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1. 发明申请

WO2012028303A1 OPTICAL SYSTEM FOR EUV PROJECTION MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于EUV投影微光学的光学系统
公开(公告)号：WO2012028303A1
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：PCT/EP2011/004373
申请日：2011-08-31
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , LÖRING, Ulrich , LAYH, Michael , RUOFF, Johannes
发明人： MANN, Hans-Jürgen , LÖRING, Ulrich , LAYH, Michael , RUOFF, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7025 , G03F7/70125 , G03F7/70216
摘要： Optical system for EUV projection microlithography comprising lighting optics (4) for illuminating a lighting field (5) in a reticle plane (6) comprising at least one facet mirror (18) with a plurality of facet elements (24) for producing different light channels, wherein by means of the light channels a specific lighting setting (25) of the lighting field (5) can be produced, and a projection optics (9) for projecting the lighting field (5) along a projection direction (27) into an image field (10) in an image plane (11) with at least one first obscuration (30; 42) wherein the first obscuration is arranged in a first position relative to the projection direction (27), and wherein the first obscuration (30; 42) and the lighting setting (25) are adjusted to one another such that an intensity of at least one predetermined order of diffraction of an image of at least of one light channel of the lighting setting (25) in the region of the first position has a maximum intensity I max and a limit intensity I lim max , and the area in which the intensity of the order of movement is greater than the limit intensity I lim , and the area of the first obscuration (30; 42) are non-overlapping.
摘要翻译：用于EUV投影微光刻的光学系统，包括用于照亮标线板平面（6）中的照明场（5）的照明光学器件（4），其包括具有多个小面元件（24）的至少一个小面反射镜（18），用于产生不同的光通道，其中通过所述光通道可以产生所述照明场（5）的特定照明设置（25），以及用于将所述照明场（5）沿着投影方向（27）投影到投影光学元件（9）中的投影光学元件（9）在具有至少一个第一遮蔽（30; 42）的图像平面（11）中的图像场（10），其中所述第一遮挡被布置在相对于所述投影方向（27）的第一位置，并且其中所述第一遮蔽（30; 42）和照明设置（25）彼此调节，使得在第一位置的区域中至少一个照明设置（25）的一个光通道的图像的至少一个预定的衍射次数的强度具有最大强度Imax和li 最大强度Ilim max，以及运动顺序强度大于极限强度Ilim的面积，以及第一遮蔽面积（30; 42）是不重叠的。

2. 发明申请

WO2011157601A2 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM WITH AN ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：具有这种类型的照明光学系统的微结构和投影曝光系统的照明光学系统
公开(公告)号：WO2011157601A2
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：PCT/EP2011/059427
申请日：2011-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
发明人： PATRA, Michael , DEGÜNTHER, Markus , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70091 , G03F7/70075 , G03F7/70083 , G03F7/70116
摘要： An illumination optical system (7) for microlithography is used to guide illumination light (8) from a primary light source (6) to an object field (3). A mirror array (10) of the illumination optical system (7) has a plurality of individual mirrors (11), which can be tilted independently of one another by actuators and are connected to associated tilting actuators (12).A controller (14) is used to activate the actuators (12).A raster module (19) of the illumination optical system (7) has a plurality of raster elements (28, 30) to produce a spatially distributed arrangement of secondary light sources. The raster module (19) is arranged in the region of a plane (20) of the illumination optical system (7), in which an emergent angle (AR x ), at which an illumination light part bundle (15) leaves one of the raster elements (30), is precisely allocated to a location region in the object field (3), on which the illumination light part bundle (15) impinges on the object field (3).The controller (14) is configured in such a way that a specification of a tilting angle for each individual mirror (11) is allocated to a predetermined desired course of illumination angle intensity distributions, with which object field points distributed over the object field (3) are impinged upon. The raster module (19), depending on the respective actual angle of incidence, produces another intensity course in the object field (3). The result is an illumination optical system, in which an illumination intensity over the object field can be influenced in a targeted manner with respect to the total illumination intensity and/or with respect to the intensity contributions from different illumination directions.
摘要翻译：用于微光刻的照明光学系统（7）用于将照明光（8）从初级光源（6）引导到物场（3）。照明光学系统（7）的反射镜阵列（10）具有多个独立的反射镜（11），可以通过致动器彼此独立地倾斜，并且连接到相关联的倾斜致动器（12）。用于激活致动器（12）。照明光学系统（7）的光栅模块（19）具有多个光栅元件（28,30），以产生二次光源的空间分布布置。光栅模块（19）布置在照明光学系统（7）的平面（20）的区域中，其中照射光束（15）离开光栅之一元件（30）被精确地分配给对象场（3）中的照明光束（15）照射在物场（3）上的位置区域。控制器（14）以这种方式配置将每个单独的反射镜（11）的倾斜角度的规格分配给预定的所需的照明角度强度分布过程，通过该预定路线分布在物场（3）上的物体场点被撞击。光栅模块（19）根据相应的实际入射角度在物场（3）中产生另一强度光程。结果是照明光学系统，其中相对于总照明强度和/或相对于来自不同照明方向的强度贡献，可以以目标方式影响物体场上的照明强度。

3. 发明申请

WO2011101331A1 ILLUMINATION SYSTEM AND PROJECTION OBJECTIVE OF A MASK INSPECTION APPARATUS 审中-公开
标题翻译：面罩检测装置的照明系统和投影目标
公开(公告)号：WO2011101331A1
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：PCT/EP2011/052184
申请日：2011-02-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , FELDMANN, Heiko , SOHMEN, Erik Matthias , STÜHLER, Joachim , GROMER, Oswald , MÜLLER, Ulrich , LAYH, Michael , SCHWAB, Markus
发明人： FELDMANN, Heiko , SOHMEN, Erik Matthias , STÜHLER, Joachim , GROMER, Oswald , MÜLLER, Ulrich , LAYH, Michael , SCHWAB, Markus
IPC分类号： G03F1/00 , G03F7/20 , G01N21/00
CPC分类号： G03F7/70091 , G01N21/956 , G01N2021/95676 , G03F1/84
摘要： The invention concerns an illumination system and a projection objective of a mask inspection apparatus. In accordance with an aspect of the invention an illumination system (610) in operation of the mask inspection apparatus illuminates a mask (630) with an illumination bundle of rays (615) having a centroid ray, wherein said centroid ray has a direction dependent on the location of the incidence of the illumination bundle of rays (615) on the mask (630).
摘要翻译：本发明涉及一种面罩检查装置的照明系统和投影物镜。根据本发明的一个方面，在掩模检查设备的操作中的照明系统（610）用具有质心射线的照射光束（615）照射掩模（630），其中所述质心射线具有取决于照射光束束（615）入射到掩模（630）上的位置。

4. 发明申请

WO2012076335A1 METHOD FOR MEASURING AN OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：测量光学系统的方法
公开(公告)号：WO2012076335A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/EP2011/070755
申请日：2011-11-23
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KORB, Thomas , HETTICH, Christian , LAYH, Michael , WEGMANN, Ulrich , SCHUSTER, Karl-Heinz , MANGER, Matthias
发明人： KORB, Thomas , HETTICH, Christian , LAYH, Michael , WEGMANN, Ulrich , SCHUSTER, Karl-Heinz , MANGER, Matthias
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01N21/94 , G01M11/02 , G01N21/9501 , G03F7/70483 , G03F7/708 , G03F7/7085
摘要： The invention relates to a method for measuring an optical system at the location of a measurement plane (409). The method comprises the following steps: - a first plurality of test beams (464a, 464b, 464c, 464d) of a radiation pass through the optical system and impinge on an identical first measurement region (461) in a measurement plane (409), wherein the test beams of the first plurality of test beams (464a, 464b, 464c, 464d) pass through the optical system on optical paths that differ in pairs and impinge on the first measurement region (461) at angles of incidence that differ in pairs with respect to the measurement plane (409), - a second plurality of test beams (465a, 465b, 465c, 465d) of a radiation pass through the optical system and impinge on an identical second measurement region (462) in the measurement plane (409), wherein the test beams of the second plurality of test beams (465a, 465b, 465c, 465d) pass through the optical system on optical paths that differ in pairs and impinge on the second measurement region (462) at angles of incidence that differ in pairs with respect to the measurement plane (409), wherein the second measurement region (462) differs from the first measurement region (461), - by means of a measuring device (469, 470), at least one associated measurement value of a first measurement variable of the test beam at the location of the first measurement region is detected for each test beam of the first plurality of test beams, - by means of a measuring device, at least one associated measurement value of a second measurement variable of the test beam at the location of the second measurement region is detected for each test beam of the second plurality of test beams, - an associated impingement region (467a, 467d, 468a, 468d) on at least one reference surface (466, 471) of the optical system is calculated or is determined with the aid of a database for each test beam of the first plurality of test beams (464a, 464b, 464c, 464d) and of the second plurality of test beams (465a, 465b, 465c, 465d), wherein the impingement region associated with a test beam is defined as the surface region of the at least one reference surface (466, 471) on which radiation of the respective test beam impinges, - a spatial diagnosis distribution of at least one property of the at least one reference surface is calculated from the measurement values and the impingement regions for each test beam.
摘要翻译：本发明涉及一种在测量平面位置测量光学系统的方法（409）。该方法包括以下步骤： - 辐射的第一多个测试光束（464a，464b，464c，464d）通过光学系统并撞击在测量平面（409）中的相同的第一测量区域（461）上，其中所述第一多个测试光束（464a，464b，464c，464d）的所述测试光束在成对不同的光路上穿过所述光学系统，并且以成对的不同的入射角入射在所述第一测量区域（461）上相对于测量平面（409）， - 辐射的第二多个测试光束（465a，465b，465c，465d）穿过光学系统并撞击测量平面中相同的第二测量区域（462） 409），其中所述第二多个测试光束（465a，465b，465c，465d）的测试光束在成对的光路上穿过所述光学系统，并以入射角撞击在所述第二测量区域（462）上，不同的成对相对于测量平面（409），其中所述第二测量区域（462）与所述第一测量区域（461）不同， - 借助于测量装置（469,470），至少一个相关测量值对于第一多个测试光束的每个测试光束检测在第一测量区域的位置处的测试光束，借助于测量装置，在该位置处测试光束的第二测量变量的至少一个相关测量值对于第二多个测试光束的每个测试光束检测第二测量区域， - 计算光学系统的至少一个参考表面（466,471）上的相关联的冲击区域（467a，467d，468a，468d）或者借助于第一多个测试光束（464a，464b，464c，464d）和第二多个测试光束（465a，465b，465c，465d）中的每个测试光束的数据库来确定，其中冲击与a相关联的区域测试光束被定义为至少一个参考表面（466,471）的表面区域，各个测试光束的辐射在其上撞击， - 至少一个参考表面的至少一个性质的空间诊断分布由每个测试光束的测量值和冲击区域。

5. 发明申请

WO2012038112A1 BELEUCHTUNGSOPTIK MIT EINEM BEWEGLICHEN FILTERELEMENT 审中-公开
标题翻译：与移动过滤元件照明光学
公开(公告)号：WO2012038112A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：PCT/EP2011/061631
申请日：2011-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
发明人： LAYH, Michael , FIOLKA, Damian , HARTJES, Joachim
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： F21V9/10 , F21V9/40 , G03F7/70083 , G03F7/70158 , G03F7/70191 , G03F7/70833 , G03F7/70891
摘要： Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik, zur Ausleuchtung eines Objektfeldes mit Strahlung einer ersten Wellenlänge. Dabei umfasst die Beleuchtungsoptik ein Filterelement zur Unterdrückung von Strahlung mit einer zweiten Wellenlänge. Das Filterelement mindestens eine obskurierend wirkende Komponente, so dass sich während des Betriebs der Beleuchtungsoptik aufgrund der obskurierend wirkenden Komponente mindestens einen Bereich (469, 471) reduzierter Intensität von Strahlung mit der ersten Wellenlänge auf einem in Lichtrichtung nach dem Filterelement angeordneten ersten optischen Element (407) der Beleuchtungsoptik ergeben. Hierbei kann das Filterelement eine Mehrzahl von Positionen einnehmen, die zu unterschiedlichen Bereichen (469, 471) reduzierter Intensität fuhren, wobei es zu jedem Punkt auf einer optischen Nutzfläche (441) des ersten optischen Elements (407) mindestens eine Position gibt, so dass der Punkt nicht in einem Bereich (469, 471) reduzierter Intensität liegt.
摘要翻译：本发明涉及的照明光学部件用于与第一波长的辐射照明物场。照明光学系统包括：用于在第二波长抑制辐射的过滤元件。该过滤器元件的至少一个obskurierend作用的组分，以使至少一个减少的辐射（的强度的照明光学部件的操作过程中，由于具有在过滤器元件的第一光学元件的布置在光方向的下游侧的第一波长的obskurierend作用的组分部分（469，471）407 ）照明光学产率。在这里，过滤器元件可以假设的减小的强度引线多个在不同的区域的位置的（469，471），其中，存在于在所述第一光学元件（407）的至少一个位置的光的区域（441）的任何位置，从而使的区域（469，471）的减小的强度是不指向。

6. 发明申请

WO2010149436A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT WITH A REFLECTIVE OPTICAL ELEMENT COMPRISING A MEASURING DEVICE 审中-公开
标题翻译：具有包含测量装置的反射光学元件的照明光学单元
公开(公告)号：WO2010149436A1
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：PCT/EP2010/056966
申请日：2010-05-20
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MELZER, Frank , STAICU, Adrian , BAIER, Jürgen , WARM, Berndt , KNÜFERMANN, Markus , LAYH, Michael
发明人： MELZER, Frank , STAICU, Adrian , BAIER, Jürgen , WARM, Berndt , KNÜFERMANN, Markus , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/7085 , B82Y10/00 , G21K1/067 , G21K2201/061 , G21K2201/067
摘要： The invention relates to a reflective optical element comprising a substrate (1), a reflective coating (3) and a measuring device (5). In this case, the measuring device (5) is contigured such that it is arranged at leapt partly between the coating (3) and the substrate (1). What is thereby achieved is that ail regions of the optical element on which relevant radiation impinges act in reflective fashion and, in addition, it is possible to measure the radiation at different locations. This has the further advantage that no additional loss occurs as a result of a portion of the radiation having to be screened out for measuring and monitoring purposes. Instead, that portion of the radiation which is not reflected anyway is used for these purposes.
摘要翻译：本发明涉及一种包括基板（1），反射涂层（3）和测量装置（5）的反射光学元件。在这种情况下，测量装置（5）被连接成使得其部分地布置在涂层（3）和基板（1）之间。由此实现的是，相关辐射所照射的光学元件的区域以反射方式起作用，此外，可以在不同位置测量辐射。这具有的另外的优点是，由于辐射的一部分必须被筛选以用于测量和监视目的，不会发生额外的损失。相反，反射无反射的那部分辐射被用于这些目的。

7. 发明申请

WO2013072377A2 ANORDNUNG EINES SPIEGELS 审中-公开
标题翻译： ORDER镜子
公开(公告)号：WO2013072377A2
公开(公告)日：2013-05-23
申请号：PCT/EP2012/072637
申请日：2012-11-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RUOFF, Johannes , FELDMANN, Heiko , LAYH, Michael
IPC分类号： G02B5/09
CPC分类号： G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B5/09 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/70316 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： Ein Spiegel (20) für EUV-Strahlung (14) umfasst eine Gesamtreflexionsfläche (24), welche einen ersten EUV-strahlungsreflektierenden Bereich und mindestens einen zweiten EUV-strahlungsreflektierenden Bereich aufweist, wobei die EUV-strahlungsreflektierenden Bereiche konstruktiv voneinander abgegrenzt sind, wobei der erste Bereich mindestens eine erste Teilreflexionsfläche (22) umfasst, welche entlang eines Umfangs (3) jeweils vom mindestens einen zweiten Bereich umgeben ist, und wobei der mindestens eine zweite EUV-strahlungsreflektierende Bereich mindestens eine zweite Teilreflexionsfläche (23) umfasst, welche wegzusammenhängend ausgebildet ist, und welche stetig ausgebildet ist.
摘要翻译：一种用于EUV辐射反射镜（20）（14）包括具有第一EUV辐射反射区域和至少一个第二EUV辐射反射区域全反射面（24），其中，所述极紫外辐射反射区域在结构上互不相同，其中所述第一分离区包括至少一个第一副反射表面（22）沿周界（3）的第二区域由至少包围在每种情况下，并且其中所述至少一个第二EUV辐射反射至少一个第二副反射面的区域（23）形成的通路连接，并且被连续地形成。

8. 发明申请

WO2009080279A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009080279A1
公开(公告)日：2009-07-02
申请号：PCT/EP2008/010801
申请日：2008-12-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , LAYH, Michael , DEGÜNTHER, Markus , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian , WEISS, Gundula
发明人： LAYH, Michael , DEGÜNTHER, Markus , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , MAUL, Manfred , FIOLKA, Damian , WEISS, Gundula
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/09 , G02B26/105 , G03F7/70116 , G03F7/7055 , G03F7/70583
摘要： A projection exposure apparatus for microlithography comprises illumination optics for illuminating object field points of an object field in an object plane. The illumination optics have, for each object field point of the object field, an exit pupil associated with the object point, wherein sin(γ) is a greatest marginal angle value of the exit pupil, and wherein the illumination optics comprise a multi-mirror array (38) comprising a plurality of mirrors (38s) for adjusting an intensity distribution in exit pupils associated to the object field points. The illumination optics further contain at least one optical system (33a; 33b,; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203) for temporally stabilising the illumination of the multi-mirror array (38) so that, for each object field point, the intensity distribution in the associated exit pupil deviates from a desired intensity distribution in the associated exit pupil in the case of a centroid angle value sin(β) by less than 2% expressed in terms of the greatest marginal angle value sin(γ) of the associated exit pupil and/or, in the case of ellipticity by less than 2%, and/or in the case of a pole balance by less than 2%.
摘要翻译：用于微光刻的投影曝光装置包括用于照射物平面中的物场的对象场点的照明光学装置。对于物场的每个物场点，照明光学器件具有与对象点相关联的出射光瞳，其中sin（θ）是出射光瞳的最大边缘角度值，并且其中照明光学器件包括多镜阵列（38）包括用于调整与对象场点相关联的出射光瞳中的强度分布的多个反射镜（38s）。照明光学器件进一步包含至少一个光学系统（33a; 33b;; 33c; 3d; 400; 822; 903; 1010; 1103; 1203），用于暂时稳定多镜阵列（38）的照明，在每个对象场点处，相关联的出射光瞳中的强度分布在相关出射光瞳中偏离期望的强度分布，在重心角度值sin（ß）小于2％的情况下，以最大边角值表示相关联的出射光瞳的sin（θ）和/或在椭圆率小于2％的情况下，和/或在极平衡小于2％的情况下。

9. 发明申请

WO2008095695A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ÜBERWACHUNG VON MEHRFACHSPIEGELANORDNUNGEN IN EINEM BELEUCHTUNGSSYSTEM EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译： METHOD AND APPARATUS FOR IN的微光刻投射曝光设备的照明系统的监控多个MIRROR ARRANGEMENTS
公开(公告)号：WO2008095695A2
公开(公告)日：2008-08-14
申请号：PCT/EP2008/000920
申请日：2008-02-06
申请人： CARL ZEISS SMT AG , XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
发明人： XALTER, Stefan , KWAN, Yim-Bun-Patrick , MAJOR, András, G. , MAUL, Manfred , EISENMENGER, Johannes , FIOLKA, Damian , HORN, Jan , DEGÜNTHER, Markus , BACH, Florian , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes , LAYH, Michael
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01M11/30 , G01N21/55 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/702 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085 , G05B13/048 , Y10S359/904
摘要： Ein Beleuchtungssystem (12) einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage (10) hat eine Pupillenfläche und eine im Wesentlichen flächige Anordnung vorzugsweise individuell ansteuerbarer Strahlablenkungselemente (28) zur variablen Ausleuchtung der Pupillenfläche. Durch jedes Strahlablenkungselement (28) lässt sich eine Ablenkung eines darauf auftreffenden Projektionslichtbündels (32) in Abhängigkeit von einem an dem Strahlablenkungselement (28) anliegenden Steuersignal erzielen. Eine Messbeleuchtungseinrichtung (54, 56, 58, 60; 88; 90; 98) richtet ein von den Projektionslichtbündeln (32) unabhängiges Messlichtbündel (36) auf ein Strahlablenkungselement (28). Eine Detektoreinrichtung erfasst das Messlichtbündel (38) nach Ablenkung an dem Strahlablenkungselement (28). Eine Auswertungseinheit bestimmt die Ablenkung des Projektionslichtbündels (32) aus von der Detektoreinrichtung bereitgestellten Messsignalen.
摘要翻译：微光刻投射曝光设备（10）的照明系统（12）具有用于光瞳表面的可变照明光瞳表面及实质呈平面排列优选单独可控光束偏转元件（28）。由每个光束偏转元件（28），可以实现施加的控制信号，在其上投影光束（32）入射的响应于所述梁部件（28）的偏转的偏转。的测量照明装置（54，56，58，60; 88; 90; 98）从投射光束建立（32）独立的测量光束（36）的光束偏转元件（28）。的检测装置检测的测量光束（38）由所述光束偏转元件（28）的偏转。评估单元确定由检测器提供的投影光束（32）的偏转装置的测量信号。

10. 发明申请

WO2007093436A1 OPTICAL INTEGRATOR FOR AN ILLUMINATION SYSTEM OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微电子投影曝光装置照明系统的光学积分器
公开(公告)号：WO2007093436A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/EP2007/001370
申请日：2007-02-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , WOLF, Oliver , SIEKMANN, Heiko , KALCHBRENNER, Eva , RENNON, Siegfried , WANGLER, Johannes , BRESAN, Andre , GERHARD, Michael , HAVERKAMP, Nils , SCHOLZ, Axel , SCHARNWEBER, Ralf , LAYH, Michael , BURKART, Stefan
发明人： WOLF, Oliver , SIEKMANN, Heiko , KALCHBRENNER, Eva , RENNON, Siegfried , WANGLER, Johannes , BRESAN, Andre , GERHARD, Michael , HAVERKAMP, Nils , SCHOLZ, Axel , SCHARNWEBER, Ralf , LAYH, Michael , BURKART, Stefan
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70958 , G03F7/70075 , Y10T83/0304 , Y10T83/04
摘要： An optical integrator for producing a plurality of secondary light sources in an illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus comprises a first array of elongated convexly curved first microlenses (112X) that are arranged side by side in a first plane and have first vertex lines (V). The optical integrator further comprises a second array of elongated convexly curved second microlenses (114X; 214X) that are arranged side by side in a second plane and have second vertex lines (V 1 to V 4 ). At least one second vertex line or a portion thereof does not coincide, in a projection along an optical axis of the optical integrator, with any one of the first vertex lines (V) or portions thereof.
摘要翻译：一种用于在微光刻投影曝光装置的照明系统中制造多个次级光源的光学积分器，包括在第一平面中并排设置并具有第一顶点线的第一阵列的细长的凸形弯曲的第一微透镜（112X） V）。光学积分器还包括细长的凸形弯曲的第二微透镜（114X; 214X）的第二阵列，所述第二阵列在第二平面中并排布置，并且具有第二顶点线（V SUB 1至V 4））。在沿着光学积分器的光轴的投影中，至少一个第二顶点线或其一部分与第一顶点线（V）中的任何一个或其部分不一致。

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