflächen begrenzt ist, wobei wenigstens eine der Seitenflächen als optisch wirksame Seitenfläche (109.1) ausgebildet ist, die optisch wirksame Seitenfläche (109.1) durch eine Randkontur (109.3) begrenzt ist und die optisch wirksame Seitenfläche (109.1) eine optische Fläche (109.4) umfasst, die innerhalb der Randkontur (109.3) angeordnet ist. Die optisch wirksame Seitenfläche (109.4) weist innerhalb der Randkontur (109.3) wenigstens eine Markierungseinrichtung (110) auf, die wenigstens eine Markierung (110.1 bis 110.5) umfasst, wobei die wenigstens eine Markierung (110.1 bis 110.5) der Markierungseinrichtung dazu ausgebildet sind, in einem Messbetrieb, der insbesondere von dem Normalbetrieb verschieden ist, von einer optischen Messeinrichtung unter Verwendung von Messlicht einer Messwellenlänge, die insbesondere von der Nutzwellenlänge verschieden ist, erfasst zu werden.
摘要翻译：本发明涉及一种用作所涉及在正常操作中的生产中使用有用的光与使用的波长的光成像的光学部件的面元件（109），与素体，这是由几个侧面限定，中的至少一个侧表面被形成为光学活性的侧表面（109.1），由边缘轮廓（109.3）的光学活性的侧表面（109.1）是有限的，光学活性的侧表面（109.1）具有光学表面（109.4），其布置在所述边缘轮廓的内侧（109.3）是。光学活性侧表面（109.4）具有边缘轮廓（109.3）至少一个标记装置的内部（110），其包括至少一个标记（110.1至110.5），其中，所述标记装置的至少一个标记（110.1至110.5）适于在测量操作，这是尤其从正常操作不同，以通过使用从测定波长是特别是由所使用的波长不同的测量光的光学测量装置来检测。

6. 发明申请

WO2020115204A1 METHOD FOR REPLACING A MIRROR IN A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND POSITION- AND ORIENTATION DATA MEASURING DEVICE FOR CARRYING OUT THE METHOD 审中-公开
公开(公告)号：WO2020115204A1
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：PCT/EP2019/083811
申请日：2019-12-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PETRI, Christoph , RUNDE, Daniel , BAUMER, Florian , MÜLLER, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
摘要： When replacing a mirror in a projection exposure apparatus, a mirror for replacement is initially removed (41). Position- and orientation data of the removed mirror for replacement are measured (43) by a position- and orientation data measuring device. Furthermore, position- and orientation data of a replacement mirror, which should be inserted in place of the mirror for replacement, are measured (46) using the position- and orientation data measuring device. Bearing points of the replacement mirror are reworked (48) on the basis of ascertained differences between, firstly, the position- and orientation data of the mirror for replacement and, secondly, the position- and orientation data of the replacement mirror. The reworked replacement mirror is installed (54). This yields a mirror replacement method, in which an adjustment outlay of the replacement mirror in the projection exposure apparatus is reduced.

7. 发明申请

WO2017036784A1 ILLUMINATION SYSTEM FOR EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译： EUV投影曝光装置照明系统
公开(公告)号：WO2017036784A1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：PCT/EP2016/069394
申请日：2016-08-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： PETRI, Christoph , RUNDE, Daniel
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70033 , G03F7/7085
摘要： An illumination system (ILL) for an EUV projection exposure apparatus (WSC) is designed for receiving EUV radiation (LR) of an EUV radiation source (LS) and for shaping illumination radiation (ILR) from at least one portion of the received EUV radiation, wherein the illumination radiation is directed into an illumination field in an exit plane (ES) of the illumination system during exposure operation, wherein the EUV radiation source is arranged in a source module (SM) separate from the illumination system, said source module generating a secondary radiation source (SLS) at a source position (SP) in an entrance plane (IS) of the illumination system. For determining an alignment state of the secondary radiation source in relation to the illumination system, the illumination system comprises an alignment state determining system (ADS), wherein the alignment state determining system comprises an alignment detector (AD) configured to receive a portion of the EUV radiation emerging from the secondary radiation source and to generate therefrom an alignment detector signal (AS) representative of the alignment state. Furthermore, the illumination system comprises a mirror module (MM) comprising a used mirror element (UM) and an alignment mirror element (AM), wherein during exposure operation the used mirror element contributes to the shaping of the illumination radiation incident on the illumination field and the alignment mirror element reflects a portion of the EUV radiation of the secondary radiation source in the direction of the alignment detector. The mirror module is embodied as a structurally exchangeable mirror module, and an optical alignment auxiliary component (AAC) is assigned to the illumination system, wherein with the aid of the optical alignment auxiliary component an alignment auxiliary signal (AAS, AAS') is generatable which allows a checking of the alignment state of the secondary radiation source or of an alignment state of an alignment mirror element after an exchange of the mirror module.
摘要翻译：用于EUV投影曝光装置（WSC）的照明系统（ILL）被设计用于接收EUV辐射源（LS）的EUV辐射（LR）和用于从所接收的EUV辐射的至少一部分成形照射辐射（ILR），其中所述照明辐射在曝光操作期间被引导到所述照明系统的出射平面（ES）中的照明场中，其中所述EUV辐射源被布置在与所述照明系统分离的源模块（SM）中，所述源模块产生在照明系统的入射面（IS）中的源位置处的次级辐射源（SLS）。为了确定次级辐射源相对于照明系统的对准状态，照明系统包括对准状态确定系统（ADS），其中对准状态确定系统包括对准检测器（AD），其配置成接收一部分 EUV辐射从次级辐射源出射并由其产生表示对准状态的对准检测器信号（AS）。此外，照明系统包括包括使用的镜元件（UM）和对准反射镜元件（AM）的反射镜模块（MM），其中在曝光操作期间，所使用的反射镜元件有助于入射在照明场上的照射辐射的成形并且对准反射镜元件在对准检测器的方向上反射二次辐射源的EUV辐射的一部分。反射镜模块被实施为可结构可更换的镜模块，并且光学对准辅助部件（AAC）被分配给照明系统，其中借助于光学对准辅助部件，对准辅助信号（AAS，AAS'）是可生成的其允许在更换镜模块之后检查辅助辐射源的对准状态或对准反射镜元件的对准状态。

8. 发明申请

WO2014139881A1 OPTICAL WAVEGUIDE FOR GUIDING ILLUMINATION LIGHT 审中-公开
标题翻译：用于引导照明灯的光学波导
公开(公告)号：WO2014139881A1
公开(公告)日：2014-09-18
申请号：PCT/EP2014/054436
申请日：2014-03-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WALD, Christian , SCHAFF, Stefan , DEGÜNTHER, Markus , RUNDE, Daniel
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/09 , G02B6/26
CPC分类号： G02B6/0055 , G02B6/0053 , G02B6/0096 , G02B6/262 , G02B27/0994 , G03F7/70075 , G03F7/70616
摘要： An optical waveguide (1) serves for guiding illumination light (2). The waveguide (1) has a waveguide main body (3) for guiding the illumination light (2) between a main body entrance region (4) and a main body exit region (5). At least one coupling-out device (10) is provided in the main body exit region (5). By means of the coupling-out device (10), at least one coupling-out illumination light partial beam (11) is coupled out from the illumination light (2) emerging from the waveguide main body (3). This is done such that the coupling-out illumination light partial beam (11) can be separated from the rest of the illumination light beam (15) emerging from the waveguide main body (3). This results in a waveguide having improved possibilities for use when guiding illumination light.
摘要翻译：光波导（1）用于引导照明光（2）。波导管（1）具有用于引导主体入口区域（4）和主体出口区域（5）之间的照明光（2）的波导管主体（3）。至少一个耦合输出装置（10）设置在主体出口区域（5）中。通过耦合输出装置（10），至少一个耦合出的照明光部分光束（11）从从波导主体（3）出射的照明光（2）耦合出来。这样做使得耦合出的照明光部分光束（11）可以与从波导主体（3）出射的照明光束（15）的其余部分分离。这导致波导在引导照明光时具有改进的使用可能性。

9. 发明申请

WO2014019870A1 MASK INSPECTION METHOD AND MASK INSPECTION SYSTEM FOR EUV-MASKS 审中-公开
标题翻译：用于EUV-MASKS的屏蔽检测方法和屏蔽检测系统
公开(公告)号：WO2014019870A1
公开(公告)日：2014-02-06
申请号：PCT/EP2013/065239
申请日：2013-07-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RUNDE, Daniel , BAIER, Jürgen
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/00 , G03F1/84 , G03F1/24
CPC分类号： G03F1/84 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F7/7065
摘要： A mask inspection system for inspecting a reflective mask using electromagnetic radiation with a working wavelength λ from the extreme ultraviolet region (EUV), comprises a microscope system (MIC) for magnifying imaging of an object arranged in an object plane (OP) of the microscope system in an image plane which is optically conjugate to the object plane; a mask holding device which is configured to hold the mask in such a way that a mask surface (MS) to be examined is arranged in the region of the object plane (OP) of the microscope system; an illumination system (ILL) for receiving radiation from an EUV radiation source and for generating illumination radiation (ILR), which impinges on the mask surface (MS) in a measurement field (MF); a sensor device with a sensor surface (SS), which is arranged in the image plane (IP) of the microscope system or in a plane optically conjugate to the image plane, and an evaluation device (EV) connected to the sensor device. In order to carry out a scanning operation, the mask is moved parallel to the object plane and parallel to a scanning plane in such a way that regions of the mask surface adjoining one another in the scanning direction can successively be moved into the measurement field and the evaluation device is configured for integrating signals, captured in a spatially resolved fashion on the sensor surface, in-phase to the movement of the mask. The mask inspection system is characterized by a compensation device (KOMP) for actively compensating deformations in the mask surface, induced in the region of the measurement field (MF) by the illumination radiation (ILR), for reducing surface gradients in the region of the measurement field compared to a mask surface in absence of the compensation.
摘要翻译：用于使用来自极紫外区域（EUV）的工作波长λ的电磁辐射来检查反射掩模的掩模检查系统包括用于放大显微镜的物镜（MIC）的显微镜系统（MIC）系统在与物平面光学共轭的图像平面中; 掩模保持装置，其被配置为以使得被检查的掩模面（MS）布置在所述显微镜系统的物平面（OP）的区域中的方式保持所述掩模; 用于接收来自EUV辐射源的辐射并用于产生照射辐射（ILR）的照明系统（ILL），其照射在测量场（MF）中的掩模表面（MS）上; 具有传感器表面（SS）的传感器装置，其布置在显微镜系统的图像平面（IP）中或在与光学平面成共轭的平面中，以及连接到传感器装置的评估装置（EV）。为了执行扫描操作，掩模平行于物平面移动并平行于扫描平面，使得在扫描方向上彼此相邻的掩模表面的区域可以连续地移动到测量区域中，并且评估装置被配置为将以空间分辨的方式捕获的信号整合到传感器表面上，与信号的移动同步。掩模检查系统的特征在于补偿装置（KOMP），用于主动地补偿由照射辐射（ILR）在测量场（MF）的区域中诱导的掩模表面中的变形，以减小在该区域中的表面梯度测量场与掩模表面相比没有补偿。

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